具有凈化能力的可再填充的安瓿的制作方法
【專利摘要】一種適于在凈化過程中隔離安瓿和/或工藝管路的流體輸送系統(tǒng)，包含：進(jìn)口控制閥，其將壓縮氣體源連接至可再填充的安瓿；出口控制閥，其將所述可再填充的安瓿連接至使用位置；工藝控制閥，其將工藝管路連接至所述可再填充的安瓿；工藝隔離閥；以及凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，其被布置在所述工藝隔離閥與所述工藝控制閥之間。還公開了一種凈化流體輸送系統(tǒng)的方法，包含：關(guān)閉將工藝管路連接至可再填充的安瓿的工藝隔離閥；通過凈化供給閥（例如三通凈化供給閥）供給凈化氣體；以及將聯(lián)接至所述工藝管路的工藝控制閥循環(huán)打開和關(guān)閉至少一次。還描述了一種用于再填充安瓿并且凈化流體供給系統(tǒng)的歧管。
【專利說明】具有凈化能力的可再填充的安瓿
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開內(nèi)容涉及一種包括可再填充的安瓿(ampoule)的流體輸送系統(tǒng)、一種凈化流體輸送系統(tǒng)的方法、以及一種適于凈化流體輸送系統(tǒng)的歧管(manifold)。在多種方面，本公開內(nèi)容涉及在凈化過程中隔離流體輸送系統(tǒng)中的任何工藝管路(process line)和/或安瓿、一種在隔離了工藝管路和/或安瓿的情況下凈化流體輸送系統(tǒng)的方法、以及一種適于在隔離了工藝管路和/或安瓿的情況下凈化流體輸送系統(tǒng)的歧管。雖然本文主要集中于流體輸送系統(tǒng)和用于半導(dǎo)體應(yīng)用的方法，但是本文公開的系統(tǒng)和方法可適用于廣泛的領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]在流體輸送系統(tǒng)的使用中，特別是在期望持續(xù)供給高純度流體(例如，液相或氣相材料)的領(lǐng)域中，常常利用可再填充的安瓿來維持該流體不間斷地流至使用位置(例如，半導(dǎo)體制造工具)。當(dāng)需要再填充該可再填充的安瓿中的流體時(shí)(例如，如通過流體存量監(jiān)測設(shè)備或組件感測到的)，可通過工藝管路將批量輸送系統(tǒng)(bulk delivery system)連接至該可再填充的安瓿，以再填充該安瓿。許多這樣的安瓿能夠在將流體分配至使用位置的同時(shí)被再填充。
[0003]在半導(dǎo)體應(yīng)用中利用的許多流體是易揮發(fā)的。在這些易揮發(fā)的流體的使用中必須極其小心，特別是在取出可再填充的安瓿的過程中?？稍偬畛涞陌碴潮仨毐欢ㄆ诘厝〕觥⑶逑春?或放回，以使在安瓿中積累的污染物最少。從半導(dǎo)體流體輸送系統(tǒng)和歧管中取出安瓿是冗長的過程，該過程目前要求延長的時(shí)間對來自所述系統(tǒng)的流體進(jìn)行凈化。例如，使用常規(guī)凈化方法來清空安瓿以及使工藝管路排回至流體輸送系統(tǒng)可花費(fèi)許多天。所導(dǎo)致的半導(dǎo)體制造工具的停工時(shí)間造成了重大的收入損失。
[0004]因此，本領(lǐng)域一直在尋找系統(tǒng)、歧管和方法的改進(jìn)，用于限制與取出和/或清洗可再填充的安瓿以及凈化工藝管路關(guān)聯(lián)的停工時(shí)間。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本公開內(nèi)容涉及適于在凈化過程中隔離工藝管路和/或安瓿的系統(tǒng)、方法和歧管。
[0006]在一個(gè)方面，本公開內(nèi)容涉及一種適于在凈化過程中隔離安瓿和工藝管路中的任何一個(gè)的流體輸送系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括:進(jìn)口控制閥，其被布置以將壓縮氣體源連接至可再填充的安瓿；出口控制閥，其被布置以將可再填充的安瓿連接至使用位置；工藝控制閥，其被布置以將工藝管路連接至所述可再填充的安瓿；工藝隔離閥；以及凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，其被布置在所述工藝隔離閥與所述工藝控制閥之間。
