專利名稱：基板處理裝置以及基板搬送方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將基板保持在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)而進(jìn)行處理的基板處理裝置、以及這種基板處理裝置中的基板搬送方法。成為處理或搬送的對(duì)象的基板例如包括半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、FED(Field Emission Display場(chǎng)致發(fā)射顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板等。
背景技術(shù)：
對(duì)半導(dǎo)體晶片等基板進(jìn)行處理的基板處理裝置具備有保持基板并使其旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)卡盤、向由該旋轉(zhuǎn)卡盤保持的基板供給處理液的處理液噴嘴。旋轉(zhuǎn)卡盤包括圓盤狀的基座構(gòu)件、直立設(shè)在該基座構(gòu)件的周邊部的多根夾持銷，使這些根夾持銷與基板的周端部抵接而夾持基板。
但是，在這種結(jié)構(gòu)中，在基板外周端面上與夾持銷抵接的部位會(huì)產(chǎn)生處理殘留。特別在基板表面形成了銅膜之后，為了除去基板周邊部以及外周端面的不需要的銅膜以及銅離子而進(jìn)行斜面蝕刻處理或斜面清洗處理，此時(shí)會(huì)有上述那樣的處理殘留問(wèn)題。這種處理殘留會(huì)在之后搬送機(jī)械手搬送基板時(shí)引起基板保持手部的金屬污染，該污染還會(huì)進(jìn)一步轉(zhuǎn)移到其它基板，有可能成為使金屬污染擴(kuò)散到基板處理裝置的各部分的原因。
為了解決該問(wèn)題，在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)US2005/276921 A1中所示的現(xiàn)有技術(shù)中，提出了這樣的結(jié)構(gòu)，即，通過(guò)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)基座構(gòu)件中的基板支撐構(gòu)件來(lái)從下表面支撐基板，另一方面從基板的上表面供給氣體，從而將基板按壓在基板支撐構(gòu)件上，由基板支撐構(gòu)件與基板的摩擦來(lái)保持基板進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
然而，在該結(jié)構(gòu)中，重要的是使基板正確的定位支撐在基板支撐構(gòu)件上。如果旋轉(zhuǎn)基座構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)軸線與基板的重心有偏差，則會(huì)因旋轉(zhuǎn)相伴的離心力基板要向水平方向移動(dòng)，因此對(duì)基板的保持有可能會(huì)不穩(wěn)定。
因此考慮到，在由基板搬送機(jī)械手搬送基板的過(guò)程中，要將基板相對(duì)于基板保持手部進(jìn)行定位，將處理前的基板暫時(shí)搬入載物臺(tái)(校準(zhǔn)載物臺(tái))而進(jìn)行定位。進(jìn)而，考慮到要使用高精度的基板搬送機(jī)械手來(lái)確保所需要的位置精度。
但是，這些都是高成本的解決對(duì)策，并不優(yōu)選。并且，由于構(gòu)件的允許誤差或組裝時(shí)的誤差，導(dǎo)致極難實(shí)現(xiàn)所需的位置精度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理裝置以及基板搬送方法，能夠在抑制成本的同時(shí)，以高精度定位的狀態(tài)將基板保持在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上，由此可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的基板處理。
本發(fā)明的基板處理裝置9包括基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4，其用于保持并旋轉(zhuǎn)基板W并使基板旋轉(zhuǎn)；定位構(gòu)件55、57，其設(shè)置在該基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，用于將基板定位在規(guī)定的基板保持位置上；基板搬送機(jī)構(gòu)52，其將基板遞交給上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；推壓?jiǎn)卧?3、60、70、75、77，其設(shè)置在該基板搬送機(jī)構(gòu)，將基板推向上述定位構(gòu)件。此外，在該項(xiàng)中，括號(hào)內(nèi)的英文和數(shù)字表示后述的實(shí)施方式中的對(duì)應(yīng)結(jié)構(gòu)要素等。當(dāng)然應(yīng)該理解為本發(fā)明并不受該實(shí)施方式的限定來(lái)解釋。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，通過(guò)設(shè)在基板搬送機(jī)構(gòu)上的推壓?jiǎn)卧瑢⒒逑蛟O(shè)在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的定位構(gòu)件推壓。由此，在從基板搬送機(jī)構(gòu)將基板交接到基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上時(shí)，能夠使基板相對(duì)于基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)正確的定位。
由于定位構(gòu)件設(shè)在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上，所以與在基板保持手部上或定位載物臺(tái)上進(jìn)行定位的方式相比較能夠高精度的定位基板，并能夠消減成本。
上述推壓?jiǎn)卧€可以包括基板抵接部件75、77，其與基板的端面抵接；基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)53、70，其使該基板抵接部件向定位構(gòu)件移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)使基板抵接部件向定位構(gòu)件移動(dòng)，從而使基板向定位構(gòu)件移動(dòng)來(lái)進(jìn)行其定位。
優(yōu)選還具備控制單元20，其在從基板搬送機(jī)構(gòu)將基板交接到基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上時(shí)(更為具體的說(shuō)，在交接之后或之前)，如上所述對(duì)基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制。
還有，優(yōu)選還包括趨勢(shì)單元74，通過(guò)基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)基板抵接部件向，將基板彈性的押向上述定位構(gòu)件。該趨勢(shì)單元例如也可以為彈簧之外的彈性構(gòu)件。
