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OLED顯示面板的制作方法

文檔序號(hào):12552706閱讀:324來源:國知局
OLED顯示面板的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種OLED顯示面板。



背景技術(shù):

OLED顯示面板藍(lán)光子像素的壽命(Lifetime)遠(yuǎn)差于紅光和綠光子像素,這樣將導(dǎo)致在OLED顯示面板使用一段時(shí)間后白光色坐標(biāo)會(huì)發(fā)生偏移,影響OLED顯示畫質(zhì),進(jìn)而制約OLED在對(duì)使用壽命要求較高的領(lǐng)域如TV、車載上的應(yīng)用。

由圖1可以明顯看出隨著使用時(shí)間的增加,藍(lán)光子像素3的亮度衰減大于紅光子像素1和綠光子像素2,進(jìn)而導(dǎo)致白光4亮度的衰減;由圖2示意出隨著使用時(shí)間的增加,白光色坐標(biāo)發(fā)生偏移,由圖2可知,OLED器件使用1000小時(shí)前后白光色坐標(biāo)變化如下表所示:

而目前常見的提高藍(lán)光子像素的壽命的方法為設(shè)置不同的RGB子像素開口率,因壽命高低一般為綠光>紅光>藍(lán)光,因此開口率大小設(shè)置為藍(lán)光>紅光>綠光,即便如此,還是不能完全解決藍(lán)光使用壽命遠(yuǎn)差于紅光和綠光的問題。

因此,如何提高OLED顯示面板藍(lán)光子像素的壽命,改善OLED顯示面板因藍(lán)光子像素亮度衰減過快造成的白畫面色坐標(biāo)偏移的現(xiàn)象成為本領(lǐng)域技術(shù)人員致力于研究的方向。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

針對(duì)上述存在的問題,本發(fā)明公開一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層和位于所述發(fā)光材料層之上的電子傳輸層(Electron transport layer,ETL);

所述發(fā)光材料層包括紅光子像素發(fā)光層、綠光子像素發(fā)光層和藍(lán)光子像素發(fā)光層;以及

所述藍(lán)光子像素發(fā)光層和所述電子傳輸層之間還設(shè)置有電子緩沖層(Electron Cushion Layer,ECL),以限制電子在所述藍(lán)光子像素發(fā)光層與所述電子傳輸層之間的累積。

上述的OLED顯示面板,其中,所述電子緩沖層的材質(zhì)為有機(jī)材料。

上述的OLED顯示面板,其中,所述電子緩沖層的材質(zhì)與所述電子傳輸層的主體材料相同。

上述的OLED顯示面板,其中,所述電子緩沖層的厚度為5~500埃。

上述的OLED顯示面板,其中,還包括:基板、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層和陰極;

其中,所述陽極位于所述基板和所述空穴注入層之間,所述空穴傳輸層位于所述空穴注入層與所述發(fā)光材料層之間,所述電子注入層覆蓋所述電子傳輸層的上表面,所述陰極覆蓋所述電子注入層的上表面。

上述的OLED顯示面板,其中,所述藍(lán)光子像素發(fā)光層的材質(zhì)為熒光材料,所述綠光子像素發(fā)光層和紅光子像素發(fā)光層的材質(zhì)均為磷光材料。

上述的OLED顯示面板,其中,采用FFM制備所述電子緩沖層。

本發(fā)明還提供了一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層和位于所述發(fā)光材料層之上的電子傳輸材料層,所述發(fā)光材料層包括紅光子像素發(fā)光層、綠光子像素發(fā)光層和藍(lán)光子像素發(fā)光層;

其中,所述電子傳輸材料層包括覆蓋所述紅光子像素發(fā)光層上表面的第一電子傳輸層、覆蓋所述綠光子像素發(fā)光層上表面的第二電子傳輸層以及覆蓋所述藍(lán)光子像素發(fā)光層上表面的第三電子傳輸層;

其中,所述第三電子傳輸層的材料與所述第一電子傳輸層和/或第二電子傳輸層的材料不同。

上述的OLED顯示面板,其中,所述第一電子傳輸層和所述第二傳輸層的材料相同。

上述的OLED顯示面板,其中,所述藍(lán)光子像素發(fā)光層的材質(zhì)為熒光材料,所述綠光子像素發(fā)光層和紅光子像素發(fā)光層的材質(zhì)均為磷光材料。

上述的OLED顯示面板,其中,所述第三電子傳輸層的材料為PO14。

上述的OLED顯示面板,其中,所述第一電子傳輸層的材料和所述第二電子傳輸層的材料均為TPBI。

上述的OLED顯示面板,其中,還包括:基板、陽極、空穴注入 層、空穴傳輸層、電子注入層和陰極;

