本發(fā)明涉及有機發(fā)光顯示領域，特別是涉及一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置。

背景技術：

隨著多媒體設備的與日俱增，人們越來越多地談到觸摸屏，因為觸摸屏作為一種最新的輸入設備，具有堅固耐用、反應速度快、節(jié)省空間、易于交流等許多優(yōu)點。利用這種技術，用戶只要用手指輕輕地碰顯示屏就能實現(xiàn)對主機操作，從而使人機交互更為直截了當，這種技術大大方便了那些不懂電腦操作的用戶。

而隨著有機發(fā)光顯示裝置也漸漸進入人們的生活，近來，觸控技術也越來越多的應用到有機發(fā)光二極管顯示裝置中。目前應用于有機發(fā)光二極管顯示裝置的觸控方案的On-Cell技術的也出現(xiàn)一些產(chǎn)品中。一般的On-Cell的結(jié)構(gòu)是將觸控傳感器直接形成于顯示面板內(nèi)，與顯示面板集成，位于陰極之上，省去了基板?；贠n-Cell的結(jié)構(gòu)，可以減少堆疊的層數(shù)，滿足輕薄化和透光率的雙重提升，On-Cell的結(jié)構(gòu)還非常有利于窄邊框的設計，并且可以做成曲面，從中高端至低端的產(chǎn)品應用都能看到其身影。

現(xiàn)有技術中On-Cell的結(jié)構(gòu)一般是在OLED面板上使用薄膜封裝結(jié)構(gòu)，觸控電極設置在薄膜封裝層上，在有效顯示區(qū)域外圍對應對應設置觸控走線處，觸控走線與觸控電極同層布線。在實際使用的時候，觸控走線容易受到外界的干擾產(chǎn)生感應信號。當手指觸摸到走線區(qū)域時，會使觸控走線產(chǎn)生感應信號，此外當手指觸摸屏幕顯示區(qū)域的邊緣也會使靠近顯示區(qū)的觸控走線產(chǎn)生感應，這樣就會出現(xiàn)觸控走線對應的觸控電極信號量變大，使觸控精度降低，出現(xiàn)誤報點的現(xiàn)象，以至于觸摸屏無法正常的工作。

技術實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置。

本發(fā)明提供了一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置，包括：基底，包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域；

顯示器件，設置在所述基底上的所述顯示區(qū)域中，包括第一金屬層和第二金屬層；

薄膜封裝層，覆蓋所述顯示區(qū)域的顯示器件；

觸控器件，包括觸控電極和與所述觸控電極連接的觸控走線；所述觸控電極設置在所述顯示區(qū)域的所述薄膜封裝層上；至少部分所述觸控走線設置在所述非顯示區(qū)域，與所述第一金屬層或所述第二金屬層同層設置；

屏蔽電極，與所述觸控走線絕緣，沿垂直所述基板的方向，至少部分所述屏蔽電極在所述基板上的投影與所述觸控走線在所述基板上的投影分重疊；

所述屏蔽電極電連接到一固定電位。

本發(fā)明在不增加Mask和現(xiàn)有工藝的基礎上，實現(xiàn)了在封裝層上設置觸控走線的屏蔽電極，不需要增加新的膜層，亦可改善觸控走線處的觸控信號對觸控性能的影響，提高觸摸精度。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術中集成觸控的顯示裝置的平面示意圖；

圖2是本發(fā)明提供的一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖；

圖3是圖2中沿A-A方向的顯示裝置的截面圖；

圖4是本發(fā)明提供的另一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖；

圖5是圖4中沿B-B方向的顯示裝置的截面圖；

圖6是本發(fā)明提供的又一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的截面圖；

圖7是本發(fā)明提供的再一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖；

圖8是圖8中沿C-C方向的顯示裝置的截面圖；

圖9是圖8中沿D-D方向的顯示裝置的截面圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更為明顯易懂，下面將結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明做進一步說明。

需要說明的是，在以下描述中闡述了具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以多種不同于在此描述的其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣。因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施方式的限制。