[0007]在另一個(gè)方面，本公開內(nèi)容涉及一種凈化流體輸送系統(tǒng)的方法，該方法包括:關(guān)閉工藝隔離閥，其中該工藝隔離閥將工藝管路連接至可再填充的安瓿；通過凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)供給凈化氣體，該凈化供給閥聯(lián)接至位于所述工藝隔離閥與所述可再填充的安瓿之間的工藝管路；以及將工藝控制閥循環(huán)打開和關(guān)閉至少一次，該工藝控制閥聯(lián)接至位于所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)與所述可再填充的安瓿之間的工藝管路。
[0008]在又一個(gè)方面，本公開內(nèi)容涉及一種適于再填充安瓿和凈化流體輸送系統(tǒng)的歧管，該歧管包括:進(jìn)口控制閥，其連接至壓縮氣體源；凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，其連接至凈化供給氣體源；工藝隔離閥，其連接至所述凈化供給閥，例如三通凈化供給閥；工藝控制閥，例如三通工藝控制閥，其連接至所述凈化供給閥，例如三通凈化供給閥；真空源閥，其連接至真空源；以及出口控制閥，其連接至所述工藝控制閥(例如三通工藝控制閥)、所述真空源閥、以及旁通閥，其中該旁通閥連接至所述進(jìn)口控制閥。
[0009]根據(jù)隨后的描述和隨附的權(quán)利要求，本公開內(nèi)容的其他方面、特征和實(shí)施方案將更明了。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是根據(jù)本公開內(nèi)容的一個(gè)實(shí)施方案的流體輸送系統(tǒng)和歧管的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]本公開內(nèi)容涉及流體輸送系統(tǒng)、方法，并且涉及用于在這樣的系統(tǒng)的凈化過程中隔尚工藝管路和/或安瓶的歧管。
[0012]在一個(gè)實(shí)施方案中，一個(gè)流體輸送系統(tǒng)適于在凈化過程中隔離安瓿和工藝管路中的任何一個(gè)，其中所述系統(tǒng)包括:進(jìn)口控制閥，其被布置以將壓縮氣體源連接至可再填充的安瓿；出口控制閥，其被布置以將所述可再填充的安瓿連接至使用位置；工藝控制閥，例如三通工藝控制閥，其被布置以將工藝管路連接至所述可再填充的安瓿；工藝隔離閥；以及凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，其被布置在所述工藝隔離閥與所述工藝控制閥之間。
[0013]本公開內(nèi)容的流體輸送系統(tǒng)，通過隔離可再填充的安瓿和/或連接至批量輸送系統(tǒng)的工藝管路，使得能夠快速凈化所述系統(tǒng)。
[0014]除非另有定義，本文使用的術(shù)語應(yīng)被理解為具有與本公開內(nèi)容所涉及的領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員普遍理解的含義相同的含義。還應(yīng)理解，本文使用的術(shù)語應(yīng)被解釋為具有與本說明書和相關(guān)領(lǐng)域的語境一致的含義。
[0015]除非明確記載沒有一個(gè)或多個(gè)元件，本文使用的術(shù)語“包括(comprising)”,包含(including)”以及“具有(having)”應(yīng)被解釋為開放式術(shù)語，其不排除存在一個(gè)或多個(gè)元件。
[0016]本文使用的短語“流體輸送系統(tǒng)”指代適于將流體從安瓿輸送至使用位置的任何系統(tǒng)。在多種實(shí)施方案中，所述安瓿包括可再填充的安瓿。在一個(gè)實(shí)施方案中，流體輸送系統(tǒng)包含歧管，該歧管聯(lián)接至可再填充的安瓿，用于再填充該安瓿并且用于將流體從該安瓿供給至使用位置。
[0017]本文使用的短語“批量輸送系統(tǒng)”指代適于將流體輸送至流體輸送系統(tǒng)和/或可再填充的安瓿的任何系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，批量輸送系統(tǒng)通過工藝管路連接至該流體輸送系統(tǒng)和/或可再填充的安瓶，并且被布置用于再填充該可再填充的安瓶。這樣的一般
類型的批量輸送系統(tǒng)可購自美國康涅狄格州丹伯里市的atmi，inc.，商標(biāo)為Unichem?，包含Unichein# 3000系列和Unichem* 3250批量輸送系統(tǒng)。
