本申請(qǐng)案主張美國非先行申請(qǐng)案第14/602,201號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其申請(qǐng)于2015年1月21日，且標(biāo)題為“用于漂洗與干燥基板的系統(tǒng)與方法(systemsandmethodsforrinsinganddryingsubstrates)”(事務(wù)所案號(hào)為no.22586/usa)，第14/602,201號(hào)申請(qǐng)案主張美國臨時(shí)申請(qǐng)案第62/094,938號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其申請(qǐng)于2014年12月19日，且標(biāo)題為“基板漂洗系統(tǒng)與方法(substraterinsingsystemsandmethods)”(事務(wù)所案號(hào)為no.22585/l)，上述每一者在此以引用的方式針對(duì)所有目的將其全部并入。

本申請(qǐng)案涉及美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/593,841號(hào)，其申請(qǐng)于2015年1月9日，且標(biāo)題為“基板固持器組件、設(shè)備、與方法(substrateholderassembly,apparatus,andmethods)”(事務(wù)所案號(hào)為no.22564)，本文以引用的方式針對(duì)所有目的將其全部并入。

本申請(qǐng)案涉及美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/602,094號(hào)，其申請(qǐng)于2015年1月21日，且標(biāo)題為“基板夾持器設(shè)備與方法(substrategripperapparatusandmethods)”(事務(wù)所案號(hào)為no.22600)，本文以引用的方式針對(duì)所有目的將其全部并入。

本申請(qǐng)案涉及美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/602,114號(hào)，其申請(qǐng)于2015年1月21日，且標(biāo)題為“基板邊緣殘留物移除系統(tǒng)、設(shè)備、與方法(substrateedgeresidueremovalsystems,apparatus,andmethods)”(事務(wù)所案號(hào)為no.22563)，本文以引用的方式針對(duì)所有目的將其全部并入。

本申請(qǐng)案涉及半導(dǎo)體器件制造，且更具體地，涉及用于漂洗與干燥基板的系統(tǒng)與方法。

背景技術(shù)：

隨著半導(dǎo)體器件幾何尺寸的持續(xù)減小，超清洗處理的重要性增加。漂洗浴(rinsingbath)(例如，在單獨(dú)的槽內(nèi)，或者通過更換清洗槽流體)之前可采用流體槽內(nèi)的水清洗(或水浴(bath))。在從漂洗浴移除之后，不使用干燥設(shè)備，漂洗浴流體會(huì)從基板的表面蒸發(fā)，并且導(dǎo)致在基板的表面上形成斑紋、形成斑點(diǎn)、和/或留下漂洗浴殘留物。此種斑紋、斑點(diǎn)、和/或殘留物可能導(dǎo)致后續(xù)的裝置失效。因此，許多注意力都放在用于改良當(dāng)基板從水浴移除時(shí)干燥基板的方法。

已知為馬蘭各尼干燥(marangonidrying)的方法產(chǎn)生表面張力梯度以誘導(dǎo)浴流體來使基板基本上免于浴流體的方式從基板流出，且因此可避免斑紋、斑點(diǎn)、與殘留物痕跡。具體地，在馬蘭各尼干燥期間，與浴流體溶混的溶劑(例如，ipa蒸汽)被引入至流體彎月面，流體彎月面在基板從浴中升舉起時(shí)或者在浴流體排放通過基板時(shí)形成。溶劑蒸汽沿著流體的表面被吸收，所吸收的蒸汽的濃度在流體彎月面的頂端處較高。所吸收的蒸汽的較高濃度導(dǎo)致在流體彎月面的頂端處的表面張力相較于大部分浴流體來說較低，這導(dǎo)致浴流體從干燥的流體彎月面朝向大部分浴流體流動(dòng)。此種流動(dòng)已知為“馬蘭各尼”流動(dòng)，并且可用來達(dá)成在基板上具有減少的斑紋、斑點(diǎn)、或浴殘留物的基板干燥。

實(shí)現(xiàn)基板的均勻的馬蘭各尼干燥可能是困難的，且在一些情況中，來自浴流體的粒子可能重新附著到基板并且污染基板。因此，所需的是，在基板漂洗和/或干燥期間用于減少粒子重新附著的方法與設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括(1)裝載位置；(2)干燥位置；(3)可移動(dòng)槽，可移動(dòng)槽配置為：(a)固持至少一個(gè)基板；(b)固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品；以及(c)在裝載位置與干燥位置之間轉(zhuǎn)移；以及(4)干燥站，干燥站位于干燥位置處，并且配置為在可移動(dòng)槽位于干燥位置處時(shí)，隨著基板從可移動(dòng)槽卸除，漂洗并干燥基板。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，提供一種方法，該方法包括下述步驟：(1)提供可移動(dòng)槽，可移動(dòng)槽配置為固持至少一個(gè)基板，并且在裝載位置與干燥位置之間轉(zhuǎn)移；(2)提供干燥站，干燥站位于干燥位置處，并且配置為在可移動(dòng)槽位于干燥位置處時(shí)，隨著基板從可移動(dòng)槽卸除，漂洗并干燥基板；(3)將可移動(dòng)槽定位于裝載位置處；(4)當(dāng)可移動(dòng)槽位于裝載位置處時(shí)，將基板裝載至可移動(dòng)槽中；(5)利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽；(6)利用清洗化學(xué)品來處理基板達(dá)預(yù)定的時(shí)間時(shí)期；(7)將可移動(dòng)槽移動(dòng)至干燥位置；(8)從可移動(dòng)槽通過干燥站卸除基板；以及(9)當(dāng)基板通過干燥站從可移動(dòng)槽卸除時(shí)，利用漂洗流體來漂洗基板并且干燥基板。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：(1)第一裝載位置、第二裝載位置、第一干燥位置以及第二干燥位置；(2)可移動(dòng)槽，可移動(dòng)槽配置為在第一與第二裝載位置以及第一與第二干燥位置之間轉(zhuǎn)移，可移動(dòng)槽具有：(a)第一可填充且可排放的隔室，第一可填充且可排放的隔室配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽的第一隔室內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品；以及(b)第二可填充且可排放的隔室，第二可填充且可排放的隔室配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽的第二隔室內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品；以及(3)干燥站，干燥站配置為：(a)當(dāng)可移動(dòng)槽定位在干燥站之下位于第一干燥位置處時(shí)，隨著基板從可移動(dòng)槽的第一隔室卸除，漂洗與干燥基板；以及(b)當(dāng)可移動(dòng)槽定位在干燥站之下位于第二干燥位置處時(shí)，隨著基板從可移動(dòng)槽的第二隔室卸除，漂洗與干燥基板。提供許多其他實(shí)施例和/或方面。

