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濕法刻蝕裝置及陣列基板的制作裝置的制作方法

文檔序號:12005225閱讀:來源:國知局
技術總結(jié)
本實用新型涉及一種濕法刻蝕裝置,用于對基板進行刻蝕,包括:刻蝕槽;多個用于傳送基板的傳送結(jié)構,多個所述傳送結(jié)構間隔的、疊置于所述刻蝕槽的上方;與所述傳送結(jié)構數(shù)量對應的多個藥液噴涂結(jié)構,用于將刻蝕藥液噴涂于每個所述傳送結(jié)構傳送的基板上。本實用新型還涉及一種陣列基板制作裝置。可以連續(xù)的、分別通過每個所述傳送結(jié)構傳送待刻蝕的基板進行刻蝕達到連續(xù)生產(chǎn)的目的,且可以靈活調(diào)節(jié)刻蝕時間。

技術研發(fā)人員:劉寧;周斌;宋博韜;李偉
受保護的技術使用者:合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼:201720004457
技術研發(fā)日:2017.01.04
技術公布日:2017.07.11

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