優(yōu)選的，在上述基板搬送機(jī)構(gòu)包括保持基板的基板保持手部60時(shí)，上述基板抵接部件設(shè)置在上述基板保持手部，并上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括使上述基板保持手部向上述定位構(gòu)件移動(dòng)的手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使基板保持手部向上述定位構(gòu)件移動(dòng)，從而能夠移動(dòng)基板抵接部件，將基板正確的定位在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上。
進(jìn)而，上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70，該相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述基板抵接部件相對(duì)上述基板保持手部進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)由手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基板保持手部移動(dòng)以及由相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基板抵接部件相對(duì)移動(dòng)，能夠?qū)⒒逑蚨ㄎ粯?gòu)件移動(dòng)。由此，即使由手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基板保持手部移動(dòng)的移動(dòng)精度不夠，也可以通過(guò)相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使基板抵接部件更加高精度地移動(dòng)。其結(jié)果，由于不需要高價(jià)的高精度的手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以能夠有助于消減成本。
另外，在上述基板搬送機(jī)構(gòu)包括保持基板的基板保持手部60時(shí)，上述基板抵接部件可以設(shè)置在上述基板保持手部，上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)可以包括相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)70，該相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述基板抵接部件相對(duì)上述基板保持手部進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過(guò)由相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基板抵接部件相對(duì)移動(dòng)，能夠使基板向定位構(gòu)件移動(dòng)。由此，即使由手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)基板保持手部移動(dòng)的移動(dòng)精度不夠，也可以通過(guò)相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使基板抵接部件更加高精度地移動(dòng)。其結(jié)果，由于不需要高價(jià)的高精度的手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以能夠有助于消減成本。
優(yōu)選上述基板處理裝置還包括定位用基板支撐部件56、59、66、79，該定位用基板支撐部件在基板的端面與上述定位構(gòu)件對(duì)置的位置的狀態(tài)下，以使基板能夠向上述定位構(gòu)件移動(dòng)的方式支撐基板。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在以定位用支撐部件穩(wěn)定支撐基板的狀態(tài)下來(lái)定位基板。
上述定位用基板支撐部件56、59可以設(shè)置在上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在從基板搬送機(jī)構(gòu)將基板交接到基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上之后進(jìn)行基板的定位。
上述定位用基板支撐部件66、79可以設(shè)置在上述基板搬送機(jī)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在從基板搬送機(jī)構(gòu)將基板交接到基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上之前進(jìn)行基板的定位。此時(shí)，上述定位用基板支撐部件也可以設(shè)在保持基板的基板保持手部上。
優(yōu)選上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括處理用基板支撐部件7，該處理用基板支撐部件在處理基板時(shí)與該基板的一側(cè)表面抵接并支撐該基板。特別優(yōu)選基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)不與基板的端面抵接，而通過(guò)上述處理用基板支撐部件從一側(cè)的表面?zhèn)戎位澹瑥亩３衷摶濉?br> 根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠抑制或防止在基板的端面上產(chǎn)生處理殘留。另外，由于能夠使基板相對(duì)于基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)正確定位，所以即使在旋轉(zhuǎn)時(shí)也可以保持基板穩(wěn)定。
上述基板處理裝置還可以包括流體供給單元21、9b，該流體供給單元向被上述處理用基板支撐部件支撐的基板的另一側(cè)表面供給用于將基板按壓在上述處理用基板支撐部件的流體(氣體或液體)。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由流體將基板按壓在處理用基板支撐部件上，并且使基板相對(duì)于基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)正確定位，因此即使基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)除了處理用基板支撐部件之外沒(méi)有相對(duì)基板的抵接部件，也能夠保持基板穩(wěn)定。
上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還可以包括基座5、和使上述處理用基板支撐部件相對(duì)該基座移動(dòng)的支撐部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)28、29、30(更為具體的說(shuō)，以改變基座表面與支撐位置之間的距離的方式移動(dòng)處理用基板支撐部件)。由此，能夠從上述定位用支撐部件將基板交接到處理用基板支撐部件。