如圖1所示，圖1為現(xiàn)有技術中集成觸控的顯示裝置的平面示意圖，圖中所展示的平面為該顯示裝置的顯示面，虛線S1內(nèi)區(qū)域為顯示區(qū)域(即AA區(qū))，顯示區(qū)域的外圍包括電VSR、補償單元等(圖中未畫出)。其中，顯示裝置包括形成顯示面板上的觸控部分，觸控部分包括觸控電極10和觸控走線20。觸控電極包括多條與第一方向(X方向)相互平行的第一觸控電極11和多條與第二方向(Y方向)相互平行的第二觸控電極12，第一觸控電極與第二觸控電極相互垂直交疊。觸控走線設置在顯示區(qū)域外圍的非顯示區(qū)域中，外部觸控電路(未畫出)通過觸控走線20連接到觸控電極。因此，當用戶的手或筆與顯示屏接觸時，來自與接觸位置對應的觸控電極的信號會通過觸控走線傳遞到觸控電路，觸控電路可以根據(jù)從第一觸控電極和第二觸控電極獲得觸摸點在的X方向和Y方向上的位置信息，從而確定觸摸位置。

但實際上當用戶使用顯示裝置時，手指并不會只接觸到顯示裝置的顯示區(qū)域，往往在使用觸控功能時，手指或筆會接觸顯示區(qū)域的邊緣區(qū)域或靠近顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域，而多條觸控走線平行排布在顯示區(qū)域邊緣，手指極易觸摸到走線區(qū)域，使多條觸控走線產(chǎn)生感應，產(chǎn)生感應的觸控走線對應的觸控電極信號量變大，出現(xiàn)誤報點，使邊緣區(qū)域觸控精度降低；而將觸控走線布置在離顯示區(qū)域較遠的位置，則不利于顯示裝置的窄邊框設計。

有鑒于此，本發(fā)明提出一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置。

如圖2所示，圖2為本發(fā)明提供的一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖，圖中所展示的平面為該顯示裝置的顯示面，虛線S1內(nèi)區(qū)域為顯示區(qū)域(即AA區(qū))，虛線S1外為包圍顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域(即BM區(qū))。觸控器件包括觸控電極210和觸控走線220。觸控電極包括多條與第一方向(X方向)相互平行的第一觸控電極211和多條與第二方向(Y方向)相互平行的第二觸控電極212，第一觸控電極211與第二觸控電極212相互垂直交疊。觸控電極210為透明導電材料，因此在圖2中觸控電極交疊部分透明可視。

本實施例中觸控電極為條狀電極，當然，它們也可采用其他的形狀，例如為三角形、菱形、六邊形等，只要二者能分別組成相互交叉的兩個電極，且不同種電極相鄰處能形成電容即可。

如圖3所示，圖3為圖2中沿A-A方向的顯示裝置的截面圖。本實施例的顯示裝置的基底100包括顯示區(qū)域AA和包圍所述顯示區(qū)域AA的非顯示區(qū)域BM。顯示裝置中的顯示器件設置在基底100上的顯示區(qū)域AA中。顯示器件包括：形成于基底上的半導體有源層210；形成于半導體有源層210和基底100上柵極絕緣層220；形成在半導體有源層210上的柵極絕緣層220；形成在極絕緣層220上的第一金屬層230，第一金屬層230包括與半導體有源層210疊置的第一金屬圖案231；形成在第一金屬層230和柵極絕緣層220上的層間絕緣層240；形成在層間絕緣層240上第二金屬層250，第二金屬層250包括彼此間隔的第二金屬圖案251和第三金屬圖案252；形成在層間絕緣層240和第二金屬層250上的鈍化層260；形成在鈍化層260上的平坦化層270；形成在平坦化層270上的像素定義層280以及設置在像素定義層280上的有機發(fā)光二極管290。

其中，第二金屬圖案251和第三金屬圖案252分別通過層間絕緣層240和柵極絕緣層220中的過孔與半導體有源層210實現(xiàn)電連接。半導體有源層210、第一金屬圖案231、第二金屬圖案251、第三金屬圖案252形成薄膜晶體管。第一金屬圖案230即為薄膜晶體管的柵極，第二金屬圖案251和第三金屬圖案252即為薄膜晶體管的源極和漏極。

其中，有機發(fā)光二極管290包括：陽極291和陰極293，位于陽極291和陰極293之間的有機層292。有機層292包括：位于所述陽極和所述陰極之間的有機發(fā)光層；位于有機發(fā)光層與陰極之間的電子注入層；位于有機發(fā)光層與陽極之間的空穴注入層；位于電子注入層與有機發(fā)光層之間的電子傳輸層；位于空穴注入層與有機發(fā)光層之間的空穴傳輸層(有機層292的內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖中并未畫出)。像素定義層280具有暴露陽極291的顯示開口區(qū)281。有機層292通過像素定義層280的顯示開口區(qū)281與陽極291接觸。