[0018]本文使用的關(guān)于“真空源”的術(shù)語“真空”意指用于提供壓力差的低壓。這樣的低壓可以是次大氣壓(subatmospheric pressure)、大氣壓(atmospheric pressure)或低的超大氣壓(low superatmospheric pressure)。所述真空源自身可以包括泵、壓縮機(jī)、鼓風(fēng)機(jī)、排出器(ejector)、噴射器(eductor)、文丘里管(venturi),或用來提供在所述流體輸送系統(tǒng)中必需的真空的其他裝置或設(shè)備。
[0019]如前文討論的，在目前的半導(dǎo)體制造設(shè)施中，凈化整個(gè)流體輸送系統(tǒng)即從工藝管路回到所述流體輸送系統(tǒng)所需要的時(shí)間可數(shù)以日計(jì)。在取出之前，可能需要額外的時(shí)間來充分清空可再填充的安瓿。本系統(tǒng)允許在不凈化工藝管路、不清空安瓿或不影響連接至該批量輸送系統(tǒng)的其他系統(tǒng)的情況下，在取出所述安瓿之前凈化，從而顯著減少了半導(dǎo)體制造工具的停工時(shí)間。因?yàn)樵诟呒兌攘黧w輸送系統(tǒng)中定期取出、維護(hù)或清洗安瓿是必要的，所以本系統(tǒng)、方法和歧管提高了這樣的安瓿管理的效率。
[0020]在一個(gè)實(shí)施方案中，工藝管路將所述批量輸送系統(tǒng)連接至所述液體輸送系統(tǒng)，并且包含用于關(guān)閉位于所述批量輸送系統(tǒng)與所述液體輸送系統(tǒng)之間的管路連接的工藝隔離閥。所述工藝隔離閥允許所述批量輸送系統(tǒng)和從所述工藝隔離閥至所述批量輸送系統(tǒng)的工藝管路在所述系統(tǒng)的凈化過程中被隔離。
[0021]在一些實(shí)施方案中，凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，被布置在所述工藝隔離閥與所述可再填充的安瓿之間，用于將凈化氣體從凈化氣體供給源供給至位于所述工藝隔離閥與所述安瓿之間的工藝管路。
[0022]本文使用的術(shù)語“三通閥”(以及包含任何類型的三通閥，例如三通凈化供給閥和三通工藝控制閥)意指適于連接三個(gè)分立的流體管路或?qū)⒁粋€(gè)流體管路在第二流體管路上除了所述第二流體管路的端點(diǎn)以外的一點(diǎn)連接至所述第二流體管路的閥。應(yīng)認(rèn)識到，可利用多個(gè)閥的特定布置來代替三通閥，包含二通閥的組合、被蓋住一個(gè)閥端口的四通閥等。
[0023]在本公開內(nèi)容的流體輸送系統(tǒng)中采用的任何閥可獨(dú)立地具有手動或自動特性。當(dāng)任何這樣的閥是自動的時(shí)候，它可設(shè)有適合的閥致動器/控制器部件，該閥致動器/控制器部件與中央處理器單元或運(yùn)行監(jiān)測和控制組件操作性地鏈接，由此各個(gè)閥可根據(jù)預(yù)定的運(yùn)行周期被致動以按要求打開/關(guān)閉。
[0024]在又一個(gè)實(shí)施方案中，工藝控制閥，例如三通工藝控制閥，被布置在所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)與所述安瓿之間，用于在所述流體輸送系統(tǒng)的凈化過程中隔離所述安瓿。所述工藝控制閥可包括被布置在三通凈化供給閥與所述安瓿之間的三通工藝控制閥，用于在所述流體輸送系統(tǒng)的凈化過程中旁通所述安瓿。所述工藝控制閥，例如三通工藝控制閥，可連接至出口控制閥和/或流體出口管路。在多種實(shí)施方案中，所述流體出口管路將所述安瓿連接至所述使用位置，并且可聯(lián)接至真空源閥和真空源。在多種實(shí)施方案中，所述流體出口管路連接至處置點(diǎn)(例如，排放管或?yàn)V毒罐)。所述工藝控制閥可包括多個(gè)工藝控制閥，任何所述工藝控制閥可包括三通閥、手動閥、自動閥、二通閥、被蓋住一個(gè)端口的四通閥等。
[0025]本文公開的流體輸送系統(tǒng)可包括進(jìn)口控制閥，該進(jìn)口控制閥通過壓縮氣體供給管路將壓縮氣體源連接至所述安瓿。所述進(jìn)口控制閥可包括多個(gè)進(jìn)口控制閥，任何所述進(jìn)口控制閥可包括手動閥。[0026]本文公開的流體輸送系統(tǒng)可包括旁通閥，該旁通閥將所述壓縮氣體供給管路連接至所述流體出口管路，從而旁通所述安瓿和工藝管路。