當(dāng)然，也可以將處理用基板支撐部件做成兼有作為定位用基板支撐部件的功能的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的基板搬送方法包括將定位構(gòu)件55設(shè)置在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4的步驟，其中，上述定位構(gòu)件用于將基板W定位在規(guī)定的基板保持位置，上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于保持基板并使基板旋轉(zhuǎn)；通過(guò)推壓?jiǎn)卧?3、60、70、75、77將該基板推向上述定位構(gòu)件的步驟，其中，上述推壓?jiǎn)卧O(shè)置在用于將基板遞交給上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的基板搬送機(jī)構(gòu)52上；將基板從上述基板搬送機(jī)構(gòu)交接到上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的步驟。關(guān)于該方法的發(fā)明，也可以實(shí)施與上述基板處理裝置的發(fā)明相關(guān)聯(lián)的所述的變形。
通過(guò)參照附圖而對(duì)下述的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明，能夠更加明確本發(fā)明的上述的、或者另外其他的目的、特征以及效果。


圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意剖面圖。
圖2是基板處理裝置所具備的旋轉(zhuǎn)卡盤的俯視圖，表示由基板保持手部將基板搬入時(shí)的狀況。
圖3是表示旋轉(zhuǎn)卡盤所具備的支撐部件的結(jié)構(gòu)的局部剖面圖。
圖4是定位導(dǎo)桿的放大立體圖。
圖5是表示基板保持手部所具備的前方側(cè)下落制導(dǎo)的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖6A以及圖6B是放大表示基板保持手部所具備的后方側(cè)的下落制導(dǎo)涉及的結(jié)構(gòu)的圖。
圖7A～圖7H是按順序表示從基板保持手部向旋轉(zhuǎn)卡盤交接基板時(shí)的動(dòng)作(第一實(shí)施方式)的示意圖。
圖8A～圖7F是按順序表示從基板保持手部向旋轉(zhuǎn)卡盤交接基板時(shí)的其它動(dòng)作(第二實(shí)施方式)的示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意剖視圖。該基板處理裝置為向半導(dǎo)體晶片等基板W的表面供給藥液或沖洗液(例如純水(去離子化的純水))等處理液，從而對(duì)基板W進(jìn)行液處理，然后以通過(guò)離心力甩掉基板表面的液體的方式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)干燥的裝置。該基板處理裝置向基板W的下表面供給處理液，從而可對(duì)其下表面進(jìn)行處理，另外通過(guò)向基板W的下表面供給處理液，使處理液從基板W的下表面沿著基板W的外周端面而繞回到上表面(器件形成面)，從而能夠?qū)錡的上表面周邊部進(jìn)行處理(斜面處理)。進(jìn)而，對(duì)基板W的上表面供給處理液，從而可以對(duì)其上表面進(jìn)行處理。
該基板處理裝置含有中空的旋轉(zhuǎn)軸1，該旋轉(zhuǎn)軸1與馬達(dá)3的旋轉(zhuǎn)軸相連，通過(guò)驅(qū)動(dòng)該馬達(dá)3，可以使其圍繞沿著鉛直方向的旋轉(zhuǎn)軸線J旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸1的上端部一體的連接有旋轉(zhuǎn)基座5。因此，可以通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)3而使旋轉(zhuǎn)基座5圍繞旋轉(zhuǎn)軸線J旋轉(zhuǎn)。另外，在旋轉(zhuǎn)基座5的周邊部附近，從旋轉(zhuǎn)基座5向上方突出的設(shè)置有多個(gè)支撐部件7，該支撐部件7與基板W的下表面周邊部抵接并支撐基板W。并且，由多個(gè)支撐部件7以從旋轉(zhuǎn)基座5離開(kāi)規(guī)定間隔的狀態(tài)將基板W支撐為水平。由這些支撐部件7以及旋轉(zhuǎn)基座5等，構(gòu)成作為保持基板W并使之旋轉(zhuǎn)的基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)卡盤4。
圖2是從上方看旋轉(zhuǎn)卡盤4的俯視圖，表示由基板搬送機(jī)械手52的基板保持手部60將基板W搬入時(shí)的狀況。在旋轉(zhuǎn)基座5的中心部設(shè)有開(kāi)口，在其周邊部附近設(shè)有多個(gè)(在本實(shí)施方式中為12個(gè))支撐部件7(處理用基板支撐部件)。并且，12個(gè)支撐部件以旋轉(zhuǎn)軸線J為中心以每30度的等角度間隔放射狀配置。
為了將基板W水平支撐，支撐部件7的個(gè)數(shù)至少為3個(gè)以上即可，但為了對(duì)支撐部件7與基板W的下表面抵接的部分進(jìn)行處理，而做成可使支撐部件7相對(duì)于基板W的下表面自由抵接/離開(kāi)的結(jié)構(gòu)，并且最好在處理中使各支撐部件7從基板W的下表面離開(kāi)至少一次以上。因此，要對(duì)還包括支撐部件7與基板W的下表面抵接的部分的基板W的整個(gè)下表面進(jìn)行處理，需要至少4個(gè)以上的支撐部件7。
在該實(shí)施方式中，將12個(gè)支撐部件7按每隔1個(gè)的方式分為兩組，每組6個(gè)，在用處理液對(duì)基板W進(jìn)行處理時(shí)，用這兩組支撐部件7以交互支撐基板W的方式進(jìn)行工作。
另外，如圖1所示，該基板處理裝置具備環(huán)境遮斷板9，其與旋轉(zhuǎn)基座5對(duì)置配置，用于遮斷基板W的上表面?zhèn)鹊沫h(huán)境；氣體供給部件21(流體供給單元)，其向形成在該環(huán)境遮斷板9與基板W的上表面之間的空間SP供給氮?dú)獾榷栊詺怏w。并且，通過(guò)從氣體供給部件21向基板W的上表面即空間SP供給惰性氣體，從而使基板W按壓支撐部件7，從而能夠使基板W保持在旋轉(zhuǎn)卡盤4上。由此，通過(guò)支撐部件7與基板W下表面之間的摩擦力，將旋轉(zhuǎn)卡盤4的旋轉(zhuǎn)力經(jīng)由支撐部件7而傳至基板W。
環(huán)境遮斷板9可一體旋轉(zhuǎn)的安裝在中空桶狀的支撐軸11的下端部。在支撐軸11上連接有省略圖示的遮斷板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)遮斷板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的馬達(dá)而使環(huán)境遮斷板9與支撐軸11一起圍繞與旋轉(zhuǎn)卡盤4的旋轉(zhuǎn)軸1同軸的旋轉(zhuǎn)軸線J旋轉(zhuǎn)?？刂撇考?0，以使遮斷板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的馬達(dá)與馬達(dá)3同步的方式進(jìn)行控制，由此能夠以與旋轉(zhuǎn)卡盤4相同的旋轉(zhuǎn)方向以及相同的旋轉(zhuǎn)速度來(lái)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)環(huán)境遮斷板9。另外，通過(guò)使遮斷板驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的升降驅(qū)動(dòng)用促動(dòng)器(例如氣缸)工作，而使環(huán)境遮斷板9接近或遠(yuǎn)離旋轉(zhuǎn)基座5。
