本發(fā)明涉及濕法刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕法刻蝕排氣系統(tǒng)及濕法刻蝕裝置。

背景技術(shù)：

目前，在薄膜晶體管液晶顯示器的生產(chǎn)過程中，常采用濕法刻蝕工藝在基板上形成特定圖案，具體地，將光刻膠覆蓋在基板上的部分金屬膜層上，然后使未被光刻膠覆蓋部分的金屬膜層與酸性溶液進(jìn)行反應(yīng)，以去除多余的金屬膜層。通常上述濕法刻蝕反應(yīng)是在濕法刻蝕設(shè)備的腔體內(nèi)進(jìn)行的。

如圖1所示，現(xiàn)有的濕法刻蝕設(shè)備包括腔體1，以及在腔體1的外側(cè)設(shè)置的抽氣裝置2，以利用抽氣裝置2將濕法刻蝕反應(yīng)產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體抽離腔體1，以保證腔體1內(nèi)的氣壓穩(wěn)定。

然而，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在使用濕法刻蝕工藝刻蝕基板的過程中，局部過刻現(xiàn)象的嚴(yán)重程度和影響范圍均與濕法刻蝕設(shè)備的腔體1的抽換氣大小成正相關(guān)關(guān)系，而將抽氣裝置2的抽換氣閥門21完全關(guān)閉，可以有效改善局部過刻現(xiàn)象，但若將抽換氣閥門21完全關(guān)閉，則會(huì)使腔體1內(nèi)的氣壓持續(xù)增大，導(dǎo)致?lián)]發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體在氣壓作用下泄漏到腔體1外部，從而對(duì)技術(shù)人員造成傷害，對(duì)環(huán)境造成污染。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種濕法刻蝕排氣系統(tǒng)及濕法刻蝕裝置，用于在保證濕法刻蝕工藝需求的情況下，保證濕法刻蝕設(shè)備的腔體內(nèi)壓力平衡，避免濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體泄漏到腔體外部。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種濕法刻蝕排氣系統(tǒng)，采用如下技術(shù)方案：

該濕法刻蝕排氣系統(tǒng)包括：抽換氣管道和罩在濕法刻蝕設(shè)備的腔體的腔門上的真空罩體；其中，所述抽換氣管道與所述腔體相連，所述真空罩體與所述抽換氣管道相連；

所述抽換氣管道通過第一閥控單元與所述腔體連通，所述抽換氣管道通過第二閥控單元與所述真空罩體連通。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的濕法刻蝕排氣系統(tǒng)具有以下有益效果：

在本發(fā)明提供的濕法刻蝕排氣系統(tǒng)中，不僅包括與濕法刻蝕設(shè)備的腔體相連的抽換氣管道，還包括罩在腔體的腔門上的真空罩體，該真空罩體與抽換氣管道相連，并且抽換氣管道不僅通過第一閥控單元與腔體連通、還通過第二閥控單元與真空罩體連通，從而使得在濕法刻蝕過程中，可完全關(guān)閉第一閥控單元，以改善濕法刻蝕過程中的局部過刻現(xiàn)象，同時(shí)可打開第二閥控單元，通過真空罩體收集從腔體的腔門泄漏出的濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體，并通過抽換氣管道及時(shí)將揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體排出，從而在保證濕法刻蝕設(shè)備的腔體內(nèi)壓力平衡的情況下，避免了濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體泄漏到腔體外部，避免了對(duì)技術(shù)人員造成傷害，保護(hù)了環(huán)境。

本發(fā)明還提供一種濕法刻蝕裝置包括上述濕法刻蝕排氣系統(tǒng)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的濕法刻蝕裝置的有益效果與上述濕法刻蝕排氣系統(tǒng)的有益相同，故此處不再進(jìn)行贅述。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的濕法刻蝕設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的濕法刻蝕設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說明：

1—腔體， 11—腔門， 2—抽氣裝置，

21—抽換氣閥門， 3—抽換氣管道， 4—真空罩體，

5—第一閥控單元， 51—第一過濾冷卻裝置， 52—第一控制閥門，

6—第二閥控單元， 61—第二過濾冷卻裝置， 62—第二控制閥門，

7—可伸縮軟管， 8—大氣壓鼓風(fēng)裝置， 9—升降架。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種濕法刻蝕排氣系統(tǒng)，具體地，如圖2所示，該法刻蝕排氣系統(tǒng)包括：抽換氣管道3和罩在濕法刻蝕設(shè)備的腔體1的腔門11上的真空罩體4；其中，抽換氣管道3與腔體1相連，真空罩體4與抽換氣管道3相連；抽換氣管道3通過第一閥控單元5與腔體1連通，抽換氣管道3通過第二閥控單元6與真空罩體4連通。