[0027]本文公開的流體輸送系統(tǒng)可包括出口控制閥，其連接至工藝控制閥(例如三通工藝控制閥)、化學(xué)制品出口閥、真空源閥、旁通閥、可再填充的安瓿和使用位置中的任何一個(gè)。在多種實(shí)施方案中，出口控制閥和/或化學(xué)制品出口閥控制了從所述安瓿至使用位置的流體輸送。所述出口控制閥可包括多個(gè)出口控制閥，任何所述出口控制閥可包括手動閥。
[0028]本文公開的流體輸送系統(tǒng)提供了對壓縮氣體供給管路、位于所述工藝隔離閥與安瓿之間的工藝管路以及流體出口管路(統(tǒng)稱為“管路”)的凈化。所述流體輸送系統(tǒng)可以可選地用以清空所述安瓿，或替代地僅凈化所述管路而不必清空所述安瓿。在隔離了至所述批量輸送系統(tǒng)的工藝管線的情況下對所述管線的凈化涉及:在所述凈化過程中關(guān)閉所述工藝隔離閥。在隔離了所述安瓿和工藝管路的情況下對所述管路的凈化涉及:關(guān)閉所述工藝隔離閥，以及關(guān)閉所述工藝控制閥(例如三通工藝控制閥)的連接至所述安瓿的一個(gè)路徑，以旁通所述安瓿并且凈化該系統(tǒng)直到所述流體出口管路。
[0029]上述系統(tǒng)的部署中的使用位置可以是任何適合的位置，其中所供給的流體例如用來執(zhí)行工藝、處理或其他利用功能。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述使用位置包括半導(dǎo)體制造位置，該半導(dǎo)體制造位置可例如包括半導(dǎo)體制造工具，所供給的流體在該半導(dǎo)體制造工具中諸如用于淀積、離子注入、刻蝕或其他使用流體的操作或工藝。
[0030]在一個(gè)實(shí)施方案中，公開了一種凈化流體輸送系統(tǒng)的方法,該方法包括:關(guān)閉工藝隔離閥，其中所述工藝隔離閥將工藝管路連接至可再填充的安瓿；通過凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)供給凈化氣體，該凈化供給閥聯(lián)接至位于所述工藝隔離閥與所述可再填充的安瓿之間的工藝管路；以及將工藝控制閥循環(huán)打開和關(guān)閉至少一次，該工藝控制閥聯(lián)接至位于所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)與所述可再填充的安瓿之間的工藝管路。
[0031]這樣的方法可以進(jìn)一步包括啟動聯(lián)接至流體出口管路的真空源，其中所述流體出口管路連接至所述可再填充的安瓿。這樣的方法可以進(jìn)一步包括使凈化氣體流過所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)、進(jìn)口控制閥、出口控制閥以及旁通閥中的任何一個(gè)。這樣的方法可以進(jìn)一步包括關(guān)閉所有閥。這樣的方法可以進(jìn)一步包括維持氣體供給，用于取出所述可再填充的安瓿。這樣的方法可以進(jìn)一步包括隔離所述可再填充的安瓿。
[0032]在所公開的方法的多種實(shí)施方案中，所述進(jìn)口控制閥聯(lián)接至壓縮氣體供給管路，所述出口控制閥聯(lián)接至流體出口管路，并且所述旁通閥聯(lián)接至所述壓縮氣體管路和所述流體出口管路。在另外多種實(shí)施方案中，所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。
[0033]可在如下情況下實(shí)施所述方法:所供給的氣體的使用位置是半導(dǎo)體制造位置，例如半導(dǎo)體制造工具，諸如例如氣相沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、刻蝕設(shè)備、光刻單元、晶片清洗設(shè)備等。
[0034]在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法以關(guān)閉所有閥來啟動，之后是凈化從所述安瓿至使用位置或處置點(diǎn)并且回到所述安瓿的工藝管路。該凈化之后可以是啟動聯(lián)接至流體出口管路的真空源。該啟動步驟之后可以是關(guān)閉所述工藝隔離閥。該關(guān)閉步驟之后可以是將工藝控制閥循環(huán)打開和關(guān)閉至少一次，該工藝控制閥聯(lián)接至位于所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)與所述可再填充的安瓿之間的工藝管路。在多種實(shí)施方案中，所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。