本實(shí)用新型涉及液晶產(chǎn)品制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕法刻蝕裝置及陣列基板的制作裝置。

背景技術(shù)：

濕刻技術(shù)在液晶面板的TFT制備工藝中使用非常普遍，許多金屬層和金屬氧化物層的刻蝕都是采用濕刻方法，通過(guò)濕刻可以達(dá)到構(gòu)圖工藝的目的。

目前所用的濕刻設(shè)備為了提高生產(chǎn)效率，減少下一片玻璃基板進(jìn)入濕刻設(shè)備的等待時(shí)間，大都采用連續(xù)刻蝕的方法。即設(shè)置并列一排刻蝕槽，待刻蝕基板在刻蝕槽內(nèi)連續(xù)向前流動(dòng)進(jìn)而在出刻蝕槽時(shí)完成刻蝕過(guò)程。然而用這種設(shè)備進(jìn)行刻蝕時(shí)，由于刻蝕槽較多，玻璃基板在連續(xù)刻蝕槽內(nèi)為了避免破片風(fēng)險(xiǎn)有一個(gè)最快流動(dòng)速度，所以該設(shè)備就有一個(gè)最短刻蝕時(shí)間問(wèn)題。但是在產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中，由于各種產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的各種膜層的差異性，某些很薄的膜層即使采用設(shè)備最短刻蝕時(shí)間依然會(huì)導(dǎo)致很大的過(guò)刻，導(dǎo)致最終線寬不符合設(shè)計(jì)要求，進(jìn)而影響顯示效果。而且該刻蝕設(shè)備由于刻蝕槽較多，非常占用有限的產(chǎn)線面積，從生產(chǎn)的角度考慮非常不經(jīng)濟(jì)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種濕法刻蝕裝置及陣列基板的制作裝置，達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的同時(shí)避免最短刻蝕時(shí)間的限制。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：一種濕法刻蝕裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，包括：

刻蝕槽；

多個(gè)用于傳送基板的傳送結(jié)構(gòu)，多個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)間隔的、疊置于所述刻蝕槽的上方；

與所述傳送結(jié)構(gòu)數(shù)量對(duì)應(yīng)的多個(gè)藥液噴涂結(jié)構(gòu)，用于將刻蝕藥液噴涂于每個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)傳送的基板上。

進(jìn)一步的，多個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)排成一列設(shè)置于所述刻蝕槽的上方。

進(jìn)一步的，所述傳送結(jié)構(gòu)包括多個(gè)并排設(shè)置的傳送輥輪。

進(jìn)一步的，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置一個(gè)控制其開(kāi)閉的開(kāi)關(guān)。

進(jìn)一步的，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)通過(guò)一藥液導(dǎo)管與所述刻蝕槽連通。

進(jìn)一步的，多個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)通過(guò)同一藥液導(dǎo)管與所述刻蝕槽連通。

進(jìn)一步的，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)包括多個(gè)噴涂刻蝕藥液的藥液噴頭。

進(jìn)一步的，每一所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)中的多個(gè)所述藥液噴頭在同一平面上，且每一所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)中的多個(gè)所述藥液噴頭所在的平面與所述傳送結(jié)構(gòu)傳送的基板平行。

本實(shí)用新型還提供一種陣列基板的制作裝置，包括上述所述的濕法刻蝕裝置。

本實(shí)用新型的有益效果是：可以連續(xù)的、分別通過(guò)每個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)傳送待刻蝕的基板進(jìn)行刻蝕達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的，且可以靈活調(diào)節(jié)刻蝕時(shí)間。

附圖說(shuō)明

圖1表示本實(shí)用新型實(shí)施例中濕法刻蝕裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的特征和原理進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，所舉實(shí)施例僅用于解釋本實(shí)用新型，并非以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

如圖1所示，本實(shí)施例提供一種濕法刻蝕裝置，用于對(duì)基板進(jìn)行刻蝕，包括：

刻蝕槽1；

多個(gè)用于傳送基板的傳送結(jié)構(gòu)3，多個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3間隔的、疊置于所述刻蝕槽1的上方；

與所述傳送結(jié)構(gòu)3數(shù)量對(duì)應(yīng)的多個(gè)藥液噴涂結(jié)構(gòu)，用于將刻蝕藥液噴涂于每個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3傳送的基板上。

