技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種去除半導(dǎo)體元件表面上的光致抗蝕劑的清洗液，所述半導(dǎo)體元件具有低介電常數(shù)膜(Low?k膜)和包含10原子％以上的鎢的材料，所述清洗液包含堿土金屬化合物0.001～5質(zhì)量％、無機堿和/或有機堿0.1～30質(zhì)量％、以及水。

技術(shù)研發(fā)人員：尾家俊行;島田憲司
受保護的技術(shù)使用者：三菱瓦斯化學(xué)株式會社
文檔號碼：201580055599
技術(shù)研發(fā)日：2015.10.02
技術(shù)公布日：2017.05.31