本發(fā)明的其他特征與方面將從示例性實(shí)施例、所附權(quán)利要求以及附圖的以下詳細(xì)敘述而變得更顯而易見。

附圖說明

圖1a至圖1r為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于漂洗與干燥基板的范例系統(tǒng)的示意側(cè)視圖。

圖1s為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于漂洗與干燥基板的第一替代系統(tǒng)的示意側(cè)視圖。

圖1t為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于漂洗與干燥基板的第二替代系統(tǒng)的示意側(cè)視圖。

圖2a為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例所提供的漂洗與干燥系統(tǒng)的另一范例實(shí)施例的透視圖。

圖2b與圖2c分別為圖2a的可移動(dòng)槽的范例實(shí)施例的透視圖與前視剖面圖。

具體實(shí)施方式

如同先前所述，在一些情況中，在清洗處理之后，來自用于漂洗基板的漂洗浴流體的粒子可能重新附著至基板并且污染基板。例如，若在清洗之后用于漂洗基板的漂洗浴流體具有與在先前的清洗步驟期間所用的化學(xué)品不同的酸堿度(ph)，則粒子可能重新附著至基板。此外，污染物可能積聚在漂洗槽中，并且可能在干燥期間移除基板時(shí)重新附著至基板。雖然此種粒子重新附著可通過將化學(xué)品加入至漂洗流體來減少，但是將化學(xué)品加入至最終的漂洗槽會(huì)導(dǎo)致化學(xué)品在干燥之后殘留在基板上。

在本文提供的一些實(shí)施例中，提供一種用于漂洗與干燥基板的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括可移動(dòng)槽，可移動(dòng)槽可在基板裝載位置與干燥位置之間轉(zhuǎn)移，在基板裝載位置處時(shí)，可將基板裝載至可移動(dòng)槽中。干燥站位于干燥位置處，并且可用來漂洗與干燥從可移動(dòng)槽卸除的基板。在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽可具有小的體積，和/或針對(duì)槽內(nèi)所處理的每一個(gè)基板而填充與排放(例如，減少由于來自槽內(nèi)所處理的多個(gè)基板的粒子的積累所導(dǎo)致的粒子建立和/或重新附著)。

為了增加產(chǎn)量，在一些實(shí)施例中，槽可具有二個(gè)或更多個(gè)獨(dú)立的基板處理隔室，這些處理隔室被整合進(jìn)同一槽主體中。用于每一個(gè)處理隔室的填充與排放閥歧管可整合至槽主體中，以減少空間和/或減少設(shè)施與系統(tǒng)之間的連接點(diǎn)。

在本文提供的一些實(shí)施例中，通過將基板浸入槽內(nèi)的化學(xué)品中(例如，酸或堿、hcl酸、hf酸、有機(jī)堿、四甲基氫氧化銨(tmah)、氫氧化銨、另一ph調(diào)整物等等)，且然后將基板通過漂洗流體源(例如瀑布，瀑布的頂表面覆蓋有溶劑流(例如，n2/ipa氣體混合物))升舉出槽外，可減少和/或避免粒子重新附著。產(chǎn)生的漂洗流體簾幕可有效地從基板漂洗化學(xué)品，且漂洗流體上的n2/ipa氣體可提供具有減少的和/或最少化的粒子重新附著的馬蘭各尼(marangoni)干燥。

以下敘述漂洗與干燥基板的系統(tǒng)和/或方法的范例實(shí)施例。

圖1a至圖1r為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于漂洗與干燥基板的范例系統(tǒng)100的示意側(cè)視圖。參見圖1a，系統(tǒng)100包括可移動(dòng)槽102與干燥站104。在圖1a至圖1r的實(shí)施例中，干燥站104為固定的。但是，在其他實(shí)施例中，干燥站104可為可移動(dòng)的(和/或槽102可為固定的)。

圖1a的可移動(dòng)槽102包括第一可填充且可排放的隔室106a以及第二可填充且可排放的隔室106b，第一可填充且可排放的隔室106a配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽102的第一隔室內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品；且第二可填充且可排放的隔室106b配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽102的第二隔室內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品。在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可僅包括單一可填充且可排放的隔室或者兩個(gè)以上的可填充且可排放的隔室。

在圖1a的實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可移動(dòng)于第一裝載位置、第二裝載位置、第一干燥位置、與第二干燥位置之間。例如，裝載與干燥位置可如下面的表1所示?？刹捎闷渌难b載和/或干燥位置。

表1

可移動(dòng)槽102的第一隔室106a包括第一基板固持器108a，且可移動(dòng)槽102的第二隔室106b包括第二基板固持器108b。每一固持器108a、108b配置為固持可移動(dòng)槽102的隔室106a、106b內(nèi)的基板、當(dāng)可移動(dòng)槽102位于適當(dāng)?shù)难b載位置處時(shí)從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收基板、以及當(dāng)可移動(dòng)槽102位于適當(dāng)?shù)母稍镂恢锰帟r(shí)從可移動(dòng)槽102的隔室106a或106b通過干燥站104卸除基板(如同下面進(jìn)一步敘述的)?？梢苿?dòng)槽102的范例實(shí)施例參見圖2a至圖2c敘述于下。高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110可為高架輸送器系統(tǒng)、流通束機(jī)器人系統(tǒng)、或用于轉(zhuǎn)移基板的任何其他合適的機(jī)構(gòu)。

在圖1a至圖1r的實(shí)施例中，干燥站104包括漂洗流體源112a、112b，用于將漂洗流體通過干燥站104供應(yīng)至基板的前側(cè)與后側(cè)。例如，漂洗流體源112a、112b可包括所示的噴嘴、噴灑桿、瀑布設(shè)備、或用于將漂洗流體傳送至基板的任何其他合適的機(jī)構(gòu)。范例的漂洗流體源將參見圖2a敘述于下。可使用任何合適的漂洗流體(例如，去離子水、具有可減少表面張力的漂洗劑的去離子水、氣體注入式去離子水(例如，注入有o3、co2、n2等的去離子水)等等)。