環(huán)境遮斷板9比基板W的直徑大一些，并在其中心部具有開(kāi)口。環(huán)境遮斷板9配置在旋轉(zhuǎn)卡盤4的上方，其下表面(底面)成為與基板W的上表面對(duì)置的對(duì)置面9a。該對(duì)置面9a開(kāi)有多個(gè)氣體噴出口9b。多個(gè)氣體噴出口9b配設(shè)在與設(shè)置于旋轉(zhuǎn)基座5上的支撐部件7對(duì)應(yīng)的位置上，更具體地說(shuō)，在支撐部件7的旋轉(zhuǎn)軌跡上，沿著以旋轉(zhuǎn)軸線J為中心的圓周以等間隔排列。這些氣體噴出口9b連通到環(huán)境遮斷板9的內(nèi)部的氣體流通空間9c。此外，氣體噴出口并不僅限于多個(gè)開(kāi)口，也可以是單一的開(kāi)口，例如以旋轉(zhuǎn)軸線J為中心經(jīng)全周為同心圓形狀的環(huán)狀開(kāi)口。但從達(dá)到氣體噴出壓的均勻性這點(diǎn)看來(lái)，形成多個(gè)氣體噴射口9b的方式有利。
為了向形成在環(huán)境遮斷板9內(nèi)部的氣體流通空間9c供給氣體，氣體流通空間9c經(jīng)由配管25而連通連接到氣體供給部件21。在該配管25上安裝有由控制部件20控制開(kāi)閉的開(kāi)閉閥23。由此，控制部件20打開(kāi)開(kāi)閉閥23從而從氣體供給部件21向氣體流通空間9c內(nèi)供給氮?dú)獾榷栊詺怏w，進(jìn)而從多個(gè)氣體噴出口9b向基板W的上表面噴射惰性氣體。另外，多個(gè)氣體噴出口9b以配置在支撐部件7的旋轉(zhuǎn)軌跡上的方式設(shè)置在環(huán)境遮斷板9的對(duì)置面9a上，形成為使惰性氣體向大致鉛直方向噴射。此外，來(lái)自多個(gè)氣體噴出口9b的惰性氣體也可以不供給到支撐部件7的旋轉(zhuǎn)軌跡上，而供給到支撐部件7的旋轉(zhuǎn)軌跡的直徑方向的內(nèi)側(cè)或外側(cè)。
通過(guò)從各個(gè)氣體噴出口9b噴出惰性氣體，從而將基板W均勻地按壓到向上方突出設(shè)置在旋轉(zhuǎn)基座5上的各支撐部件7上。由此，基板W可由旋轉(zhuǎn)卡盤4水平保持。
在環(huán)境遮斷板9的中心的開(kāi)口以及支撐軸11的中空部分，同軸設(shè)置上部清洗噴嘴12，從而可以從其下端部的噴嘴口12a向被按壓保持在旋轉(zhuǎn)基座5上的基板W的上表面的旋轉(zhuǎn)中心附近供給藥液、清洗液等處理液。該上部清洗噴嘴12連通連接至配管13。該配管13在基端部分開(kāi)，一個(gè)分支配管13a連接藥液供給源31，另一個(gè)分支配管13b連接清洗液供給源33。在各分支配管13a、13b中安裝有開(kāi)閉閥15、17，從而通過(guò)利用控制整個(gè)裝置的控制部件20來(lái)控制開(kāi)閉閥15、17的開(kāi)閉，由此能夠從上部清洗噴嘴12向基板W的上表面有選擇的切換供給藥液和沖洗液。
另外，支撐軸11的中空部的內(nèi)壁面與上部清洗噴嘴12的外壁面之間的間隙成為氣體供給路徑18。該氣體供給路徑18經(jīng)由安裝有開(kāi)閉閥19的配管27而連接至氣體供給源35。而且，通過(guò)上部清洗噴嘴12進(jìn)行藥液處理以及沖洗處理之后，由控制部件20控制開(kāi)閉閥19的開(kāi)閉，由此經(jīng)由氣體供給路徑18向基板W的上表面與環(huán)境遮斷板9的對(duì)置面9a之間的空間SP，供給清潔的空氣或惰性氣體等氣體，從而能夠?qū)錡進(jìn)行干燥處理。
在旋轉(zhuǎn)軸1的中空部同軸設(shè)置下部清洗噴嘴41，可以從其上端部的噴嘴口41a向基板W的下表面的旋轉(zhuǎn)中心附近供給處理液。該下部清洗噴嘴41連通連接至配管43。該配管43在基端部分開(kāi)，一個(gè)分支配管43a連接藥液供給源31，另一個(gè)分支配管43b連接沖洗液供給源33。在各分支配管43a、43b中安裝有開(kāi)閉閥45、47，從而通過(guò)利用控制整個(gè)裝置的控制部件20來(lái)控制開(kāi)閉閥45、47的開(kāi)閉，由此能夠從下部清洗噴嘴41向基板W的下表面有選擇的切換供給藥液和沖洗液。
另外，旋轉(zhuǎn)軸1的內(nèi)壁面與下部清洗噴嘴41的外壁面之間的間隙形成圓筒狀的氣體供給路徑48。該氣體供給路徑48經(jīng)由安裝有開(kāi)閉閥49的配管50而連接至氣體供給源35，由控制部件20控制開(kāi)閉閥49的開(kāi)閉，由此經(jīng)由氣體供給路徑48向基板W的下表面與旋轉(zhuǎn)基座5的對(duì)置面之間的空間，供給清潔的空氣或惰性氣體等氣體。
圖3是表示支撐部件7的結(jié)構(gòu)的局部剖視圖。因?yàn)樯鲜龆鄠€(gè)支撐部件7都具有相同的結(jié)構(gòu)，所以這里只針對(duì)一個(gè)支撐部件7的結(jié)構(gòu)參照附圖進(jìn)行說(shuō)明。
支撐部件7設(shè)在延伸部件5a的內(nèi)部，該延伸部件5a為旋轉(zhuǎn)基座5的一部分向上方延伸為凸?fàn)疃纬伞Ｔ撝尾考?具備薄膜28，其以可與基板W的下表面周邊部抵接/離開(kāi)的方式埋設(shè)在旋轉(zhuǎn)基座5的延伸部件5a的上表面；可動(dòng)桿29，其以可在上下方向移動(dòng)的方式進(jìn)行支撐，可與薄膜28的下表面?zhèn)鹊纸踊螂x開(kāi)，可將薄膜28的上表面中央部推起；馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)部件30，上下驅(qū)動(dòng)該可動(dòng)桿29。此外，驅(qū)動(dòng)部件30并不僅限于馬達(dá)，也可以使用氣缸等一般的促動(dòng)器。由上述可動(dòng)桿29以及驅(qū)動(dòng)部件30等構(gòu)成支撐部件驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
當(dāng)驅(qū)動(dòng)部件30根據(jù)來(lái)自控制部件20的驅(qū)動(dòng)信號(hào)經(jīng)由省略圖示的驅(qū)動(dòng)連接部件而驅(qū)動(dòng)可動(dòng)桿29使其上升時(shí)，可動(dòng)桿29的前端部分與薄膜28的圓筒狀凹部的上底面抵接，并保持其狀態(tài)將薄膜28的上表面中央部推起。由此，埋設(shè)于旋轉(zhuǎn)基座5的上表面?zhèn)鹊谋∧?8的上表面從旋轉(zhuǎn)基座5的延伸部件5a的上表面突出。由此，通過(guò)使多個(gè)支撐部件7的薄膜28(至少三個(gè)以上)突出，從而能夠使薄膜28與基板W的下表面抵接，并使基板W從旋轉(zhuǎn)基座5的延伸部件5a的上表面離開(kāi)(例如1mm左右)并保持水平。
另一方面，當(dāng)驅(qū)動(dòng)部件30驅(qū)動(dòng)可動(dòng)桿29使其下降時(shí)，可動(dòng)桿29的前端部分離開(kāi)薄膜28的圓筒狀凹部的上底面，將薄膜28的上表面收容到與旋轉(zhuǎn)基座5的延伸部件5a的上表面相同的平面內(nèi)。由此，突出的多個(gè)支撐部件7的薄膜28中至少要留有三個(gè)，通過(guò)使其一部分下降，能夠使下降的薄膜28離開(kāi)基板W的下表面。薄膜28由具有可撓性并對(duì)于處理液具有耐腐蝕性的樹(shù)脂構(gòu)成。優(yōu)選使用PCTFE(聚三氟氯乙烯)等含氟樹(shù)脂。