如圖2、圖3所示，鈍化層260、平坦化層270以及像素定義層280分別包括延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍鈍化層、外圍平坦化層以及外圍像素定義層。本實施例中的顯示裝置還包括設置在非顯示區(qū)域BM的外圍鈍化層上的擋墻300。擋墻300包括第一圍壩310和第二圍壩320，第一圍壩310圍繞顯示區(qū)域AA設置，第二圍壩320與第一圍壩310分隔并圍繞第一圍壩310設置。圖案化后的外圍平坦化層包括形成在外圍鈍化層上的第一圍壩底層311和第二圍壩底層321。外圍像素定義層包括圖案化后對應形成在外圍平坦化層上的第一圍壩中層312和第二圍壩中層322。為了增強對有機層的阻擋效果和，對切割裂紋的截止效果，分別為對應設置在第一圍壩中層312和第二圍壩中層322上設置第一圍壩上層313和第二圍壩上層323，第一圍壩上層313和第二圍壩上層323為圖案化的PS(Photo Spacer)，PS可以為密胺樹脂、聚苯乙烯樹脂等材料構(gòu)成。當然，本發(fā)明的擋墻不僅限于設置兩個圍壩，可根據(jù)需要設計包含任何數(shù)量圍壩的擋墻。還需要說明的是，本發(fā)明中的圍壩不僅限于設置成由圖案化的外圍鈍化層、外圍平坦化層以及PS形成的三層層疊結(jié)構(gòu)，可根據(jù)需要改變組成圍壩的膜層的層數(shù)，例如，可僅由圖案化的PS形成圍壩。

薄膜封裝層500覆蓋顯示區(qū)域AA中的顯示器件。薄膜封裝層500包括第一無機層510、第二無機層530以及夾在兩個無機層間的薄膜封裝有機層520。薄膜封裝層500覆蓋第一圍壩310，并位于第二圍壩320所圍繞的區(qū)域內(nèi)。薄膜封裝有機層520位于第一圍壩310所圍繞的區(qū)域內(nèi)，防止有機材料的溢出。

本實施例采用的是無機層夾有機層的三層薄膜封裝結(jié)構(gòu)，當然，在其他實施例中薄膜封裝層的結(jié)構(gòu)并不局限于此，薄膜封裝層可根據(jù)需要設計成任意層數(shù)的層疊結(jié)構(gòu)，但至少包括一個有機層和至少一個無機層交替沉積，切最下層與最上層為無機材料構(gòu)成。

觸控走線220包括第一部分走線221以及連接在第一部分走線221和第一觸控電極211之間的第二部分走線222。第一部分走線221沿著與Y方向平行的方向布線，與第二金屬層250同層設置，形成在層間絕緣層240的延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍層間絕緣層上。也就是說，在第二金屬層對應的Mask上同時設計出第一部分走線的圖案，圖案化后的第二金屬層包括觸控走線的第一部分走線。這樣，在將觸控電極與觸控走線分層設置的同時，不會增加顯示面板的膜層數(shù)目，觸控走線部分與第二金屬層共用一張Mask，這樣不會增加Mask數(shù)量，避免工藝復雜。

第二部分走線222通過鈍化層260上的觸控走線過孔261與第一觸控電極211連接。觸控走線過孔261設置在第二圍壩320的外圍區(qū)域，即沿垂直基板的方向，觸控走線過孔261在基底100上的投影位于第二圍壩320在基底100上的投影遠離所述顯示區(qū)域AA的一側(cè)。將觸控走線過孔設置在最外側(cè)圍壩的外圍一側(cè)，避免在薄膜封裝層上開孔，防止開孔破壞薄膜封裝層的阻止水氧的性能

如圖2、圖3所示，屏蔽電極400設置在非顯示區(qū)域BM中并絕緣覆蓋在第一觸控電極211的第二部分走線222上，也就是說，沿垂直基板的方向，第二部分走線222在基底上的投影與屏蔽電極400在基底上的投影重疊。

屏蔽電極400與第一觸控電極211同層設置，并且二者絕緣設置。也就是說屏蔽電極與第一觸控電極可由同一導電膜層形成，屏蔽電極與第一觸控電極共用一張Mask，經(jīng)過圖案化處理后，形成相互斷開的屏蔽電極圖案與第一觸控電極圖案。這樣，在將在增加了一層屏蔽電極的同時，既不會增加系統(tǒng)的膜層數(shù)目，也不會增加Mask的數(shù)量，避免增加工藝難度。