本實(shí)施例采用多個(gè)傳送結(jié)構(gòu)3間隔的、疊置于刻蝕槽1的上方，且多個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3相互獨(dú)立設(shè)置，可以連續(xù)、在每個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3上傳送待刻蝕的基板進(jìn)行刻蝕達(dá)到連續(xù)生產(chǎn)的目的。

本實(shí)施例中，只使用一個(gè)刻蝕槽1，所以刻蝕時(shí)間可調(diào)范圍很大，不存在最短刻蝕時(shí)間的限制問(wèn)題。

本實(shí)施例中，只使用一個(gè)刻蝕槽1完成刻蝕工藝，占地面積很小，進(jìn)而可以在產(chǎn)線內(nèi)多放置相關(guān)設(shè)備，達(dá)到提高生產(chǎn)效率的目的。

為了更大限度的減小濕法刻蝕裝置的占地面積，本實(shí)施例中優(yōu)選的，多個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3排成一列設(shè)置于所述刻蝕槽1的上方。

所述傳送結(jié)構(gòu)3的具體結(jié)構(gòu)形式可以有多種，只要實(shí)現(xiàn)待刻蝕基板的傳送即可，本實(shí)施例中，所述傳送結(jié)構(gòu)3包括多個(gè)并排設(shè)置的傳送輥輪。

本實(shí)施例中，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)設(shè)置一個(gè)控制其開(kāi)閉的開(kāi)關(guān)。每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)可以單獨(dú)控制，則每個(gè)所述傳送結(jié)構(gòu)3上的待刻蝕基板的刻蝕時(shí)間可以單獨(dú)靈活調(diào)節(jié)而互不影響，從而避免最短刻蝕時(shí)間的限制問(wèn)題。

優(yōu)選的，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)通過(guò)一藥液導(dǎo)管2與所述刻蝕槽1連通。每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)將所述刻蝕槽1中的刻蝕液噴涂于待刻蝕的基板上，而基板刻蝕結(jié)束后、刻蝕液又會(huì)流入所述刻蝕槽1中，實(shí)現(xiàn)刻蝕液的循環(huán)利用。

優(yōu)選的，多個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)通過(guò)同一藥液導(dǎo)管2與所述刻蝕槽1連通。

每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)將所述刻蝕槽1中的刻蝕液噴涂于待刻蝕的基板上，而基板刻蝕結(jié)束后、刻蝕液又會(huì)流入所述刻蝕槽1中，實(shí)現(xiàn)刻蝕液的循環(huán)利用。多個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)通過(guò)同一藥液導(dǎo)管2與所述刻蝕槽1連通，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化，降低成本。

本實(shí)施例中，每個(gè)所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)包括多個(gè)噴涂刻蝕藥液的藥液噴頭4。多個(gè)藥液噴頭4均勻的設(shè)置于相應(yīng)的所述傳送結(jié)構(gòu)3的上方，以對(duì)待刻蝕基板均勻的進(jìn)行刻蝕。

為了進(jìn)一步的保證刻蝕液均勻的噴涂于相應(yīng)的待刻蝕基板上，本實(shí)施例中，每一所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)中的多個(gè)所述藥液噴頭4在同一平面上，且每一所述藥液噴涂結(jié)構(gòu)中的多個(gè)所述藥液噴頭4所在的平面與所述傳送結(jié)構(gòu)3傳送的基板平行。

為了提高藥液的置換效率，待刻蝕基板與刻蝕槽內(nèi)的刻蝕藥液的液面之間具有預(yù)設(shè)角度，即傳送待刻蝕基板的傳送結(jié)構(gòu)所在的平面與刻蝕藥液的液面之間的角度為所述預(yù)設(shè)角度，該預(yù)設(shè)角度的設(shè)置可以根據(jù)實(shí)際需要設(shè)定，本實(shí)施例中優(yōu)選的，所述預(yù)設(shè)角度為5度。

本實(shí)用新型還提供一種陣列基板的制作裝置，包括上述所述的濕法刻蝕裝置。

以上所述為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例，需要說(shuō)明的是，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型所述原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型保護(hù)范圍。