這里，針對(duì)以下這種情況進(jìn)行說(shuō)明，即向基板W的下表面供給處理液，使處理液沿著基板W的外周端面繞回到其上表面，從而對(duì)基板W的上表面周邊部進(jìn)行處理(斜面處理)的情況。從氣體噴射口9b向基板W的上表面沿大致鉛直方向噴射的惰性氣體，供給到比處理液繞回到上表面周邊部而進(jìn)行處理的上表面區(qū)域TR內(nèi)側(cè)的非處理區(qū)域NTR。另一方面，在旋轉(zhuǎn)基座5的周邊部設(shè)有支撐部件7，以使支撐部件7與對(duì)應(yīng)于被供給了惰性氣體的非處理區(qū)域NTR的基板W的下表面?zhèn)认嗟纸硬⑦M(jìn)行支撐。通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠防止處理液侵入非處理區(qū)域NTR，并且能夠使來(lái)自基板W的直徑方向的外周端面的處理液的繞回寬度均勻。這里，環(huán)境遮斷板9的對(duì)置面9a的周邊為了不阻礙處理液繞回而使對(duì)置面與上表面處理區(qū)域TR對(duì)應(yīng)向上方退避為階梯狀。
在支撐部件7與基板W的下表面抵接而對(duì)其按壓支撐的方式中，通過(guò)向基板W的上表面與環(huán)境遮斷板9的對(duì)置面9a之間所形成的空間SP供給惰性氣體，從而提高空間SP的內(nèi)部壓力而使基板W按壓在支撐部件7上。也就是說(shuō)，并沒(méi)有與基板W的外周端部抵接并保持的卡盤銷等保持構(gòu)件，當(dāng)驅(qū)動(dòng)基板W的離心力超過(guò)基板W與支撐部件7之間的摩擦力時(shí)，基板W有向直徑方向外側(cè)飛出的趨勢(shì)。
為了預(yù)防此，需要事先將基板W的中心相對(duì)旋轉(zhuǎn)卡盤4的旋轉(zhuǎn)軸線J進(jìn)行高精度定位(置于中心)。
如圖2所示，為了該定位，在本實(shí)施方式中，在旋轉(zhuǎn)基座5的上表面具有一對(duì)定位導(dǎo)桿55。如圖4的放大立體圖所示，這一對(duì)定位導(dǎo)桿55具備圓錐臺(tái)狀的基板支撐部件56，其以點(diǎn)接觸來(lái)對(duì)基板W的周邊部的下表面進(jìn)行支撐；定位面(導(dǎo)向面)57，其位于比該基板支撐部件56向基板W的半徑方向外側(cè)，與基板W的外周端面對(duì)置。定位面57配置在對(duì)置于與對(duì)旋轉(zhuǎn)卡盤4進(jìn)行交接的基板保持手部60的位置，并直立設(shè)在旋轉(zhuǎn)基座5的上表面，使得在基板W的外周端面與這些定位面57抵接時(shí)該基板W的中心(重心)與旋轉(zhuǎn)基座5的旋轉(zhuǎn)軸線J一致。此外，為了減輕基板W的上升以及下降時(shí)的摩擦，定位面57呈從鉛垂傾斜5度左右的傾斜面。而在摩擦并不成為問(wèn)題時(shí)，也可以是鉛垂面。
并且，在本實(shí)施方式中，在一對(duì)定位導(dǎo)桿55與旋轉(zhuǎn)基座5的旋轉(zhuǎn)軸線J相對(duì)的位置上，分別直立設(shè)置有一對(duì)定位時(shí)用基板支撐銷58。這些定位時(shí)用基板支撐銷58分別具有以點(diǎn)接觸來(lái)支撐基板W的下表面周邊部的半球狀的基板支撐部件59。
定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59是在定位基板W時(shí)與基板W的下表面周邊部抵接而對(duì)該基板W進(jìn)行支撐的定位用基板支撐部件，相對(duì)旋轉(zhuǎn)基座5的上表面以一定的基板支撐高度與基板W的下表面抵接。在處理基板W時(shí)，支撐該基板W的上述支撐部件7，可以通過(guò)定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58，在高于基板支撐高度的處理位置和低于該基板支撐高度的退避位置之間變更基板支撐高度(薄膜28的上表面的高度)。支撐部件7的基板支撐高度在處理基板W時(shí)被控制在處理位置，在定位基板W時(shí)被控制在退避位置。
基板搬送機(jī)械手52具備基板保持手部60，其保持并搬送基板W；手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53，其使該基板保持手部60上下左右移動(dòng)，并且手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53由控制部件20控制?；灞３质植?0的作用是將基板W按在定位導(dǎo)桿55的定位面57上?；灞３质植?0具備在水平方向上相互大致平行的一對(duì)懸臂梁61、架設(shè)在該一對(duì)懸臂梁61的基端部之間的橫梁62。
如圖5放大所示，在懸臂梁61的前端由螺栓63A固定著用于使基板W陷入來(lái)保持的陷入導(dǎo)桿63。陷入導(dǎo)桿63具備主體部件65，其具有與基板W的外周端面對(duì)置的限制面64；支撐爪66，其從該主體部件65的下邊附近向基板W的中心突出。限制面64例如為沿著基板W的外周端面的切線方向的鉛直面。支撐爪66的上表面具有越靠近基板W的中心越下降的棱線，形成為在該棱線的兩側(cè)呈向下傾斜的人字錐形形狀，并能夠以點(diǎn)接觸來(lái)支撐基板W的下邊。
如圖2所示，在橫梁62的中間部附近固定有氣缸70，該氣缸70用于向基板保持手部60的前端側(cè)推出基板W，該氣缸70的動(dòng)作由控制部件20控制。如圖6A的放大俯視圖以及圖6B的放大側(cè)視圖所示，氣缸70大致沿著基板W的半徑方向伸張/收縮連桿71。連桿71的中部設(shè)有法蘭盤72。并且，在連桿71的前端部安裝有側(cè)視呈L字形狀的托架73。該托架73以相對(duì)于連桿71可在其軸向滑動(dòng)的方式安裝。在該托架73與法蘭盤72之間，在連桿71上纏有螺旋彈簧74。
在托架73上由螺栓76固定著支撐基板W的陷入導(dǎo)桿75(基板抵接部件)。陷入導(dǎo)桿75具備主體部件78，其具有與基板W的外周端面對(duì)置的限制面77；支撐爪79，其從該主體部件78的下邊附近向基板W的中心突出。限制面77例如為沿著基板W的外周端面的切線方向的鉛直面。支撐爪79的上表面具有越向基板W的中心越下降的棱線79a，并形成為在該棱線79a的兩側(cè)呈向下傾斜的山形圓錐形狀，并能夠由棱線79a以點(diǎn)接觸來(lái)支撐基板W的下邊。
與氣缸70關(guān)聯(lián)設(shè)有檢測(cè)出連桿71的位置的傳感器81、82、檢測(cè)出陷入導(dǎo)桿75的位置的傳感器83。傳感器81是檢測(cè)出連桿71處于前進(jìn)端的前進(jìn)端傳感器，傳感器82是檢測(cè)出連桿71處于后退端的后退端傳感器。傳感器83是檢測(cè)出陷入導(dǎo)桿75(或者托架73)相對(duì)于連桿71的相對(duì)位置的傳感器，具體地說(shuō)是以下這樣的夾緊確認(rèn)傳感器，即，對(duì)通過(guò)三個(gè)陷入導(dǎo)桿63、63、75在基板保持手部60上夾緊基板W時(shí)的陷入導(dǎo)桿75的相對(duì)位置進(jìn)行檢測(cè)。即，夾緊確認(rèn)傳感器83檢測(cè)出螺旋彈簧74被壓縮。
圖7A～圖7H是按順序表示從基板保持手部60向旋轉(zhuǎn)卡盤4交接基板W時(shí)的動(dòng)作的示意圖。