優(yōu)選的，本實施例中的第一觸控電極為觸控感測電極，第二觸控電極為觸控驅(qū)動電極。觸控驅(qū)動電極連接觸控驅(qū)動信號，一般為給定的電壓輸入信號，而觸控感測電極連接輸出信號，相對來說容易受到外界電壓的影響，因此優(yōu)選在觸控感測電極的觸控走線上設置屏蔽電極。但本發(fā)明并不局限于此，本發(fā)明亦可在根據(jù)需要在觸控感測電極與觸控驅(qū)動電極上均設置屏蔽電極。

優(yōu)選的，本實施例為通過絕緣層將第一觸控電極與第二觸控電極分層設置的雙層觸控電極結(jié)構(gòu)，屏蔽電極與第一觸控電極同層設置。不同的，屏蔽電極可根據(jù)需要與第二觸控電極同層設置。不同的，第一觸控電極可與第二觸控電極同層設置，也就是說觸控部件為單層觸控電極結(jié)構(gòu)，其中第一觸控電極與第二觸控電極交疊處通過跨橋絕緣交疊，屏蔽電極與第一觸控電極與第二觸控電極同層。屏蔽電極與觸控電極同層并可與觸控電極統(tǒng)一制成，共用同一張Mask，即不增加顯示裝置的膜層數(shù)量也不增加工藝中Mask的數(shù)量。

屏蔽電極400電連接于一固定電位。屏蔽電極獲得一固定電壓，任何持有電荷的物體包括人體皮膚接觸或靠近屏蔽電極時都不會造成屏蔽電極的電壓改變，可以使屏蔽電極下的觸控走線處在無外界干擾的條件下，不會因手指的觸碰或其他干擾源而產(chǎn)生變化，因此不會因手指誤觸顯示區(qū)域邊緣而使觸控走線對應的觸控電極產(chǎn)生響應，避免誤報點出現(xiàn)，提高觸摸精度。

優(yōu)選的，觸控電極400的圖案為多條與Y方向平行的條狀電極，也就是說在整面的屏蔽電極上刻蝕出多條與Y方向平行的縫隙，沿垂直基板的方向，細縫在基底上的投影與觸控走線在基底上的投影不重疊。本發(fā)明的顯示裝置可以運用于柔性顯示裝置，在柔性顯示裝置過度彎折時屏蔽電極產(chǎn)生裂紋，而裂紋在后續(xù)的彎折過程中容易延伸，最終使整塊屏蔽電極斷裂，造成屏蔽電極失效，而相鄰的條狀電極屏蔽電極間的縫隙可以有效阻擋裂紋的蔓延，防止彎折造成的器件失效，提高顯示裝置的彎折可靠性。

優(yōu)選的，本實施例中第一觸控電極的觸控走線分為左右布線兩部分，以減小顯示裝置邊框。位于顯示裝置上半部分的第一觸控電極的觸控走線統(tǒng)一布線在顯示裝置的左側(cè)，位于顯示裝置下半部分的第一觸控電極的觸控走線統(tǒng)一布線在顯示裝置的右側(cè)，由此，可以減少屏蔽電極的覆蓋面積，簡化工藝，節(jié)省用料，降低成本。當然，本發(fā)明并不局限于此，第一觸控電極的走線可設置為隔行的第一觸控電極從顯示區(qū)域一側(cè)統(tǒng)一布線。

如圖4所示，圖4為本發(fā)明提供的另一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖，圖中所展示的平面為該顯示裝置的顯示面。虛線S1內(nèi)區(qū)域為顯示區(qū)域(即AA區(qū))，虛線S1外為包圍顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域(即BM區(qū))，觸控器件包括觸控電極210和觸控走線220。觸控電極210包括多條與第一方向(X方向)相互平行的第一觸控電極211和多條與第二方向(Y方向)相互平行的第二觸控電極212，第一觸控電極211與第二觸控電極212相互垂直交疊。

如圖5所示，圖5為圖4中沿B-B方向的顯示裝置的截面圖。其中本實施例與上一實施例相同之處不在贅述。

觸控走線220包括第一部分走線221以及連接在第一部分走線221和第一觸控電極211之間的第二部分走線222。第一部分走線221與第二金屬層250同層設置，形成在層間絕緣層240延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍層間絕緣層上。也就是說，在第二金屬層對應的Mask上同時設計出第一部分走線的圖案，圖案化后的第二金屬層包括觸控走線的第一部分走線。這樣，在將觸控電極與觸控走線分層設置的同時，不會增加顯示面板的膜層數(shù)目，觸控走線部分與第二金屬層共用一張Mask，這樣不會增加Mask數(shù)量，避免工藝復雜。