其中,所述陽極位于所述基板和所述空穴注入層之間,所述空穴傳輸層位于所述空穴注入層與所述發(fā)光材料層之間,所述電子注入層覆蓋所述電子傳輸層的上表面,所述陰極覆蓋所述電子注入層的上表面。

上述發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)或者有益效果:

本發(fā)明公開了OLED顯示面板,通過在藍(lán)光子像素發(fā)光層與電子傳輸層之間設(shè)置一電子緩沖層防止電荷在發(fā)光層界面的累積,以改善OLED面板藍(lán)光子像素的壽命,進(jìn)而提高OLED顯示面板的壽命;且本發(fā)明還可以通過RGB子像素采用不同的電子傳輸層材料,根據(jù)各子像素發(fā)光層的材料選擇最有利于RGB子像素使用壽命的電子傳輸層材料,以改善OLED面板藍(lán)光子像素的壽命,進(jìn)而提高OLED顯示面板的壽命。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述,本發(fā)明及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并非必須按照比例繪制附圖,重點(diǎn)在于示出本發(fā)明的主旨。

圖1是本發(fā)明背景技術(shù)中RGB子像素亮度隨時(shí)間變化的示意圖;

圖2是本發(fā)明背景技術(shù)中白光色坐標(biāo)隨時(shí)間變化的示意圖;

圖3是本發(fā)明實(shí)施例一中OLED顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4是本發(fā)明實(shí)施例一中在有無ECL的情況下藍(lán)光子像素亮度隨時(shí)間變化的示意圖;

圖5是本發(fā)明實(shí)施例二中OLED顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明,但是不作為本發(fā)明的限定。

本發(fā)明提供了一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層和位于發(fā)光材料層之上的電子傳輸層,發(fā)光材料層包括紅光子像素發(fā)光層、綠光子像素發(fā)光層和藍(lán)光子像素發(fā)光層;其中,藍(lán)光子像素發(fā)光層和電子傳輸層之間還設(shè)置有電子緩沖層以限制電子在藍(lán)光子像素發(fā)光層與電子傳輸層界面的累積。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,電子緩沖層的材質(zhì)為有機(jī)材料。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,電子緩沖層的材質(zhì)與電子傳輸層的主體材料(ETL-Host)相同。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,電子緩沖層的厚度為5~500埃。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,OLED顯示面板還包括基板、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層和陰極;其中,陽極位于基板和空穴注入層之間;空穴傳輸層位于空穴注入層與發(fā)光材料層之間;電子注入層覆蓋電子傳輸層的上表面;陰極覆蓋電子注入層的上表面。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,藍(lán)光子像素發(fā)光層的材質(zhì)為熒光 材料,綠光子像素發(fā)光層和紅光子像素發(fā)光層的材質(zhì)均為磷光材料。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,采用FMM(Fine Metal Mask,精細(xì)金屬掩膜)制備電子緩沖層。

本發(fā)明還提供了一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層和位于發(fā)光材料層之上的電子傳輸材料層,該發(fā)光材料層包括紅光子像素發(fā)光層、綠光子像素發(fā)光層和藍(lán)光子像素發(fā)光層,電子傳輸材料層包括覆蓋紅光子像素發(fā)光層上表面的第一電子傳輸層、覆蓋綠光子像素發(fā)光層上表面的第二電子傳輸層以及覆蓋藍(lán)光子像素發(fā)光層上表面的第三電子傳輸層;其中,第三電子傳輸層的材料與第一電子傳輸層和/或第二電子傳輸層的材料不同,換句話說,就是第三電子傳輸層的材料與第一電子傳輸層的材料、第二電子傳輸層的材料中的至少一種不同;且可根據(jù)子像素發(fā)光層材質(zhì)的不同選擇最有利于子像素發(fā)光層壽命的電子傳輸層材料以使得RGB子像素壽命最長;在本發(fā)明的實(shí)施例中,該第一電子傳輸層的材料和第二電子傳輸層的材料可以相同也可以不相同,這并不影響本發(fā)明的目的。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,于所述藍(lán)光子像素發(fā)光層和所述第三電子傳輸層之間設(shè)置電子緩沖層以限制電子在藍(lán)光子像素發(fā)光層與電子傳輸層界面的累積。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,藍(lán)光子像素發(fā)光層的材質(zhì)為熒光材料,綠光子像素發(fā)光層和紅光子像素發(fā)光層的材質(zhì)均為磷光材料。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,第三電子傳輸層的材料為PO14。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,第一電子傳輸層的材料和第二電 子傳輸層的材料均為TPBI。