在各種實(shí)施方案中，所述循環(huán)打開和關(guān)閉動作發(fā)生多次。[0035]所述循環(huán)之后可以是打開所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)，以啟動凈化氣體的供給。在多種實(shí)施方案中，所述凈化氣體可以是任何惰性氣體，諸如例如氮?dú)?、氬氣、氦氣、氙氣等。打開所述凈化供給閥(例如三通凈化供給閥)之后可以是額外的循環(huán)打開和關(guān)閉所述工藝控制閥。該額外的循環(huán)之后可以是下列中的任何一項(xiàng)或多項(xiàng):(1)關(guān)閉所述工藝控制閥，例如三通工藝控制閥；(2)凈化從所述安瓿至使用位置或處置點(diǎn)的工藝管路(通過所述進(jìn)口控制閥和/或出口控制閥)；(3)關(guān)閉所有閥；(4)維持氣體供給，用于取出所述可再填充的安瓿；以及(5)取出所述安瓿。
[0036]另外一個(gè)實(shí)施方式可被構(gòu)造為適于再填充安瓿和凈化流體輸送系統(tǒng)的歧管，該歧管包括:(a)進(jìn)口控制閥，其連接至壓縮氣體源；(b)凈化供給閥，例如三通凈化供給閥，其連接至凈化供給氣體源；(C)工藝隔離閥，其連接至所述凈化供給閥，例如三通凈化供給閥；(d)工藝控制閥，例如三通工藝控制閥，其連接至所述三通凈化閥；(e)真空源閥，其連接至真空源；以及(f)出口控制閥，其聯(lián)接至所述工藝控制閥(例如三通工藝控制閥)、所述真空源閥和旁通閥，其中所述旁通閥連接至所述進(jìn)口控制閥。
[0037]如公開的這樣的歧管可進(jìn)一步包括下列中的任何一項(xiàng):(a)第二進(jìn)口控制閥，其連接至所述(第一)進(jìn)口控制閥；(b)第二出口控制閥，其連接至所述(第一)出口控制閥；(C)化學(xué)制品出口閥，其連接至所述出口控制閥；以及(d) 二通工藝控制閥，其連接至三通工藝控制閥。在多種實(shí)施方案中，三通凈化供給閥、工藝隔離閥和三通工藝控制閥被布置用于在凈化過程中隔離工藝管路和安瓿中的任何一個(gè)。
[0038]參考下述實(shí)施例進(jìn)一步說明本公開內(nèi)容的優(yōu)點(diǎn)和特征，下述實(shí)施例無論如何都不應(yīng)被理解為限制本公開內(nèi)容的范圍，而是應(yīng)被理解為在本公開內(nèi)容的具體應(yīng)用中用于說明本公開內(nèi)容的一個(gè)實(shí)施方案。
[0039]根據(jù)本公開內(nèi)容的多種實(shí)施方案，可以采用圖1中示意性地示出的類型的系統(tǒng)100，系統(tǒng)100含有:可再填充的安瓿101，用于通過流體出口管路141和出口控制閥143將流體102輸送至使用位置(未示出);壓縮氣體源130，其連接至可再填充的安瓿101，并且用以驅(qū)動來自可再填充的安瓿101的流體102 ;工藝管路111和115，用于再填充可再填充的安瓿101 ;工藝隔離閥113，用于隔離位于批量輸送系統(tǒng)110與工藝隔離閥113之間的工藝管路111 ;凈化供給氣體源120，通過三通凈化供給閥114連接至位于工藝隔離閥113與可再填充的安瓿101之間的工藝管路115 ;以及三通工藝控制閥116，其將工藝管路115連接至流體出口管路141，用于在凈化過程中旁通安瓿101。
[0040]圖1中公開的系統(tǒng)100還可以沿著壓縮氣體供給線路131含有進(jìn)口控制閥134和手動控制閥132，壓縮氣體供給線路131將壓縮氣體源130連接至可再填充的安瓿101。壓縮氣體供給管路131還可以包含旁通閥133，用于旁通可再填充的安瓿101。在多種實(shí)施方案中，所述工藝管路除了三通工藝控制閥116之外還可以包含手動工藝控制閥112。在多種實(shí)施方案中，流體出口管路141包含手動出口控制閥142和/或化學(xué)制品出口閥161。所公開的系統(tǒng)100還可以包含真空源150，其通過真空源閥151連接至流體出口管路141。
[0041]圖1中大體公開的系統(tǒng)100含有歧管，該歧管包含:(a)進(jìn)口控制閥134和/或132，其連接至壓縮氣體源；(b)三通凈化供給閥114，其連接至凈化供給氣體源120 ; (c)工藝隔離閥113，其連接至三通凈化閥114 ;(d)三通工藝控制閥116，其連接至三通凈化閥114 ;(e)真空源閥151，其連接至真空源150 ;以及(f)出口控制閥143和/或142，其連接至三通工藝控制閥116、真空源閥151和旁通閥133，其中所述旁通閥連接至進(jìn)口控制閥134和/或132。