其中，第一部分走線221包括多條平行Y方向的走線部分，該部分位于第一圍壩310與第二圍壩320之間所對應的鈍化層260上，也就是說沿垂直所述基板的方向，第一部分走線221在基底100上的投影位于第一圍壩310與第二圍壩320在基底100上的投影之間的區(qū)域。第二部分走線222一端通過鈍化層260上的觸控走線過孔261與第一部分走線221連接，另一端與第一觸控電極211連接；觸控走線過孔261設置在第二圍壩的外圍區(qū)域，即沿垂直基板的方向，觸控走線過孔261在基底100上的投影位于第二圍壩320在基底100上的投影遠離所述顯示區(qū)域AA的一側(cè)。將觸控走線過孔設置在最外側(cè)圍壩的外圍一側(cè)，避免在薄膜封裝層上開孔，防止破壞薄膜封裝層的阻止水氧的性能。通過將觸控走線換層，使換層后的觸控走線的布線空間更充足，觸控走線向顯示區(qū)域靠近，實現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設計。

如圖4、圖5所示，屏蔽電極400設置在非顯示區(qū)域BM中并絕緣覆蓋在第一觸控電極211的第二部分走線222上，也就是說，沿垂直基板的方向，第二部分走線222在基底上的投影與屏蔽電極400在基底上的投影重疊。屏蔽電極400與第一觸控電極211同層設置，并且二者絕緣設置。也就是說屏蔽電極與第一觸控電極可由同一導電膜層形成，屏蔽電極與第一觸控電極共用一張Mask，經(jīng)過圖案化處理后，形成相互斷開的屏蔽電極圖案與第一觸控電極圖案。這樣，在將在增加了一層屏蔽電極的同時，既不會增加系統(tǒng)的膜層數(shù)目，也不會增加Mask的數(shù)量，避免增加工藝難度。

屏蔽電極400電連接于一固定電位。屏蔽電極獲得一固定電壓，任何持有電荷的物體包括人體皮膚接觸或靠近屏蔽電極時都不會造成屏蔽電極的電壓改變，可以使屏蔽電極下的觸控走線處在無外界干擾的條件下，不會因手指的觸碰或其他干擾源而產(chǎn)生變化，因此不會因手指誤觸顯示區(qū)域邊緣而使觸控走線對應的觸控電極產(chǎn)生響應，避免誤報點出現(xiàn)，提高觸摸精度。

如圖6所示，圖6為本發(fā)明提供的又一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的截面圖，本實施例的顯示裝置的平面圖如圖4所示，圖6為沿圖4中B-B方向的截面，其中本實施例與上一實施例相同之處不再贅述。

不同的，柵極絕緣層220包括延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍柵極絕緣層。觸控走線220包括第一部分走線223以及連接在第一部分走線223和第一觸控電極211之間的第二部分走線224。第一部分走線223與第一金屬層230同層設置，與薄膜晶體管的柵極同時形成，也就是說，在第一金屬層對應的Mask上同時設計出第一部分走線的圖案，圖案化后的第一金屬層包括觸控走線的第一部分走線。這樣，在將觸控電極與觸控走線分層設置的同時，不會增加顯示面板的膜層數(shù)目，觸控走線部分與第一金屬層共用一張Mask，這樣不會增加Mask數(shù)量，避免工藝復雜。

其中，第一部分走線221包括多條平行Y方向的走線部分，該部分位于第一圍壩310與第二圍壩320之間所對應的柵極絕緣層220上，也就是說沿垂直所述基板的方向，第一部分走線221在基底100上的投影位于第一圍壩310與第二圍壩320在基底100上的投影之間的區(qū)域。第二部分走線222一端通過鈍化層260和層間絕緣層240上的觸控走線過孔261與第一部分走線221連接，另一端與第一觸控電極211連接；觸控走線過孔261設置在第二圍壩的外圍區(qū)域，即沿垂直基板的方向，觸控走線過孔261在基底100上的投影位于第二圍壩320在基底100上的投影遠離所述顯示區(qū)域AA的一側(cè)。

在本實施例中屏蔽電極400與第一觸控電極211同層設置，并且二者絕緣設置。也就是說屏蔽電極與第一觸控電極可由同一導電膜層形成，屏蔽電極與第一觸控電極共用一張Mask，經(jīng)過圖案化處理后，形成相互斷開的屏蔽電極圖案與第一觸控電極圖案。這樣，在將在增加了一層屏蔽電極的同時，既不會增加系統(tǒng)的膜層數(shù)目，也不會增加Mask的數(shù)量，避免增加工藝難度。