在基板保持手部60搬送基板W時(shí)，控制部件20控制氣缸70的連桿71在前進(jìn)位置。由此，在基板保持手部60上，基板W被陷入導(dǎo)桿63、75夾緊，并由螺旋彈簧74的作用而被彈性?shī)A持。在該狀態(tài)下，前進(jìn)端傳感器81以及夾緊確認(rèn)傳感器83為打開(kāi)狀態(tài)，后退端傳感器82為關(guān)閉狀態(tài)。此外，在圖7A～圖7H中，在這些傳感器中，以涂黑的矩形“■”表示打開(kāi)狀態(tài)，以空白的矩形“□”表示關(guān)閉狀態(tài)。
控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53，將基板保持手部60引導(dǎo)至旋轉(zhuǎn)卡盤4上的交接位置。在圖7A中表示該狀態(tài)。此時(shí)，基板保持手部60將基板W保持在比定位導(dǎo)桿55的上端高的位置。另外，控制部件20將支撐部件7的高度控制在比定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59的基板支撐高度低的退避位置。
接著，如圖7B所示，控制部件20將氣缸70的連桿71控制在后退位置。由此，前進(jìn)端傳感器81以及夾緊傳確認(rèn)感器83關(guān)閉，取而代之后退端傳感器82打開(kāi)。陷入導(dǎo)桿75的限制面77此時(shí)后退到離開(kāi)基板W的外周端面的位置，螺旋彈簧74為非壓縮狀態(tài)。
接著，如圖7C所示，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53而使基板保持手部60下降。由此，基板W從陷入導(dǎo)桿63、75交接到定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59?？刂苹灞３质植?0的高度，以使前方的陷入導(dǎo)桿63的上表面處于基板W的下表面的下方的位置。此時(shí)，后方的陷入導(dǎo)桿75的限制面77與基板W的外周端面對(duì)置。即，在基板保持手部60下降后，也盡量使該限制面77具有僅在水平方向能夠與基板W的外周端面對(duì)置的高度。
在該狀態(tài)之后，如圖7D所示，控制部件20將氣缸70的連桿71控制在前進(jìn)位置。由此，基板W被后方的陷入導(dǎo)桿75的限制面77推向前方，在定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59上滑動(dòng)，并向定位導(dǎo)桿55的定位面57移動(dòng)。該狀態(tài)下的連桿71的前進(jìn)位置這樣設(shè)置，即，在螺旋彈簧74的伸張狀態(tài)(非壓縮狀態(tài))下使標(biāo)準(zhǔn)尺寸的基板W的外周端面到達(dá)定位面57。由此，前進(jìn)端傳感器81為打開(kāi)狀態(tài)，而夾緊確認(rèn)傳感器83保持為關(guān)閉狀態(tài)。
接著，如圖7E所示，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53使基板保持手部60向定位導(dǎo)桿55僅前進(jìn)微小距離(例如2mm)。由此，即使在基板W上產(chǎn)生允許誤差范圍內(nèi)的尺寸誤差，陷入導(dǎo)桿75的限制面77也能夠可靠的與基板W的外周端面抵接。進(jìn)而，通過(guò)伴隨著基板保持手部60前進(jìn)而被壓縮的螺旋彈簧74使基板W具有向定位導(dǎo)桿55的彈性趨勢(shì)。這樣一來(lái)，基板W與定位導(dǎo)桿55可靠的抵接，從而基板W定位結(jié)束。此時(shí)，夾緊確認(rèn)傳感器83變?yōu)榇蜷_(kāi)狀態(tài)。
接著，如圖7F所示，控制部件20使氣缸70的連桿71后退，而使陷入導(dǎo)桿75的限制面77后退到離開(kāi)基板W的外周端面的位置。由此，前進(jìn)端傳感器81以及夾緊確認(rèn)傳感器83變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，后退端傳感器82變?yōu)榇蜷_(kāi)狀態(tài)。
進(jìn)而，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53使基板保持手部60進(jìn)一步下降，然后使基板保持手部60后退，從而從旋轉(zhuǎn)卡盤4退避(圖7G)。
接著，如圖7H所示，控制部件20控制驅(qū)動(dòng)部件30(參照?qǐng)D3)使支撐部件7的基板支撐高度上升。由此，基板W從定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58交接到支撐部件7。
這樣一來(lái)，使基板W的外周端面接觸到定位導(dǎo)桿55的定位面57之后，通過(guò)將基板W遞交給支撐部件7，從而以與旋轉(zhuǎn)基座5的旋轉(zhuǎn)軸線J校準(zhǔn)中心的狀態(tài)支撐基板W。
然后，旋轉(zhuǎn)卡盤4緩緩旋轉(zhuǎn)一周，在此期間，由基板傾斜傳感器86檢查基板W是否有傾斜?；鍍A斜傳感器86例如由成對(duì)的發(fā)光元件和受光元件構(gòu)成，該發(fā)光元件設(shè)置在比由支撐部件7支撐的基板支撐高度稍高微小距離的位置，沿著通過(guò)基板W的上方的水平的光路發(fā)出光束，該受光元件接收來(lái)自該發(fā)光元件的光束。在使旋轉(zhuǎn)基座5旋轉(zhuǎn)一圈的期間，如果基板W遮住光束，則判定基板W有傾斜而中止處理。否則判斷基板W被以水平姿態(tài)適當(dāng)保持。
如果基板W被無(wú)傾斜的適當(dāng)保持，則可在旋轉(zhuǎn)基座5更高速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行利用處理液的處理，并且可以通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行甩干處理。
圖8A～圖7F是按順序表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基板處理裝置中從基板保持手部向旋轉(zhuǎn)卡盤4交接基板W時(shí)的其它動(dòng)作的示意圖。在本實(shí)施方式的說(shuō)明中，可再參照上述圖1～圖5以及圖6A和圖6B，對(duì)與這些附圖所示的各部分對(duì)應(yīng)的部分，在圖8A～圖8F中附以相同的附圖標(biāo)記表示。
在該實(shí)施方式中，在使用定位導(dǎo)桿55進(jìn)行定位時(shí)，使基板W在基板保持手部60所具有的陷入導(dǎo)桿63、75的支撐爪66、79上滑動(dòng)。即，支撐爪66、79作為定位用基板支撐部件來(lái)使用。因此，在本實(shí)施方式中，定位導(dǎo)桿55不需要具有基板支撐部件56。另外，也不需要定位時(shí)用基板支撐銷58。但優(yōu)選重量相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線J平衡對(duì)稱的方式，因此實(shí)際上優(yōu)選設(shè)置銷58的方式。
并且在該實(shí)施方式中，如圖6A的兩點(diǎn)劃線所示，與氣缸70關(guān)聯(lián)的除了設(shè)有傳感器81～83之外，還設(shè)有定位確認(rèn)傳感器84。定位確認(rèn)傳感器84是檢測(cè)出陷入導(dǎo)桿75相對(duì)于氣缸70的連桿71的相對(duì)位置的傳感器。更為具體地說(shuō)，檢測(cè)出比通過(guò)三個(gè)陷入導(dǎo)桿63、63、75在基板保持手部60上夾緊基板W的狀態(tài)(夾緊確認(rèn)傳感器83為打開(kāi)的狀態(tài))陷入導(dǎo)桿75進(jìn)一步后退到連桿70的主體部件側(cè)的位置。換而言之，定位確認(rèn)傳感器84檢測(cè)出比基板夾緊時(shí)螺旋彈簧74的進(jìn)一步壓縮的狀態(tài)。
