本實用新型涉及一種BGA芯片植球平臺。
背景技術：
目前，在國內(nèi)或者國外的市場上，很多維修品的研發(fā)都是比較笨重，且操作起來復雜，在BGA植球的技術上點位不夠精準，容易移位，產(chǎn)品能實現(xiàn)的功能單一，達不到消費者的需求；制假者手段高明，特別是維修用品，一般公司開發(fā)的產(chǎn)品只在材料上作簡化，隨便找個廉價的或功能合適的，根本杜絕不了次品流入市場，而且偽劣的成本低。容易變形，產(chǎn)品的實用性太低。
技術實現(xiàn)要素：
本實用新型的發(fā)明目的在于提供一種BGA芯片植球平臺。
本實用新型解決上述技術問題所采取的技術方案如下：
一種BGA芯片植球平臺，包括：植錫平臺底座（4），在該植錫平臺底座（4）的上方設置有定位板（3），其上設植錫鋼網(wǎng)（1），兩者之間通過定位銷釘（2）連接在一起，所述植錫平臺底座（4）設置有圓孔和條形孔，其與底部的兩個圓形和條形的強力磁鐵（5）形狀相匹配，且強力磁鐵（5）設置有植錫平臺后蓋（6）。
優(yōu)選的是，所述植錫鋼網(wǎng)（1）為高精密通孔0.12mm超薄的鋼網(wǎng)。
本實用新型采取以上方案以后，在定位底座添加了聚吸原理和附吸拉力原理的定制型強力磁鐵底座四面八方的邊緣有著絲滑流產(chǎn)的切割面，通過雙強力磁鐵在平臺上對BGA磁性鋼網(wǎng)進行平面校正實現(xiàn)高精密快速植球。本植球平臺可任意拆卸更換零部件，增加產(chǎn)品的使用壽命。
本實用新型的其它特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本實用新型而了解。本實用新型的目的和其他優(yōu)點可通過在所寫的說明書、權利要求書、以及附圖中所特別指出的結構來實現(xiàn)和獲得。
附圖說明
下面結合附圖對本實用新型進行詳細的描述，以使得本實用新型的上述優(yōu)點更加明確。
圖1是本實用新型BGA芯片植球平臺的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合具體實施例對本實用新型進行詳細地說明。
如圖1所示，一種BGA芯片植球平臺，包括：植錫平臺底座（4），在該植錫平臺底座（4）的上方設置有定位板（3），其上設植錫鋼網(wǎng)（1），兩者之間通過定位銷釘（2）連接在一起，所述植錫平臺底座（4）設置有圓孔和條形孔，其與底部的兩個圓形和條形的強力磁鐵（5）形狀相匹配，且強力磁鐵（5）設置有植錫平臺后蓋（6）。
優(yōu)選的是，所述植錫鋼網(wǎng)（1）為高精密通孔0.12mm超薄的鋼網(wǎng)。
本實用新型采取以上方案以后，在定位底座添加了聚吸原理和附吸拉力原理的定制型強力磁鐵底座四面八方的邊緣有著絲滑流產(chǎn)的切割面，通過雙強力磁鐵在平臺上對BGA磁性鋼網(wǎng)進行平面校正實現(xiàn)高精密快速植球。本植球平臺可任意拆卸更換零部件，增加產(chǎn)品的使用壽命。
更具體地說，在一個實施例中，現(xiàn)有的BGA芯片植球平臺，多數(shù)為呈現(xiàn)在質量，即影響了產(chǎn)品的使用率，又不能一次性完美的融合各類所需產(chǎn)品，不能更有效的對BGA芯片植球平臺的長時間使用和精準，要么單獨一個較厚的鋼網(wǎng)，要么定位的治具容易偏位，不穩(wěn)定，因此不便于使用者便捷快速的芯片植球焊接使用。
本實用新型涉及一種記自動定位可加磁吸附結構，尤其是一種用于能夠將錫膏正確且錫膏剛好料足的在BGA芯片植球平臺。其包括維修活動區(qū)，可將螺絲刀頭或其他需要加磁的工具進行加磁。其植球平臺有不變形可針對任意BGA芯片焊點量身定制的高精密通孔0.12mm超薄的鋼網(wǎng)，結合性能優(yōu)異的無機非金屬玻纖工具制作一個絕緣性高、耐熱性強、抗腐蝕性好的BGA芯片定位模具；在定位底座添加了聚吸原理和附吸拉力原理的定制型強力磁鐵底座四面八方的邊緣有著絲滑流產(chǎn)的切割面，通過雙強力磁鐵在平臺上對BGA磁性鋼網(wǎng)進行平面校正實現(xiàn)高精密快速植球。本植球平臺可任意拆卸更換零部件，增加產(chǎn)品的使用壽命。
其結構精致全面，外觀使用鋁合金結合24k鍍金工藝，流暢切割面、輕巧，成本適中，使用方便、快捷，功能豐富：不變形、可定位、上錫快速、雙磁力加磁聚吸，更有效的達到客戶一體化具有獨立性的上錫植球效果。提升了用戶的體驗值的同時也為防劣企業(yè)設置了一定的資金門檻和技術門檻。
最后應說明的是：以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。