屏蔽電極400連接地線，獲得一固定電位，從而屏蔽掉外界干擾源對屏蔽電極下的觸控走線的干擾，使觸控走線不會因外界電壓改變而產(chǎn)生響應，提高觸摸精度。

在本實施例中屏蔽電極與第一觸控電極同層設置，不同的，屏蔽電極亦可以與第二金屬層同層設置。屏蔽電極可與薄膜晶體管的源極和漏極一起形成，也就是說，在第二金屬層對應的Mask上同時設計出屏蔽電極的圖案，使圖案化后的第二金屬層包括屏蔽電極，如此亦可不增加顯示面板的膜層數(shù)目，也不會增加Mask數(shù)量，避免工藝復雜。

如圖7所示，圖7為本發(fā)明提供的再一種集成觸控的機發(fā)光二極管顯示裝置的平面示意圖，圖中所展示的平面為該顯示裝置的顯示面。虛線S1內(nèi)區(qū)域為顯示區(qū)域(即AA區(qū))，虛線S1外為包圍顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域(即BM區(qū))，觸控器件包括觸控電極210和觸控走線220。觸控電極210包括多條與第一方向(X方向)相互平行的第一觸控電極211和多條與第二方向(Y方向)相互平行的第二觸控電極212，第一觸控電極211與第二觸控電極212相互垂直交疊。

如圖8、圖9所示，圖8為圖7中沿C-C方向的顯示裝置的截面圖，圖9為圖7中沿D-D方向的顯示裝置的截面圖，其中本實施例與上一實施例相同之處不在贅述。

其中，觸控走線220包括第一部分走線221以及連接在第一部分走線221和第一觸控電極211之間的第二部分走線222。第一部分走線221與第二金屬層250同層設置，形成在層間絕緣層240延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍層間絕緣層上。第一部分走線221包括多條平行Y方向的走線部分，該部分位于第一圍壩310與第二圍壩320之間所對應的鈍化層260上，也就是說沿垂直所述基板的方向，第一部分走線221在基底100上的投影位于第一圍壩310與第二圍壩320在基底100上的投影之間的區(qū)域。第二部分走線222一端通過鈍化層260上的觸控走線過孔261與第一部分走線221連接，另一端與第一觸控電極211連接；觸控走線過孔261設置在第二圍壩的外圍區(qū)域，即沿垂直基板的方向，觸控走線過孔261在基底100上的投影位于第二圍壩320在基底100上的投影遠離所述顯示區(qū)域AA的一側(cè)。

平坦化層270包括延伸至非顯示區(qū)域BM的外圍平坦化層，圖案化后的外圍平坦化層包括形成在外圍鈍化層上的第一圍壩底層311和第二圍壩底層321，還包括形成在第一圍壩310與第二圍壩320之間的第一平坦化層圖案271，第一平坦化層圖案271與鈍化層260下的第一部分走線221的圖案對應，也就是說，沿垂直基板的方向，第二部分走線222在基底上的投影與第一平坦化層圖案271在基底上的投影重疊。

屏蔽電極400設置在非顯示區(qū)域BM中并絕緣覆蓋在第一觸控電極211的第二部分走線222上，屏蔽電極400電連接于一固定電位。屏蔽電極獲得一固定電壓，任何持有電荷的物體包括人體皮膚接觸或靠近屏蔽電極時都不會造成屏蔽電極的電壓改變，屏蔽掉外界電壓變化對觸控走線的干擾；通過在屏蔽電極與第二部分走線之間增加平坦化層，在不增加新的膜層的條件下，大大降低第二部分走線與屏蔽電極之間的負載。

但本發(fā)明并不局限于僅用平坦化層做屏蔽電極與第二部分走線之間的絕緣膜層，不同的，還可以通過圖案化外圍區(qū)域的像素定義層做屏蔽電極與第二部分走線之間的絕緣膜層。

優(yōu)選的，第一平坦化層圖案271的為多條與Y方向平行且相互間隔的條狀圖案。條狀的第一平坦化層圖案271位于第一圍壩310及第二圍壩320之間，但與兩個圍壩相互間隔。薄膜封裝層500通過這些間隔與平坦化層下的鈍化層接觸，防止膜層分離，增強封裝層的阻水氧性能。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進一步詳細說明，不能認定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發(fā)明的保護范圍。