[0042]圖1中公開的一般類型的系統(tǒng)將允許在如下情況下對流體輸送系統(tǒng)100進(jìn)行快速(例如2-3小時(shí))局部(例如在本文公開的歧管內(nèi))凈化:在因關(guān)閉工藝隔離閥113而隔離了位于批量輸送系統(tǒng)110與工藝隔離閥113之間的工藝線路111的情況下，和/或在通過關(guān)閉連接至安瓿101的三通工藝控制閥116的部分并且將凈化從工藝管路115重新導(dǎo)向流體出口管路141來終止工藝管路115與安瓿101之間的連接從而隔離了可再填充的安瓿101的情況下。
[0043]應(yīng)意識到，在本公開內(nèi)容的寬泛范圍內(nèi)，本文描述的任何元件和特征可以與任何一個(gè)或多個(gè)其他元件和特征結(jié)合。
[0044]雖然本文已經(jīng)參照具體方面、特征和例示性實(shí)施方案描述了本公開內(nèi)容，但應(yīng)意識到，本發(fā)明的效用不限于此，而是延伸至并且涵蓋眾多其他變體、改型和替代性實(shí)施方案，如本公開內(nèi)容的領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員基于本文的描述將想到的。因此，如下文要求保護(hù)的本發(fā)明旨在被寬泛地詮釋和解釋為在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)包含所有這些變體、改型和替代性實(shí)施方案。
【權(quán)利要求】
1.一種適于在凈化過程中隔離安瓿和/或工藝管路的流體輸送系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括: 進(jìn)口控制閥，其被布置以將壓縮氣體源連接至可再填充的安瓿； 出口控制閥，其被布置以將所述可再填充的安瓿連接至使用位置； 工藝控制閥，其被布置以將工藝管路連接至所述可再填充的安瓿； 工藝隔離閥；以及 凈化供給閥，其被布置在所述工藝隔離閥與所述工藝控制閥之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括旁通閥，該旁通閥被布置以連接所述進(jìn)口控制閥和所述出口控制閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述進(jìn)口控制閥包括多個(gè)進(jìn)口控制閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中所述多個(gè)進(jìn)口控制閥中的至少一個(gè)是手動的。
5.根據(jù)權(quán)利要 求1所述的系統(tǒng)，其中所述工藝控制閥包括多個(gè)工藝控制閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述多個(gè)工藝控制閥中的至少一個(gè)是三通工藝控制閥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述出口控制閥包括多個(gè)出口控制閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述多個(gè)出口控制閥中的至少一個(gè)是手動的。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括真空源閥，該真空源閥被布置以將真空源連接至所述可再填充的安瓿。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，進(jìn)一步包括化學(xué)制品出口閥，該化學(xué)制品出口閥被布置以將所述出口控制閥連接至所述使用位置。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述使用位置包括半導(dǎo)體制造位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述使用位置包括半導(dǎo)體制造工具。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述凈化供給閥包括三通凈化供給閥。