在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中,OLED顯示面板還包括基板、陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層和陰極;其中,陽極位于基板和空穴注入層之間;空穴傳輸層位于空穴注入層與發(fā)光材料層之間;電子注入層覆蓋電子傳輸層的上表面;陰極覆蓋電子注入層的上表面。

下面結(jié)合具體的實(shí)施例來對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的闡述:

實(shí)施例一:

如圖3所示,本實(shí)施例涉及一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層5和位于發(fā)光材料層5之上的電子傳輸層7,還包括基板1、陽極2、空穴注入層3、空穴傳輸層4、電子注入層7和陰極8;其中,陽極2位于基板1和空穴注入層3之間;空穴傳輸層4位于空穴注入層3與發(fā)光材料層5之間;電子注入層7覆蓋電子傳輸層7的上表面;陰極8覆蓋電子注入層7的上表面。

上述發(fā)光材料層5包括紅光子像素發(fā)光層51、綠光子像素發(fā)光層52和藍(lán)光子像素發(fā)光層53;其中,藍(lán)光子像素發(fā)光層53和電子傳輸層7之間還設(shè)置有電子緩沖層6以限制電子在藍(lán)光子像素發(fā)光層53與電子傳輸層7界面的累積;進(jìn)一步的,該電子緩沖層6的材質(zhì)為有機(jī)材料,例如PO14,電子緩沖層6可以采用與電子傳輸層7的主體材料相同的材料,例如若電子傳輸層7的材質(zhì)為TPBI,該電子緩沖層6的材質(zhì)也可以采用TPBI,也可以采用不同的材料,只要該材料可以限制電子在藍(lán)光子像素發(fā)光層53與電子傳輸層7界面的累 積,提高OLED面板藍(lán)光子像素的壽命即可。優(yōu)選的,電子緩沖層的厚度為5~500埃(例如5埃、100埃、250?;蛘?00埃等)。

在本實(shí)施例中,藍(lán)光子像素發(fā)光層53的材質(zhì)為熒光材料,綠光子像素發(fā)光層52和紅光子像素發(fā)光層51的材質(zhì)均為磷光材料。

在本實(shí)施例中,可使用藍(lán)光發(fā)光層FMM蒸鍍ECL,然后再用CMM蒸鍍ETL;具體的可采用傳統(tǒng)的真空蒸鍍方法制備電子緩沖層6,但由于僅藍(lán)光子像素發(fā)光層53和電子傳輸層7之間有電子緩沖層6,因此蒸鍍時(shí)需要使用FFM,該FFM開口形狀和大小與藍(lán)光子像素發(fā)光層53的FFM一致。將開口形狀和大小與藍(lán)光子像素發(fā)光層53的FFM一樣的FFM傳入真空有機(jī)腔室,將蒸鍍完藍(lán)光子像素發(fā)光層53的玻璃基板也傳入該腔室,F(xiàn)FM和玻璃基板上均有對(duì)位標(biāo)記(Alignment mark),使用對(duì)位機(jī)構(gòu)使FFM的開口處對(duì)準(zhǔn)藍(lán)光子像素區(qū)域,在真空腔室壓強(qiáng)達(dá)到10-5Pa以上時(shí),熱蒸發(fā)沉積一層厚度為5nm的PO14薄膜,蒸鍍過程中維持速率恒定,薄膜的均一性維持在5%以內(nèi),速率為0.3-5nm/s(根據(jù)產(chǎn)能和生產(chǎn)節(jié)拍(tact time)而定)。

以下結(jié)合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明:

將本實(shí)施例有ECL的器件與無ECL為標(biāo)準(zhǔn)器件作對(duì)比,其中ECL材料與ETL-Host(電子傳輸層主體材料)相同。藍(lán)光器件在15m A/cm2電流密度下,綠光和紅光器件分別在12000nits、3000nits下光電性質(zhì)如下表:

從上表和圖4中可以看出,有ECL藍(lán)光器件的亮度百分比隨時(shí)間變化曲線1的衰減比無ECL器件藍(lán)光器件的亮度百分比隨時(shí)間變化曲線2慢,而有ECL藍(lán)光器件的電壓3與ECL器件藍(lán)光器件的電壓4隨時(shí)間變化衰減程度相當(dāng),有ECL器件的壽命LT95為172小時(shí),而無ECL器件的壽命LT95為95小時(shí),增加ECL層,器件的LT95增加1.81倍,這也證實(shí)了增加ECL有利于提升器件的壽命。但是綠光器件增加ECL層之后,壽命急劇降低,紅光器件增加ECL之后,壽命相當(dāng);也由此證明了于藍(lán)光子像素發(fā)光層與電子傳輸層之間加入電子緩沖層為最佳選擇,可以有效提升OLED顯示面板的壽命。