干燥站104也可包括干燥蒸汽源114a、114b，用于將干燥蒸汽(例如，溶劑蒸汽)傳送至基板上所形成的前側(cè)和/或后側(cè)漂洗流體彎月面，前側(cè)和/或后側(cè)漂洗流體彎月面是在干燥站104的漂洗與干燥操作期間在基板經(jīng)過漂洗流體源112a、112b且漂洗流體噴灑在基板時(shí)形成。在此種實(shí)施例中，當(dāng)基板通過干燥站104時(shí)，基板可受到馬蘭各尼干燥。在利用系統(tǒng)100的馬蘭各尼干燥期間，與漂洗流體混溶的溶劑蒸汽(例如，ipa)引入至每一流體彎月面，每一流體彎月面在基板升舉通過漂洗流體源112a、112b時(shí)形成。溶劑蒸汽沿著漂洗流體的表面被吸收，所吸收的蒸汽的濃度在每一流體彎月面的頂端處較高。所吸收的蒸汽的較高濃度導(dǎo)致在每一流體彎月面的頂端處的表面張力相較于大部分漂洗流體來說較低，這導(dǎo)致漂洗流體從每一干燥的流體彎月面朝向漂洗流體流動(dòng)。此種流動(dòng)已知為“馬蘭各尼”流動(dòng)，并且可用來達(dá)成基板干燥，而不會(huì)在基板上留下斑紋、斑點(diǎn)、或漂洗流體殘留物。

現(xiàn)在參見圖1a至圖1r來敘述漂洗與干燥系統(tǒng)100的范例操作。參見圖1a，可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一裝載位置，其中第一隔室106a與第一基板固持器108a定位在由高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110支撐的第一基板116a之下。在圖1b中，第一基板固持器108a升高來支撐第一基板116a，并且從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收第一基板116a。在圖1c中，第一基板固持器108a降低來將第一基板116a定位于可移動(dòng)槽102的第一隔室106a內(nèi)。可移動(dòng)槽102的第一隔室106a然后填充有清洗化學(xué)品。

范例的清洗化學(xué)品包括酸或堿、hcl酸、hf酸、有機(jī)堿、四甲基氫氧化銨(tmah)、氫氧化銨、另一ph調(diào)整物等等。在一些實(shí)施例中，在基板被裝載進(jìn)可移動(dòng)槽102中之前，可基于在基板上執(zhí)行的處理來選擇或設(shè)定在可移動(dòng)槽102的任一隔室106a、106b中所用的清洗化學(xué)品和/或清洗化學(xué)品的ph。例如，可移動(dòng)槽102中所用的化學(xué)品可與在基板裝載至漂洗與干燥系統(tǒng)100中之前用于清洗基板的刷盒或刷擦工具中所用的化學(xué)品相同。其他范例的清洗化學(xué)品包括可從康乃狄克州(ct)的丹伯里(danbury)的atmi取得的planarclean、可從美國維吉尼亞州(va)的里奇蒙(richmond)的wakochemicals取得的cx100、可從賓夕法尼亞州(pa)的阿倫敦(allentown)的airproducts取得的cp98、和/或任何其他合適的化學(xué)品。

參見圖1d，可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第二裝載位置，其中第二隔室106b與第二基板固持器108b定位在由高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110支撐的第二基板116b之下。在圖1e中，第二基板固持器108b升高來支撐第二基板116b，并且從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收第二基板116b。在圖1f中，第二基板固持器108b降低來將第二基板116b定位于可移動(dòng)槽102的第二隔室106b內(nèi)?？梢苿?dòng)槽102的第二隔室106b然后填充有清洗化學(xué)品。用于填充第一隔室106a的相同或不同的化學(xué)品可用于填充第二隔室106b。第一和/或第二基板116a、116b可暴露至清洗化學(xué)品達(dá)任何合適的時(shí)間。在一些實(shí)施例中，第一和/或第二基板116a、116b可暴露至可移動(dòng)槽102內(nèi)的清洗化學(xué)品達(dá)至少5秒，在一些實(shí)施例中至少10秒，且在一些實(shí)施例中至少20秒。其他的暴露時(shí)間也可使用。例如，不同的暴露時(shí)間可用于不同的化學(xué)品、不同濃度的化學(xué)添加劑等。

在圖1g中，可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一干燥位置，其中第一隔室106a定位在干燥站104之下。在圖1h中，第一基板固持器108a通過干燥站104卸除且升高第一基板116a，以在第一基板116a從可移動(dòng)槽102的第一隔室106a通過干燥站104卸除時(shí)，利用漂洗流體來漂洗第一基板116a并且干燥第一基板116a。例如，漂洗流體源112a、112b可產(chǎn)生均勻的漂洗流體簾幕(例如，瀑布)，第一基板116a可移動(dòng)通過漂洗流體簾幕，有效地漂洗基板116a的兩側(cè)。從漂洗流體簾幕之上的干燥蒸汽源114a、114b加入的溶劑氣體流(例如，氮?dú)?ipa)可促成通過馬蘭各尼處理來有效地干燥第一基板116a。透過橫跨基板116a的長度的均勻的漂洗流體流，可提供基板116a的穩(wěn)健漂洗與干燥。

在利用干燥站104的漂洗與干燥期間，范例性基板行進(jìn)速率的范圍為大約15至35毫米/秒，且在一些實(shí)施例中為大約20至30毫米/秒，但是可使用較快或較慢的行進(jìn)速率。

在圖1i中，第一基板116a通過干燥站104，并且可從第一基板固持器108a移除。在一些實(shí)施例中，第一基板116a可改變定向(例如，通過適當(dāng)?shù)臋C(jī)構(gòu)而從垂直轉(zhuǎn)換至水平，或反之亦然，如同下文進(jìn)一步敘述的，且如同虛線所示)。

在圖1j中，從可移動(dòng)槽102的第一隔室106a排放清洗化學(xué)品，且第一基板固持器108a降回至第一隔室106a中。如同上述，在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102中的每一隔室106a、106b的體積可保持為小的，以促成快速的排放與填充序列。例如，在一些實(shí)施例中，每一隔室106a、106b的體積可為大約2.5公升或更小，且在一些實(shí)施例中可為大約2公升或更小。可使用其他的體積。在一些實(shí)施例中，第一隔室106a和/或第二隔室106b可在小于大約15秒內(nèi)排放與重新填充，且在一些實(shí)施例中可在小于大約10秒內(nèi)排放與重新填充。