15.一種凈化流體輸送系統(tǒng)的方法，所述方法包括: 關(guān)閉工藝隔離閥，其中所述工藝隔離閥將工藝管路連接至可再填充的安瓿； 通過凈化供給閥供給凈化氣體，該凈化供給閥聯(lián)接至位于所述工藝隔離閥與所述可再填充的安瓿之間的所述工藝管路；以及 將工藝控制閥循環(huán)打開和關(guān)閉至少一次，該工藝控制閥聯(lián)接至位于所述凈化供給閥與所述可再填充的安瓿之間的所述工藝管路。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述凈化供給閥包括三通凈化供給閥。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括啟動聯(lián)接至流體出口管路的真空源，其中所述流體出口管路連接至所述可再填充的安瓿。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括使凈化氣體流過所述凈化供給閥、進(jìn)口控制閥、出口控制閥和旁通閥中的任何一個(gè)。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述進(jìn)口控制閥聯(lián)接至壓縮氣體供給管路，所述出口控制閥聯(lián)接至流體出口管路，并且所述旁通閥聯(lián)接至所述壓縮氣體管路和所述流體出口管路。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括關(guān)閉所有閥。
21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括維持氣體的供給，用于取出所述可再填充的安咅瓦。
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，進(jìn)一步包括隔離所述可再填充的安瓿。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。
24.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述使用位置包括半導(dǎo)體制造位置。
25.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述使用位置包括半導(dǎo)體制造工具。
26.一種適于再填充安瓿并且凈化流體輸送系統(tǒng)的歧管，所述歧管包括: (a )進(jìn)口控制閥，其連接至壓縮氣體源； (b)凈化供給閥,其連接至凈化供給氣體源； (c)工藝隔離閥，其連接至所述凈化供給閥； Cd)工藝控制閥，其連接至所述凈化供給閥； (e)真空源閥，其連接至真空源；以及 (f)出口控制閥，其連接至所述工藝控制閥、所述真空源閥以及旁通閥，其中所述旁通閥連接至所述進(jìn)口控制閥。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的歧管，其中所述凈化供給閥包括三通凈化供給閥。 27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的歧管，其中所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。
28.根據(jù)權(quán)利26所述的歧管，進(jìn)一步包括下列中的任何一個(gè): (a)第二進(jìn)口控制閥，其連接至所述進(jìn)口控制閥； (b)第二出口控制閥，其連接至所述出口控制閥； (c)化學(xué)制品出口閥，其連接至所述出口控制閥；以及 Cd)所述工藝控制閥包括二通工藝控制閥，該二通工藝控制閥連接至三通工藝控制閥。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的歧管，其中所述凈化供給閥、工藝隔離閥和工藝控制閥被布置用于在凈化過程中隔離工藝管路和/或安瓿。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的歧管，其中所述凈化供給閥包括三通凈化供給閥，并且所述工藝控制閥包括三通工藝控制閥。
【文檔編號】H01L21/02GK103635990SQ201280032520
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2012年5月24日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月28日
【發(fā)明者】R·D·切斯姆, A·科瑞爾 申請人:先進(jìn)技術(shù)材料股份有限公司