實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)證明此方案可將藍(lán)光壽命(Lifetime)至少提升1.5倍(提升的多少取決于不同的ETL材料)。

實(shí)施例二:

如圖5所示,本實(shí)施例涉及一種OLED顯示面板,包括:發(fā)光材料層5和位于發(fā)光材料層5之上的電子傳輸層7,還包括基板1、陽極2、空穴注入層3、空穴傳輸層4、電子注入層7和陰極8;其 中,陽極2位于基板1和空穴注入層3之間;空穴傳輸層4位于空穴注入層3與發(fā)光材料層5之間;電子注入層7覆蓋電子傳輸層7的上表面;陰極8覆蓋電子注入層7的上表面。

上述發(fā)光材料層5包括紅光子像素發(fā)光層51、綠光子像素發(fā)光層52和藍(lán)光子像素發(fā)光層53;電子傳輸材料層6包括覆蓋紅光子像素發(fā)光層51上表面的第一電子傳輸層61、覆蓋綠光子像素發(fā)光層52上表面的第二電子傳輸層62以及覆蓋藍(lán)光子像素發(fā)光層53上表面的第三電子傳輸層63;其中,第三電子傳輸層63的材料與第一電子傳輸層61和/或第二電子傳輸層62的材料不同,即第三電子傳輸層63的材料和第一電子傳輸層61、第二電子傳輸層62的材料中的至少一種不同;在本發(fā)明的實(shí)施例中,采用FMM蒸鍍電子傳輸層7,以便于使用最有利于RGB壽命的ETL材料,使RGB壽命達(dá)到最佳。

在本發(fā)明的實(shí)施例中,藍(lán)光子像素發(fā)光層53的材質(zhì)為熒光材料,綠光子像素發(fā)光層52和紅光子像素發(fā)光層51的材質(zhì)均為磷光材料,而目前同時(shí)滿足磷光和熒光均具有高壽命的電子傳輸層材料較少,因此RGB子像素可采用不同的電子傳輸層材料,因而選擇最有利于RGB子像素使用壽命的電子傳輸層材料將有利于得到RGB均具有長的壽命的OLED面板,進(jìn)而提高OLED顯示面板的壽命。

因此在本實(shí)施例中,第三電子傳輸層63的材料采用最有利于藍(lán)光子像素使用壽命的PO14,第一電子傳輸層61的材料和第二電子傳輸層62的材料可均采用TPBI,當(dāng)然,該第一電子傳輸層61也可以和第二電子傳輸層62采用不同的材料,這并不影響本發(fā)明的目的。

以下結(jié)合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明:

電子傳輸材料層分別使用ETL01和ETL02兩種材料。

藍(lán)光器件在15m A/cm2電流密度下,綠光和紅光器件分別在12000nits、3000nits下光電性質(zhì)如下:

由上表可知,使用ETL2有利于提升藍(lán)光器件Lifetime,使用ETL1時(shí)綠光Lifetime較ETL2好,而ETL1和ETL2紅光器件Lifetime相差不大,因此,可根據(jù)實(shí)際需要RGB子像素可使用不同的ETL材料,進(jìn)而達(dá)到RGB子像素均具有較長的壽命。

綜上,本發(fā)明公開了OLED顯示面板,通過在藍(lán)光子像素發(fā)光層與電子傳輸層之間設(shè)置一電子緩沖層防止電荷在發(fā)光層界面的累積,以提高OLED顯示面板藍(lán)光子像素的壽命,改善OLED顯示面板因藍(lán)光子像素亮度衰減過快造成的白畫面色坐標(biāo)偏移的現(xiàn)象,進(jìn)而提高OLED顯示面板的壽命;且本發(fā)明還可以通過RGB子像素采用不同的電子傳輸層材料,根據(jù)各子像素發(fā)光層的材料選擇最有利于RGB子像素使用壽命的電子傳輸層材料,提高OLED顯示面板藍(lán)光子像素的壽命,改善OLED顯示面板因藍(lán)光子像素亮度衰減過快造成的白畫面色坐標(biāo)偏移的現(xiàn)象,進(jìn)而提高OLED顯示面板的壽命。

本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解,本領(lǐng)域技術(shù)人員在結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)以及上述實(shí)施例可以實(shí)現(xiàn)變化例,在此不做贅述。這樣的變化例并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容,在此不予贅述。

以上對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是,本發(fā)明并不局限于上述特定實(shí)施方式,其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施;任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾,或修改為等同變化的等效實(shí)施例,這并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此,凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。

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