如同圖1k所示，可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一裝載位置，其中第一隔室106a與第一基板固持器108a定位在由高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110支撐的第三基板116c之下。在圖1l中，第一基板固持器108a升高來支撐第三基板116c，并且從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收第三基板116c。在圖1m中，第一基板固持器108a降低來將第三基板116c定位于可移動(dòng)槽102的第一隔室106a內(nèi)?？梢苿?dòng)槽102的第一隔室106a然后填充有清洗化學(xué)品。

如同前述，可使用相同或不同的化學(xué)品來填充第一隔室106a與第二隔室106b。第一、第二和/或第三基板116a、116b、116c可暴露至清洗化學(xué)品達(dá)任何合適的時(shí)間。在一些實(shí)施例中，基板116a、116b、116c可暴露至可移動(dòng)槽102內(nèi)的清洗化學(xué)品達(dá)至少5秒，在一些實(shí)施例中至少10秒，且在一些實(shí)施例中至少20秒。其他的暴露時(shí)間也可使用。例如，不同的暴露時(shí)間可用于不同的化學(xué)品、不同濃度的化學(xué)添加劑等。

可移動(dòng)槽102可移動(dòng)至第二干燥位置，其中第二隔室106b定位在干燥站104之下。在所示的實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102的尺寸設(shè)計(jì)成使得當(dāng)?shù)谝桓羰?06a定位在高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110之下時(shí)，第二隔室106b定位在干燥站104之下(即，第二干燥位置與第一裝載位置對(duì)于可移動(dòng)槽102為相同的)。一般來說，這可能并非如此，取決于以下因素：第一與第二隔室106a、106b之間的距離、第一與第二基板固持器108a、108b的位置、高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110的位置、基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110與干燥站104之間的距離等等。

在圖1n中，第二基板固持器108b通過干燥站104卸除且升高第二基板116b，以在第二基板116b從可移動(dòng)槽102的第二隔室106b通過干燥站104卸除時(shí)，利用漂洗流體來漂洗第二基板116b并且干燥第二基板116b。例如，漂洗流體源112a、112b可產(chǎn)生均勻的漂洗流體簾幕(例如，瀑布)，第二基板116b可移動(dòng)通過漂洗流體簾幕，有效地漂洗基板116b的兩側(cè)。從漂洗流體簾幕之上的干燥蒸汽源114a、114b加入的溶劑氣體流(例如，氮?dú)?ipa)可促成通過馬蘭各尼處理來有效地干燥第二基板116b。透過橫跨基板的長度的均勻的漂洗流體流，可提供基板116b的穩(wěn)健漂洗與干燥。

在圖1o中，第二基板116b通過干燥站104，并且可從第二基板固持器108b移除。在一些實(shí)施例中，第二基板116b可改變定向(例如，通過適當(dāng)?shù)臋C(jī)構(gòu)而從垂直轉(zhuǎn)換至水平，或反的也然，如同下文進(jìn)一步敘述的，且如同圖1p所示)。

在圖1p中，從可移動(dòng)槽102的第二隔室106b排放清洗化學(xué)品，且第二基板固持器108b降回至第二隔室106b中。

如同圖1q所示，可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第二裝載位置，其中第二隔室106b與第二基板固持器108b定位在由高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110支撐的第四基板116d之下。第二基板固持器108b升高來支撐第四基板116d，并且從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收第四基板116d。在圖1r中，第二基板固持器108b降低來將第四基板116d定位于可移動(dòng)槽102的第二隔室106b內(nèi)?？梢苿?dòng)槽102的第二隔室106b然后填充有清洗化學(xué)品。

上述的步驟可重復(fù)來處理后續(xù)的基板。例如，額外的基板可類似地裝載至可移動(dòng)槽102中，暴露至清洗化學(xué)品達(dá)所需的時(shí)間時(shí)期，定位在干燥位置之下(通過轉(zhuǎn)移可移動(dòng)槽102)，從可移動(dòng)槽卸除通過干燥站，以及在基板從可移動(dòng)槽102卸除通過干燥站104時(shí)，利用漂洗流體來漂洗并且干燥。其他的裝載、卸除、漂洗和/或干燥序列也可使用。

圖1s根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，為用于漂洗與干燥基板的第一替代系統(tǒng)100'的示意側(cè)視圖。參見圖1s，系統(tǒng)100'包括可移動(dòng)槽102與干燥站104。在圖1s的實(shí)施例中，干燥站104為固定的。但是，在其他實(shí)施例中，干燥站104可為可移動(dòng)的(和/或槽102可為固定的)。

圖1s的可移動(dòng)槽102包括單一可填充且可排放的隔室106c，可填充且可排放的隔室106c配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽102的隔室106c內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品。可移動(dòng)槽102可移動(dòng)于裝載位置l1與干燥位置d1之間(如圖所示)。

圖1s的系統(tǒng)100'可類似于圖1a至圖1r的系統(tǒng)100來操作，但是一次處理單一基板?？梢苿?dòng)槽102的隔室106c包括基板固持器108c，基板固持器108c配置為固持可移動(dòng)槽102內(nèi)的基板、當(dāng)可移動(dòng)槽102位于裝載位置l1處時(shí)從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110接收基板(例如，圖1s的基板116e)、將基板116e暴露至隔室106c內(nèi)的清洗化學(xué)品達(dá)預(yù)定的時(shí)間時(shí)期、以及當(dāng)可移動(dòng)槽102位于干燥位置d1處時(shí)從可移動(dòng)槽102的隔室106c通過干燥站104卸除基板116e。

用于漂洗與干燥基板的所述系統(tǒng)可配置為：(1)當(dāng)可移動(dòng)槽位于裝載位置處時(shí)，將基板裝載至可移動(dòng)槽中；(2)利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽；(3)利用清洗化學(xué)品來處理基板達(dá)預(yù)定的時(shí)間時(shí)期；(4)移動(dòng)可移動(dòng)槽至干燥位置；(5)從可移動(dòng)槽通過干燥站卸除基板；以及(6)當(dāng)基板從可移動(dòng)槽通過干燥站卸除時(shí)，利用漂洗流體來漂洗基板并且干燥基板。

