技術(shù)編號(hào)：12005225
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及液晶產(chǎn)品制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕法刻蝕裝置及陣列基板的制作裝置。背景技術(shù)濕刻技術(shù)在液晶面板的TFT制備工藝中使用非常普遍，許多金屬層和金屬氧化物層的刻蝕都是采用濕刻方法，通過濕刻可以達(dá)到構(gòu)圖工藝的目的。目前所用的濕刻設(shè)備為了提高生產(chǎn)效率，減少下一片玻璃基板進(jìn)入濕刻設(shè)備的等待時(shí)間，大都采用連續(xù)刻蝕的方法。即設(shè)置并列一排刻蝕槽，待刻蝕基板在刻蝕槽內(nèi)連續(xù)向前流動(dòng)進(jìn)而在出刻蝕槽時(shí)完成刻蝕過程。然而用這種設(shè)備進(jìn)行刻蝕時(shí)，由于刻蝕槽較多，玻璃基板在連續(xù)刻蝕槽內(nèi)為了避免破片風(fēng)險(xiǎn)有一個(gè)最快流動(dòng)...
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