示例性地，在濕法刻蝕過程中，將需要刻蝕的產(chǎn)品放入腔體1中之后，可同時(shí)打開第一閥控單元5和第二閥控單元6，通過抽換氣管道3將濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體排出，也可將第一閥控單元5關(guān)閉，打開第二閥控單元6，通過真空罩體4收集濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體，并通過抽換氣管道3將上述氣體排出。

在本實(shí)施例提供的濕法刻蝕排氣系統(tǒng)中，不僅包括與濕法刻蝕設(shè)備的腔體1相連的抽換氣管道3，還包括罩在腔體1的腔門11上的真空罩體4，該真空罩體與抽換氣管道3相連，并且抽換氣管道3不僅通過第一閥控單元5與腔體1連通、還通過第二閥控單元6與真空罩體4連通，從而使得在濕法刻蝕過程中，可完全關(guān)閉第一閥控單元5，以改善濕法刻蝕過程中的局部過刻現(xiàn)象，同時(shí)可打開第二閥控單元6，通過真空罩體4收集從腔體1的腔門11泄漏出的濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體，并通過抽換氣管道3及時(shí)將揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體排出，從而在保證濕法刻蝕設(shè)備的腔體1內(nèi)壓力平衡的情況下，避免了濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體泄漏到腔體外部，避免了對(duì)技術(shù)人員造成傷害，保護(hù)了環(huán)境。

示例性地，如圖2所示，真空罩體4可通過可伸縮軟管7與抽換氣管道3相連，從而可通過可伸縮軟管7調(diào)整真空罩體4的位置，使真空罩體4完全罩住腔門11。

示例性地，如圖2所示，上述第一閥控單元5和第二閥控單元6沿氣體排出方向依次安裝在抽換氣管道3上，其中，第一閥控單元5包括沿氣體排出方向依次安裝在抽換氣管道3上的第一過濾冷卻裝置51和第一控制閥門52，第二閥控單元6包括沿氣體排出方向依次安裝在抽換氣管道3上的第二過濾冷卻裝置61和第二控制閥門62，以使得需要排出的氣體均可先通過過濾冷卻之后，再通過抽換氣管道3排出。

示例性地，如圖1所示，該濕法刻蝕排氣系統(tǒng)還包括設(shè)置在真空罩體4外，且與真空罩體4相連的大氣壓鼓風(fēng)裝置8，從而可以通過大氣壓鼓風(fēng)裝置8，平衡真空罩體4內(nèi)的氣壓大小，避免因真空罩體4處于持續(xù)抽真空狀態(tài)而形成局部負(fù)壓，進(jìn)而對(duì)腔體1與外部的氣壓平衡造成影響的情況發(fā)生。具體地，該大氣壓鼓風(fēng)裝置8可以是對(duì)真空罩體2充大氣的管路或鼓風(fēng)機(jī)等，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選擇，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限定。

示例性地，還可在真空罩體與腔體的接觸位置設(shè)置密封圈，以進(jìn)一步加強(qiáng)該濕法刻蝕排氣系統(tǒng)的密封性，從而有效避免濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的揮發(fā)性酸性氣體以及反應(yīng)副產(chǎn)物氣體泄漏到環(huán)境中。

此外，如圖1所示，上述濕法刻蝕排氣系統(tǒng)還可包括用于控制真空罩體4升降的升降架9，升降架9與真空罩體4相連，通過升降架9可便于升降真空罩體4，以使得在濕法刻蝕設(shè)備需要調(diào)試以及維護(hù)時(shí)，便于工作人員操作。

需要補(bǔ)充的是，由于濕法刻蝕過程中產(chǎn)生的氣體中含有揮發(fā)性酸性氣體，因此優(yōu)選使用耐酸性材質(zhì)的真空罩體，例如PVC等耐酸性材質(zhì)，從而可以使得該真空罩體不易被腐蝕，使用壽命更長。

類似地，上述連接真空罩體與抽換氣管道的可伸縮軟管也優(yōu)先選用耐酸性材質(zhì)的可伸縮軟管，從而使得該可伸縮軟管也不易被腐蝕，使用壽命更長。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種濕法刻蝕裝置，該濕法刻蝕裝置包括上述濕法刻蝕排氣系統(tǒng)，對(duì)于該濕法刻蝕裝置的其他結(jié)構(gòu)，本領(lǐng)域技術(shù)人員可參照現(xiàn)有的濕法刻蝕裝置，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不進(jìn)行限定。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。