圖1t為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于漂洗與干燥基板的第二替代系統(tǒng)100”的示意側(cè)視圖。參見圖1t，系統(tǒng)100'包括位于裝載位置l1處的第一基板固持器108a以及位于干燥位置d1處的第二基板固持器108b。取代使用可移動(dòng)槽來將基板移動(dòng)于裝載位置l1與干燥位置d1之間，提供轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)來將裝載至第一基板固持器108a上的基板轉(zhuǎn)移至第二基板固持器108b。例如，可使用基板升降機(jī)120來升舉基板離開第一基板固持器108a，并且將基板轉(zhuǎn)移至第二基板固持器108b。基板升降機(jī)120可直線地和/或旋轉(zhuǎn)地將基板轉(zhuǎn)移至第一與第二基板固持器108a、108b之間，舉例來說。

如同圖1t所示，因?yàn)闆]有使用可移動(dòng)槽，裝載位置l1與干燥位置d1兩者都可包括清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122a、122b，例如噴灑噴嘴、噴灑桿、瀑布設(shè)備等等。清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122a可用清洗化學(xué)品來噴灑和/或涂覆位于裝載位置l1處的基板，且清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122b可噴灑和/或涂覆位于干燥位置d1處的基板。通過在兩個(gè)位置處利用清洗化學(xué)品來涂覆基板，在利用干燥站104來漂洗與干燥之前，通過將基板暴露至清洗化學(xué)品達(dá)預(yù)定的時(shí)間，清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122a與122b可操作類似于可移動(dòng)槽102。

圖1t的系統(tǒng)100”可類似于圖1s的系統(tǒng)100'來操作。第一基板116f可裝載至位于裝載位置l1處的第一基板固持器108a上。在裝載位置l1處，使用清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122a，第一基板116f可噴灑有清洗化學(xué)品，并且轉(zhuǎn)移至干燥位置d1(使用基板升降機(jī)120)。然后在干燥位置d1處，使用清洗化學(xué)品傳送機(jī)構(gòu)122b，基板116f可噴灑額外的清洗化學(xué)品，直到基板116f已經(jīng)暴露至清洗化學(xué)品達(dá)所需的和/或預(yù)定的時(shí)間時(shí)期。之后，基板116f可通過干燥站104轉(zhuǎn)移，以漂洗與干燥基板116f，如同先前所述。一旦基板116f離開第一基板固持器108a，第一基板固持器108a可用來從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110取得第二基板116g，以在系統(tǒng)100'內(nèi)處理。

圖2a為根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例所提供的漂洗與干燥系統(tǒng)200的另一范例實(shí)施例的透視圖。圖2b與圖2c分別為圖2a的可移動(dòng)槽102的范例實(shí)施例的透視圖與前視剖面圖。參見圖2a，系統(tǒng)200包括可移動(dòng)槽102與干燥站104。在圖2a的實(shí)施例中，干燥站104為固定的。但是，在其他實(shí)施例中，干燥站104可為可移動(dòng)的(和/或槽102可為固定的)。

可移動(dòng)槽102包括第一可填充且可排放的隔室106a以及第二可填充且可排放的隔室106b，第一可填充且可排放的隔室106a配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽102的第一隔室106a內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品；且第二可填充且可排放的隔室106b配置為固持清洗化學(xué)品，以將可移動(dòng)槽102的第二隔室106b內(nèi)的基板暴露至清洗化學(xué)品。在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可僅包括單一可填充且可排放的隔室或者兩個(gè)以上的可填充且可排放的隔室。

參見圖2b，第一隔室106a是示出為具有形成在第一隔室106a的上表面內(nèi)的圓齒狀的區(qū)域202。這些圓齒狀的區(qū)域202為槽材料移除的上表面區(qū)域，以在清洗和/或漂洗容納在第一隔室106a中的基板期間和/或在基板從第一隔室106a卸除期間，協(xié)助清洗化學(xué)品、漂洗流體等等在第一隔室106a的上表面之上流動(dòng)。例如，圓齒狀的區(qū)域202所提供的較尖銳邊緣可協(xié)助克服與清洗化學(xué)品和/或漂洗流體相關(guān)的表面張力。第二隔室106b可類似地配置。其他形狀和/或結(jié)構(gòu)也可用于減少表面張力效果。

在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可由peek、聚偏二氟乙烯(pvdf)、聚四氟乙烯(ptfe)、具有ptfe涂層的金屬、聚丙烯等等形成。任何其他合適的槽材料也可使用。

如同圖2a與圖2b所示，溢流堰204可提供在系統(tǒng)200內(nèi)裝載、卸除、清洗、漂洗和/或干燥期間捕獲從第一和/或第二隔室106a、106b溢流出的清洗化學(xué)品、漂洗流體、兩者的組合等等。溢流堰204可包括一個(gè)或多個(gè)排放管206(圖2b；圖2a中未示出)，用于促進(jìn)來自溢流堰204的流體的移除和/或再利用。

可移動(dòng)槽102的第一隔室106a包括第一基板固持器108a，且可移動(dòng)槽102的第二隔室106b包括第二基板固持器108b，如同先前所述。圖2c例示第一基板固持器108a的范例實(shí)施例。第二基板固持器108b可類似地配置。

在一些實(shí)施例中，第一和/或第二基板固持器108a、108b可包括框體208，框體208具有多個(gè)基板接觸支撐部209a-d，配置為接觸與支撐基板。這些支撐部可為v形或其他形狀，以促進(jìn)在基板固持器108a、108b從流體浴移除時(shí)從基板固持器108a、108b排放流體。在一些實(shí)施例中，一個(gè)或多個(gè)基板接觸支撐部209a-d可包括真空端口(未示出)，用于將真空供應(yīng)于一個(gè)或多個(gè)支撐部209a-d處，以進(jìn)一步協(xié)助流體移除。額外地或替代地，狹縫形真空端口211可設(shè)置于支撐部209b與209c之間。真空可經(jīng)由真空入口213a-b供應(yīng)至一個(gè)或多個(gè)真空端口，舉例來說。一個(gè)或多個(gè)真空端口可操作來在沿著基板的底部邊緣的一個(gè)或多個(gè)位置處供應(yīng)真空。因此，可移除從前可能聚集在此種基板支撐處和/或沿著基板的底部邊緣聚集的液體殘留物。范例性基板固持器在先前被并入的于2015年1月9日申請(qǐng)的美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/593,841號(hào)中描述?？墒褂萌魏纹渌线m的基板固持器。

