本實(shí)用新型是關(guān)于一種碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)及離子植入機(jī)，特別是一種利用碳化鎢鍍膜提高離子植入機(jī)使用壽命的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的離子植入機(jī)的常因設(shè)計(jì)不佳，往往導(dǎo)致氣體侵入在離子腔內(nèi)產(chǎn)生一附著層(Coating)而導(dǎo)致電弧(Arcing)現(xiàn)象。

其中附著層產(chǎn)生的主因是為離子產(chǎn)生通入電弧室(Arc chamber)腔體內(nèi)部的氣體約有80%無法解離，且會(huì)擴(kuò)散至來源室(Source chamber)內(nèi)，而此距離電弧室的電子束(Beam)發(fā)射端最近的電極則會(huì)接觸到未解離的氣體，造成此位解離的氣體附著在高壓絕緣體表面而上產(chǎn)生附著層，使得絕緣的效果降低。

因此，如何保持離子植入機(jī)的使用壽命及耐用度等問題，以成為各方鎖定研究的課題。由此可見，上述現(xiàn)有方式仍有諸多缺失，實(shí)非一良善的設(shè)計(jì)，而亟待加以改良。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本創(chuàng)作提供一種碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)，包含一主體層及一碳化鎢鍍膜層，其中主體層為含鎢金屬的化合物或純鎢金屬以及設(shè)在主體層之上的碳化鎢鍍膜層。

本創(chuàng)作提供一種具有碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的離子植入機(jī)，其中主要包含主機(jī)部以及離子腔。其中離子腔與主機(jī)部連接并接收主機(jī)部提供的電壓，離子腔內(nèi)保持真空且更進(jìn)一步包含底板、四個(gè)隔板、四個(gè)側(cè)板以及離子腔出口。其中底板與主機(jī)部連接，四個(gè)隔板底邊與底板連接，各隔板的兩側(cè)邊與另相鄰的兩隔板連接，各隔板的一側(cè)則更設(shè)置一側(cè)板，以及離子腔出口與各隔板的頂邊連接。

本創(chuàng)作提供另一種具有碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的離子植入機(jī)，其中主要包含主機(jī)部以及離子腔。其中離子腔與主機(jī)部連接并接收主機(jī)部提供的電壓，離子腔內(nèi)保持真空且更進(jìn)一步包含底板、四個(gè)隔板、四個(gè)側(cè)板、第一離子腔出口以及第二離子腔出口。其中底板與主機(jī)部連接，四個(gè)隔板底邊與底板連接，各隔板的兩側(cè)邊與另相鄰的兩隔板連接，各隔板的一側(cè)則更設(shè)置一側(cè)板，以及第一離子腔出口與各隔板的頂邊連接，而第二離子腔則設(shè)在第一離子腔出口上方。

本案相較于現(xiàn)有技術(shù)而言，除了主體層含鎢金屬的化合物或純鎢金屬的硬度佳外，其表面更具有一碳化鎢鍍膜層，特別適合應(yīng)用在離子植入機(jī)內(nèi)具有高度離子轟擊部位的組件，并在含有氟性化合物氣體或含氧化物氣體的高溫工作環(huán)境(500-900℃)下，如離子腔、離子腔出口等，其使用壽命為現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)的2-5倍。

有關(guān)本實(shí)用新型的特征、實(shí)作與功效，茲配合圖式作最佳實(shí)施例詳細(xì)說明如下。

附圖說明

圖1是本創(chuàng)作一實(shí)施例的碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。

圖2是本創(chuàng)作一實(shí)施例的離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖3是本創(chuàng)作另一實(shí)施例的離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的示意圖。

主要組件符號(hào)說明：

100 主體層

110 碳化鎢鍍膜層

200 離子植入機(jī)

210 主機(jī)部

220 離子腔

221 底板

222 隔板

223 側(cè)板

230 離子腔出口

300 離子植入機(jī)

310 主機(jī)部

320 離子腔

321 底板

322 隔板

323 側(cè)板

330 第一離子腔出口

340 第二離子腔出口。

具體實(shí)施方式

為利審查老師了解本創(chuàng)作的技術(shù)特征、內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所能達(dá)到的功效，茲將本創(chuàng)作配合附圖，并以實(shí)施例的表達(dá)形式詳細(xì)說明如下，而其中所使用的圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本創(chuàng)作實(shí)施后的真實(shí)比例與精準(zhǔn)配置，故不應(yīng)就所附的圖式的比例與配置關(guān)系解讀、局限本創(chuàng)作在實(shí)際實(shí)施上的權(quán)利范圍，合先敘明。

請參閱圖1，為本創(chuàng)作一實(shí)施例的碳化鎢鍍膜的鎢制離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的示意圖，如圖所示，包含一主體層100及一碳化鎢鍍膜層110，其中主體層100為含鎢金屬的化合物或純鎢金屬，以及設(shè)在主體層100的上外表面的碳化鎢鍍膜層110，具有抵抗含有氟性化合物氣體或含氧化物氣體之腐蝕的特性。

請參閱圖2，為本創(chuàng)作一實(shí)施例的離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的示意圖，如圖所示，離子植入機(jī)200主要包含主機(jī)部210以及離子腔220。其中離子腔220與主機(jī)部210連接并接收主機(jī)部210提供的電壓，離子腔220內(nèi)保持真空且更進(jìn)一步包含底板221、四個(gè)隔板222、四個(gè)側(cè)板223以及離子腔出口230。其中底板221與主機(jī)部210連接，四個(gè)隔板222底邊與底板221連接，各隔板222的兩側(cè)邊與另相鄰的兩隔板222連接，各隔板222的一側(cè)則更設(shè)置一側(cè)板223，以及離子腔出口230與各隔板222的頂邊連接，其中離子腔220的各組件的其中之一或二者以上可做為一主體層100，并藉由碳化鎢鍍膜層110而具有高度抗離子轟擊的特性，使用壽命為現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)的2-5倍。

請參閱圖3，為本創(chuàng)作另一實(shí)施例的離子植入機(jī)結(jié)構(gòu)的示意圖，如圖所示，離子植入機(jī)300主要包含主機(jī)部310以及離子腔320。其中離子腔320與主機(jī)部310連接并接收主機(jī)部310提供的電壓，離子腔320內(nèi)保持真空且更進(jìn)一步包含底板321、四個(gè)隔板322、四個(gè)側(cè)板323、第一離子腔出口330以及第二離子腔出口340。其中底板321與主機(jī)部310連接，四個(gè)隔板322底邊與底板321連接，各隔板322的兩側(cè)邊與另相鄰的兩隔板322連接，各隔板322的一側(cè)則更設(shè)置一側(cè)板323，以及第一離子腔出口330與各隔板322的頂邊連接，在第一離子腔出口330上方更進(jìn)一步設(shè)置第二離子腔出口340，其中離子腔320的各組件的其中之一或二者以上可做為一主體層100，并藉由碳化鎢鍍膜層110而具有高度抗離子轟擊的特性，使用壽命為現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)的2-5倍。

雖然本實(shí)用新型的實(shí)施例揭露如上所述，然并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟習(xí)相關(guān)技藝者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，舉凡依本實(shí)用新型申請范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及數(shù)量當(dāng)可做些許的變更，因此本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍須視本說明書所附的權(quán)利要求范圍所界定者為準(zhǔn)。