與上述第一實(shí)施方式的情況同樣，當(dāng)基板保持手部60搬送基板W時(shí)，控制部件20將氣缸70的連桿71控制在前進(jìn)位置。由此，基板W被陷入導(dǎo)桿63、75夾緊在基板保持手部60上。從而，螺旋彈簧74為被壓縮一些的狀態(tài)。在該狀態(tài)下，前進(jìn)端傳感器81以及夾緊確認(rèn)傳感器83為打開(kāi)狀態(tài)，定位確認(rèn)傳感器84以及后退端傳感器82為關(guān)閉狀態(tài)。
如圖8A所示，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53，將基板保持手部60引導(dǎo)至旋轉(zhuǎn)卡盤4上的交接位置。此時(shí)，基板保持手部60將基板W保持在比定位導(dǎo)桿55的上端高的位置。另外，控制部件20將支撐部件7的高度控制在比定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59的基板支撐高度低的退避位置。
接著，如圖8B所示，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53使基板保持手部60下降到定位高度。所謂定位高度是指，在水平方向上基板W的外周端面與定位導(dǎo)桿55的定位面57對(duì)置、并且保持基板W由陷入導(dǎo)桿63、75的支撐爪66、79支撐的狀態(tài)的高度。該高度比支撐部件7的基板支撐高度、以及定位導(dǎo)桿55和定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59的基板支撐高度中的任何一個(gè)都高。
在該狀態(tài)之后，如圖8C所示，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53使基板保持手部60僅前進(jìn)微小距離(例如4mm)。在該過(guò)程中，基板W的外周端面與定位導(dǎo)桿55的定位面57抵接，然后基板保持手部60在使螺旋彈簧74壓縮的同時(shí)前進(jìn)，與此相伴，基板W的前方的外周端面離開(kāi)陷入導(dǎo)桿63的限制面64。這樣一來(lái)，基板W的前方的外周端面與定位面57抵接，從而基板W定位結(jié)束。在該狀態(tài)下，前進(jìn)端傳感器81變?yōu)榇蜷_(kāi)，夾緊確認(rèn)傳感器83變?yōu)殛P(guān)閉，定位確認(rèn)傳感器84變?yōu)榇蜷_(kāi)，后退端傳感器82變?yōu)殛P(guān)閉。
接著，如圖8D所示，控制部件20將氣缸70的連桿71控制在后退位置。由此，前進(jìn)端傳感器81、夾緊確認(rèn)傳感器83以及定位確認(rèn)傳感器84變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)，取而代之后退端傳感器82變?yōu)榇蜷_(kāi)。陷入導(dǎo)桿75的限制面77后退到離開(kāi)基板W的外周端面的位置，螺旋彈簧74變?yōu)榉菈嚎s狀態(tài)。
進(jìn)而，控制部件20控制驅(qū)動(dòng)部件30(參照?qǐng)D3)使支撐部件7的基板支撐高度上升。由此，基板W從陷入導(dǎo)桿63、75交接到支撐部件7(圖8E)。
然后，控制部件20控制手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)53使基板保持手部60進(jìn)一步下降，然后使基板保持手部60后退，從而使之從旋轉(zhuǎn)卡盤4退避(圖8F)。
這樣一來(lái)，使基板W的外周端面接觸定位導(dǎo)桿55的定位面57之后，通過(guò)將基板W遞交給支撐部件7，從而以與旋轉(zhuǎn)基座5的旋轉(zhuǎn)軸線J校準(zhǔn)中心的狀態(tài)支撐基板W。
之后的動(dòng)作與上述的第一實(shí)施方式的情況相同。
在上述的第一實(shí)施方式中，在定位基板W時(shí)，使基板W在定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59上滑動(dòng)，與此相對(duì)，在本實(shí)施方式中，使基板W在基板保持手部60所具備的陷入導(dǎo)桿63、75的支撐爪66、79上滑動(dòng)，從而進(jìn)行其定位。因該區(qū)別點(diǎn)，第二實(shí)施方式有以下優(yōu)點(diǎn)。
第一，對(duì)基板W的下表面的抵接變少。特別在周端部形成有缺口(例如表示半導(dǎo)體結(jié)晶方位的標(biāo)記)時(shí)，為了與基板W的方向無(wú)關(guān)的可靠地進(jìn)行定位，在第一實(shí)施方式時(shí)基板支撐部件56、59需要支撐基板W的下表面的比較內(nèi)側(cè)的區(qū)域。與此相對(duì)，在第二實(shí)施方式中，由于能夠使基板保持手部60所具備的支撐爪66、79以與基板W的下邊點(diǎn)接觸的狀態(tài)來(lái)滑動(dòng)基板W，所以能夠回避向基板W的下表面的內(nèi)側(cè)的區(qū)域抵接。例如，在處理中支撐基板W的支撐部件7在距基板W的外周端面規(guī)定寬度(例如2mm)的周邊區(qū)域內(nèi)與基板W的下表面抵接。此時(shí)，為了以基板支撐部件56、59來(lái)支撐基板W，則不得不在支撐部件7的內(nèi)側(cè)區(qū)域支撐基板W的下表面，但在第二實(shí)施方式中，在基板保持手部60上使基板W滑動(dòng)來(lái)進(jìn)行定位，就沒(méi)有上述問(wèn)題。
第二，能夠抑制定位精度隨時(shí)間變化。定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58在基板W的處理中會(huì)暴露在藥液中，所以需要以耐藥性的材料(例如含氟樹(shù)脂)構(gòu)成，但這種材料的耐磨損性未必達(dá)到要求。因此，反復(fù)使用會(huì)使其磨損，導(dǎo)致定位精度惡化。與此相對(duì)，基板保持手部60的支撐爪66、79并不直接接觸到藥品，所以在選擇素材上耐磨損性比耐藥性優(yōu)先。因此，能夠長(zhǎng)時(shí)間的維持高的定位精度。
以上，對(duì)本發(fā)明的兩個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，當(dāng)然本發(fā)明也可以以其它的方式實(shí)施。例如，在上述實(shí)施方式中，例示了只與基板W的下表面的周邊部抵接而保持基板W的結(jié)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)卡盤4作為基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，，但本發(fā)明也可以適用于具備以下方式的旋轉(zhuǎn)卡盤的基板處理裝置，即，以多根夾持構(gòu)件夾持基板W的外周端面的機(jī)械卡盤、真空吸附基板W的下表面的吸附卡盤等。