在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可具有基于基板固持器108a和/或108b的形狀的內(nèi)部形狀。例如，如同圖2c所示，第一隔室106a具有大致遵循第一基板固持器108a的輪廓的形狀?？梢苿?dòng)槽102的第二隔室106b可類似地塑形。以此方式，每一隔室106a、106b的內(nèi)部體積可減小，以允許消耗較少的清洗化學(xué)品并且將每一隔室較快填充與排放。

在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102的每一隔室106a、106b可包括歧管216a、216b(以虛線示出)，歧管216a、216b具有在可移動(dòng)槽102的占地面積內(nèi)的排放閥/連接管218a、218b與填充閥/連接管220a、220b(圖2c)二者。排放管可設(shè)置成從每一隔室106a、106b至每一個(gè)相應(yīng)的歧管216a、216b，以允許每一隔室106a、106b的排放和/或填充。如同圖2c所示，排放管222將第一隔室106a的底部耦接至第一歧管216a。在一些實(shí)施例中，排放管222可有離水平面大約2至10度的角度，以促進(jìn)第一隔室106a的快速排放。第二隔室106b的排放管(未圖標(biāo))可類似地配置?？墒褂闷渌呐欧殴芙嵌?。

在一些實(shí)施例中，歧管216a、216b可經(jīng)由在從槽主體突伸的奶嘴部224a、224b上的徑向密封(未示出)而被密封至槽主體。在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中，第一與第二隔室106a、106b可機(jī)械加工成用于形成槽102的材料，以允許每一隔室的復(fù)雜幾何形狀(例如，輪廓塑形成基板固持器的形狀，以減少每一隔室106a、106b的體積)。在一些實(shí)施例中，槽102的外部(側(cè)部)表面可在槽102組裝時(shí)熱配接和/或焊接至中心核心。

在一些實(shí)施例中，排放管和/或歧管216a、216b可設(shè)計(jì)成使得每一隔室106a、106b的排放點(diǎn)為每一隔室中的最低點(diǎn)(例如，以改良排放)。排放閥218a、218b可整合于槽102，以允許每一隔室106a、106b的快速排放。在一些實(shí)施例中，填充閥220a、220b可位于排放閥218a、218b的外部，如圖所示。這可允許進(jìn)來的流體快速進(jìn)入槽102中，而沒有或很少飛濺。在基板處理之后從第一與第二隔室106a、106b快速排放清洗流體可協(xié)助確保懸浮在流體中的粒子被沖出，并且不會(huì)附著至槽102的壁部。

在一些實(shí)施例中，且如同圖2a所示，第一基板固持器108a可耦接至第一支撐構(gòu)件226a，第一支撐構(gòu)件226a滑動(dòng)地耦接至第一導(dǎo)軌228a(耦接至可移動(dòng)槽102)，且第二基板固持器108b可耦接至第二支撐構(gòu)件226b，第二支撐構(gòu)件226b滑動(dòng)地耦接至第二導(dǎo)軌228b(耦接至可移動(dòng)槽102)。第一致動(dòng)器230a(例如，線性電機(jī))可使第一支撐構(gòu)件226a沿著第一導(dǎo)軌228a升高和/或降低，這反過來使第一基板固持器108a在可移動(dòng)槽102的第一隔室106a內(nèi)升高和/或降低。同樣地，第二致動(dòng)器230b(例如，線性電機(jī))可使第二支撐構(gòu)件226b沿著第二導(dǎo)軌228b升高和/或降低，這反過來使第二基板固持器108b在可移動(dòng)槽102的第二隔室106b內(nèi)升高和/或降低。

如同圖2a所示，在一些實(shí)施例中，可移動(dòng)槽102可經(jīng)由基座板232來支撐，且干燥站104可使用支撐板234與支撐框體236來支撐于可移動(dòng)槽102之上。例如，基座板232可使用一個(gè)或多個(gè)滑動(dòng)軸承或軌道238a-b而耦接至可移動(dòng)槽102，滑動(dòng)軸承或軌道238a-b允許可移動(dòng)槽102相對(duì)于基座板232轉(zhuǎn)移(在致動(dòng)器的控制之下，例如電機(jī)239，以虛線示出)。

在圖2a的實(shí)施例中，干燥站104包括耦接至支撐框體236的瀑布型漂洗流體源112a、112b，用于通過干燥站104將漂洗流體供應(yīng)至基板的前側(cè)與后側(cè)。其他漂洗流體源可包括噴嘴、噴灑桿、或用于將漂洗流體傳送至基板的任何其他合適的機(jī)構(gòu)。任何合適的漂洗流體都可使用(例如，去離子水、具有可減少表面張力的漂洗劑的去離子水、氣體注入式去離子水(例如，注入有o3、co2、n2等的去離子水))。在一些實(shí)施例中，通過強(qiáng)迫流體流過狹窄的平面狹縫(例如，形成在兩個(gè)形成瀑布部或板之間)而形成瀑布源。例如，漂洗流體可引入至第一氣室中，并且行進(jìn)通過受限的流體路徑至第二氣室，以在漂洗流體離開受限的流體路徑并且擴(kuò)展進(jìn)入第二氣室中時(shí)，隨著漂洗流體壓力減小而產(chǎn)生均勻的壓力分布。漂洗流體然后可離開瀑布部之間形成的狹縫而形成漂洗流體瀑布。范例性瀑布設(shè)備在先前被并入的于2014年12月19日申請(qǐng)的美國申請(qǐng)案序號(hào)第62/094,938號(hào)中?？墒褂萌魏纹渌线m的漂洗流體源。

干燥站104也可包括干燥蒸汽源114a、114b，用于將干燥蒸汽(例如，溶劑蒸汽)傳送至在基板上形成的前側(cè)和/或后側(cè)漂洗流體彎月面，前側(cè)和/或后側(cè)漂洗流體彎月面是在干燥站104的漂洗與干燥操作期間在基板經(jīng)過漂洗流體源112a、112b且漂洗流體噴灑在基板時(shí)形成。在此種實(shí)施例中，當(dāng)基板通過干燥站104時(shí)，基板可受到馬蘭各尼干燥。在利用系統(tǒng)200的馬蘭各尼干燥期間，與漂洗流體混溶的溶劑蒸汽(例如，ipa)引入至每一流體彎月面，每一流體彎月面在基板升舉通過漂洗流體源112a、112b時(shí)形成。溶劑蒸汽沿著漂洗流體的表面被吸收，所吸收的蒸汽的濃度在每一流體彎月面的頂端處較高。所吸收的蒸汽的較高濃度導(dǎo)致在每一流體彎月面的頂端處的表面張力相較于大部分漂洗流體來說較低，這導(dǎo)致漂洗流體從每一干燥的流體彎月面朝向漂洗流體流動(dòng)。此種流動(dòng)已知為馬蘭各尼流動(dòng)，并且可用來達(dá)成基板干燥，而不會(huì)在基板上留下斑紋、斑點(diǎn)、或漂洗流體殘留物。

在一些實(shí)施例中，漂洗流體源112a、112b和/或干燥蒸汽源114a、114b的位置、高度與/或旋轉(zhuǎn)可相對(duì)于支撐框體236來調(diào)整。例如，可調(diào)整的夾具、滑動(dòng)軸承、調(diào)整螺釘或螺栓等(參見例如，調(diào)整夾具237)可用于調(diào)整漂洗流體源112a、112b和/或干燥蒸汽源114a、114b的高度和/或漂洗流體源112a、112b和/或干燥蒸汽源114a、114b之間的間距。類似地，樞轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(未示出)(例如，槽化導(dǎo)軌)可用于調(diào)整每一漂洗流體源112a、112b和/或干燥蒸汽源114a、114b的旋轉(zhuǎn)?；?32、支撐板234和/或支撐框體236可由任何合適的材料形成，例如鋁、不銹鋼、peek、上述的組合等等。

夾持器設(shè)備240可在干燥站104的輸出處提供。在所示的實(shí)施例中，夾持器設(shè)備240包括多個(gè)下指部242a-b，與可樞轉(zhuǎn)指部244a-b來接觸和/或支撐基板的邊緣。一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器(未示出)可打開與關(guān)閉夾持器設(shè)備240。在一些實(shí)施例中，夾持器設(shè)備240可將基板的定向在垂直定向與水平定向之間改變(經(jīng)由未示出的一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器)。在一些實(shí)施例中，在轉(zhuǎn)換至垂直定向時(shí)，第一與第二樞轉(zhuǎn)指部244a、244b的第一與第二邊緣支撐特征245a、245b可接觸于基板的邊緣，并且將夾持力施加至基板的邊緣。此夾持力在第一與第二樞轉(zhuǎn)指部244a、244b以及第一與第二下指部242a、242b之間夾緊基板，并且固持基板。范例性夾持器設(shè)備在先前被并入于2015年1月21日申請(qǐng)的美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/602,094號(hào)(事務(wù)所案號(hào)為no.22600)中描述。任何其他合適的夾持和/或基板支撐設(shè)備都可用來在漂洗與干燥系統(tǒng)200內(nèi)的漂洗/干燥操作之后，接觸、移除和/或支撐來自基板固持器108a、108b中的一個(gè)的基板。

在一些實(shí)施例中可使用補(bǔ)充干燥設(shè)備，以進(jìn)一步協(xié)助干燥處理。例如，基板邊緣殘留物移除設(shè)備246(以虛線示出)可配置為消除或最少化在基板底部處和/或在基板固持器的支撐接觸點(diǎn)處的漂洗流體，以免在漂洗/干燥處理之后留下漂洗流體(例如，干燥蒸汽源114a、114b之后)。范例實(shí)施例可包括兩件式組件，由下主體與上板形成。氣體可通過該組件流動(dòng)并且離開，在一些實(shí)施例中，經(jīng)由該組件的兩部件之間形成的薄狹縫來維持層狀流動(dòng)。該組件可角度朝下，且在一些實(shí)施例中，只有當(dāng)基板的下三分之一通過狹縫時(shí)才啟用。該組件可啟用來在基板的主表面上產(chǎn)生蒸汽或氣體簾幕，蒸汽或氣體簾幕可將任何殘留物推離基板面與邊緣。范例性干燥設(shè)備在先前被并入的于2015年1月21日申請(qǐng)的美國申請(qǐng)案序號(hào)第14/602,114號(hào)(事務(wù)所案號(hào)為no.22563)中描述。其他合適的干燥設(shè)備也可使用。

在一些實(shí)施例中，漂洗與干燥系統(tǒng)200可包括控制器248，控制器248配置為用來控制系統(tǒng)200的操作的至少一部分。例如，控制器248可配置為控制槽102的移動(dòng)(經(jīng)由電機(jī)239)、升高和/或降低基板固持器108a、108b(經(jīng)由電機(jī)230a、230b)、填充與排放槽102的第一與第二隔室106a、106b(經(jīng)由歧管216a、216b)、漂洗和/或干燥基板(經(jīng)由漂洗流體源112a、112b、干燥蒸汽源114a、114b和/或基板邊緣殘留物移除設(shè)備246)、夾持器240的夾持和/或旋轉(zhuǎn)，以將基板的定向從垂直改變至水平等等?？刂破?48可為處理器，例如微處理器、中央處理單元(cpu)、微控制器、專用硬件電路、上述的組合等等，舉例來說?？刂破?48可包括計(jì)算機(jī)程序碼和/或一個(gè)或多個(gè)計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，用于執(zhí)行本文所述的一個(gè)或多個(gè)方法中的至少一部分。本文所述的每一計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品可由計(jì)算機(jī)可讀取的非瞬時(shí)媒介來承載(例如，軟盤、光盤、dvd、硬盤、隨機(jī)存取內(nèi)存等)。

圖2a至圖2c的系統(tǒng)200可例如用類似于參照?qǐng)D1a至圖1r所述的程序的方式來操作。其他的操作序列也可使用。

在至少一個(gè)實(shí)施例中，控制器248可配置為控制漂洗與干燥系統(tǒng)200來執(zhí)行以下一者或多者：(1)使用例如電機(jī)239來將可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一裝載位置；(2)使用第一支撐構(gòu)件226a、第一基板固持器108a與第一致動(dòng)器230a，將第一基板從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110(圖1a)裝載至可移動(dòng)槽102的第一隔室106a中；(3)使用第一歧管216a，利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽102的第一隔室106a；(4)移動(dòng)可移動(dòng)槽102至第二裝載位置(例如，使用電機(jī)239)；(5)使用第二支撐構(gòu)件226b、第二基板固持器108b與第二致動(dòng)器230b，將第二基板從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110(圖1a)裝載至可移動(dòng)槽102的第二隔室106b中；(6)使用第二歧管216b，利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽102的第二隔室106b；(7)將可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一干燥位置(其中第一隔室106a在干燥站104之下)；(8)從可移動(dòng)槽102的第一隔室106a通過干燥站104卸除第一基板(使用第一基板固持器108a)；(9)當(dāng)?shù)谝换鍙目梢苿?dòng)槽102的第一隔室106a通過干燥站104卸除時(shí)，使用漂洗流體源112a、112b與干燥蒸汽源114a、114b，利用漂洗流體來漂洗第一基板并且干燥第一基板；(10)排放可移動(dòng)槽102的第一隔室106a(經(jīng)由第一歧管216a)；(11)將可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第一裝載位置；(12)從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110將第三基板裝載至可移動(dòng)槽102的第一隔室106a中；(13)利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽102的第一隔室106a；(14)將可移動(dòng)槽102定位于第二干燥位置處(其中第二隔室106b在干燥站104的下)；(15)從可移動(dòng)槽102的第二隔室106b通過干燥站104卸除第二基板；(16)當(dāng)?shù)诙鍙目梢苿?dòng)槽102的第二隔室106b通過干燥站104卸除時(shí)，利用漂洗流體來漂洗第二基板并且使用干燥站104來干燥第二基板；(17)排放可移動(dòng)槽102的第二隔室106b(經(jīng)由第二歧管216b)；(18)將可移動(dòng)槽102移動(dòng)至第二裝載位置；(19)從高架基板轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)110將第四基板裝載至可移動(dòng)槽102的第二隔室106b中；和/或(20)利用清洗化學(xué)品來填充可移動(dòng)槽102的第二隔室106b。其他清洗、漂洗和/或干燥處理和/或序列也可使用。通常，可移動(dòng)槽102可用任何合適的方式沿著可編程軸移動(dòng)。

在一些實(shí)施例中，通過干燥站104的基板可使用基板邊緣殘留物移除設(shè)備246來被進(jìn)一步干燥。在一些實(shí)施例中，通過干燥站104的基板可使用夾持器240從基板固持器108a、108b移除。夾持器240可將基板從垂直旋轉(zhuǎn)至水平定向，以進(jìn)行后續(xù)的處理，舉例來說?？刂破?48可控制基板邊緣殘留物移除設(shè)備246與夾持器240中的一者或多者的操作。

當(dāng)漂洗流體源112a、112b在漂洗/干燥期間噴灑漂洗流體進(jìn)入可移動(dòng)槽102的第一和/或第二隔室106a、106b中時(shí)，隔室會(huì)溢流。在使用每分鐘數(shù)公升的漂洗流體的實(shí)施例中，隔室106a、106b的溢流會(huì)快速地發(fā)生。溢流堰204可捕獲此溢流液體，且此液體可繞送至處理排放管。流入隔室106a和/或106b中的漂洗流體(例如，di水)稀釋隔室中的清洗化學(xué)品的化學(xué)濃度，使清洗化學(xué)品的ph較接近漂洗流體的最終ph。此ph轉(zhuǎn)變和/或梯度可減少任何粒子重新附著至可移動(dòng)槽102正在處理的基板。為了進(jìn)一步減少粒子的重新附著，隔室106a和/或106b可快速地填充與排放。在一些實(shí)施例中，每一隔室106a、106b可在大約5-10秒內(nèi)填充，并且在大約4-7秒內(nèi)排放。其他填充和/或排放時(shí)間也可使用。

使用可移動(dòng)槽102內(nèi)的清洗化學(xué)品可減少因?yàn)閜h震蕩所導(dǎo)致的粒子重新附著。例如，一些實(shí)施例可包括：在基板被裝載至可移動(dòng)槽102中之前，基于在基板上執(zhí)行的處理，設(shè)定用于可移動(dòng)槽102內(nèi)的清洗化學(xué)品的ph。針對(duì)每一已處理的基板，通過排放每一隔室106a、106b且利用新的清洗化學(xué)品來重新填充每一隔室106a、106b，可進(jìn)一步減少粒子重新附著。(例如，因?yàn)榱Ｗ硬粡亩鄠€(gè)基板積累在相同的清洗流體中，可減少粒子重新附著，且可改良基板之間的均勻性/一致性)。兩個(gè)基板處理隔室的使用允許在裝載/卸除操作期間基板的浸漬，這提高了系統(tǒng)的產(chǎn)量。

本文所提供的實(shí)施例可向基板表面提供非接觸式化學(xué)最終清洗，之后再進(jìn)行單次的漂洗與馬蘭各尼干燥步驟。因?yàn)榉驳猛?vanderwaals)作用力，化學(xué)機(jī)械刷擦在移除附著于基板表面的粒子方面是有效的。刷子的機(jī)械作用提供流體動(dòng)力學(xué)的拉曳力來打破粒子與基板表面之間鍵結(jié)。在刷擦期間所使用的化學(xué)品成分與ph可被調(diào)整，使得基板表面與要從基板表面移除的粒子兩者具有相同的電荷正負(fù)，促進(jìn)基板表面與粒子之間的靜電排斥。當(dāng)基板表面與粒子之間的鍵結(jié)打破時(shí)，粒子會(huì)留在基板表面附近的邊界層中，且靜電排斥可防止粒子重新沉積。當(dāng)基板從刷擦移動(dòng)至漂洗槽時(shí)，基板表面的邊界層中的ph的急劇變化可能導(dǎo)致粒子重新沉積在基板表面上。使用可移動(dòng)槽102內(nèi)的清洗化學(xué)品具有ph類似于刷擦期間所用的清洗化學(xué)品可以減少此種粒子重新沉積/重新附著。

前面的敘述僅揭示本發(fā)明的范例實(shí)施例。上面揭示的落入本發(fā)明的范圍內(nèi)的系統(tǒng)、設(shè)備、與方法的修改對(duì)于本領(lǐng)域本領(lǐng)域技術(shù)人員為顯而易見的。例如，在一些實(shí)施例中，本文所述的漂洗與干燥系統(tǒng)與方法可配置為處理水平定向的基板。因此，雖然本發(fā)明已經(jīng)結(jié)合其范例實(shí)施例來揭示，但是應(yīng)理解到，如同以下的權(quán)利要求所界定的，其他實(shí)施例可落入本發(fā)明的范圍內(nèi)。