另外，在上述第一實(shí)施方式中，通過(guò)基板保持手部60的前進(jìn)以及氣缸70的連桿71的前進(jìn)兩者將基板W推向定位導(dǎo)桿55的定位面57，但也可通過(guò)任何一方的前進(jìn)將基板W推向定位導(dǎo)桿55的定位面57并且，在上述的第一實(shí)施方式中，使基板W在定位導(dǎo)桿55以及定位時(shí)用基板支撐銷58的基板支撐部件56、59上滑動(dòng)來(lái)定位該基板W，但也可以在支撐部件7支撐定位時(shí)的基板W的滑動(dòng)的狀態(tài)下進(jìn)行定位。此時(shí)，不需要定位時(shí)用基板支撐銷58，定位導(dǎo)桿55不需要具有基板支撐部件56。
并且，在上述第一以及第二實(shí)施方式中，后方側(cè)的陷入導(dǎo)桿75具有支撐基板W的下邊的支撐爪79和限制面77，并具有兩方面功能，即支撐基板W的功能、和在將基板W推向定位導(dǎo)桿55時(shí)作為與基板W抵接的基板抵接部件的功能。但是，也可以將這些功能通過(guò)分別不同的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，可以在氣缸70的連桿71上，經(jīng)由托架73而結(jié)合無(wú)基板支撐功能的基板抵接部件，例如可以在氣缸70的兩側(cè)，在橫梁62(參照?qǐng)D2)上固定一對(duì)陷入導(dǎo)桿。此時(shí)的基板抵接部件例如可以做成從陷入導(dǎo)桿75上省略支撐爪79的結(jié)構(gòu)。
另外，在上述實(shí)施方式中，通過(guò)氣缸70來(lái)使作為基板抵接部件的陷入導(dǎo)桿75進(jìn)退，但也可以例如使用馬達(dá)那樣的氣缸以外的驅(qū)動(dòng)單元。
并且，在上述的實(shí)施方式中，為了變更支撐部件7的基板支撐高度，顯示了在旋轉(zhuǎn)基座5上安裝了馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)部件30的結(jié)構(gòu)，但也可以成為通過(guò)設(shè)在旋轉(zhuǎn)基座5內(nèi)的連接機(jī)構(gòu)等將來(lái)自設(shè)在旋轉(zhuǎn)基座5外的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力傳到支撐部件7，從而來(lái)變更支撐部件7的基板支撐高度的結(jié)構(gòu)。更為具體的說(shuō)，例如，可以利用在此引用的美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)US2004/0159343A1中所公開(kāi)的結(jié)構(gòu)，將來(lái)自設(shè)在旋轉(zhuǎn)基座5外的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)力傳到旋轉(zhuǎn)基座5內(nèi)的連接結(jié)構(gòu)。
針對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式詳細(xì)進(jìn)行了說(shuō)明，但這些不過(guò)是為了明確本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容而使用的具體的例子，本發(fā)明并不應(yīng)夠被這些具體例子所限定來(lái)進(jìn)行解釋，本發(fā)明的精神以及范圍只限定于所附的權(quán)利要求書(shū)的范圍。
本申請(qǐng)與2006年3月28日向日本專利局提交的JP特愿2006-89049號(hào)相對(duì)應(yīng)，本申請(qǐng)的全部公開(kāi)均引用于此。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于保持基板并使基板旋轉(zhuǎn)；定位構(gòu)件，其設(shè)置在該基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，并用于將基板定位在規(guī)定的基板保持位置；基板搬送機(jī)構(gòu)，其將基板遞交給上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；推壓?jiǎn)卧?，其設(shè)置在該基板搬送機(jī)構(gòu)，將基板推向上述定位構(gòu)件。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述推壓?jiǎn)卧ɑ宓纸硬考?，其與基板的端面抵接；基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使該基板抵接部件向定位構(gòu)件移動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板搬送機(jī)構(gòu)包括保持基板的基板保持手部，上述基板抵接部件設(shè)置在上述基板保持手部，上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括使上述基板保持手部向上述定位構(gòu)件移動(dòng)的手部驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述基板抵接部件相對(duì)上述基板保持手部進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板搬送機(jī)構(gòu)包括保持基板的基板保持手部，上述基板抵接部件設(shè)置在上述基板保持手部，上述基板抵接部件移動(dòng)機(jī)構(gòu)包括相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述基板抵接部件相對(duì)上述基板保持手部進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1～5中任意一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置還包括定位用基板支撐部件，該定位用基板支撐部件在基板的端面處于與上述定位構(gòu)件對(duì)置的位置的狀態(tài)下，以使基板能夠向上述定位構(gòu)件移動(dòng)的方式支撐該基板。
7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述定位用基板支撐部件設(shè)置在上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，上述定位用基板支撐部件設(shè)置在上述基板搬送機(jī)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括處理用基板支撐部件，該處理用基板支撐部件在處理基板時(shí)與該基板的一側(cè)表面抵接并支撐該基板。
10.如權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，該基板處理裝置還包括流體供給單元，該流體供給單元向被上述處理用基板支撐部件支撐的基板的另一側(cè)表面供給用于將基板按壓在上述處理用基板支撐部件的流體。
11.一種基板搬送方法，其特征在于，包括將定位構(gòu)件設(shè)置在基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的步驟，其中，上述定位構(gòu)件用于將基板定位在規(guī)定的基板保持位置，上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于保持基板并使基板旋轉(zhuǎn)；通過(guò)推壓?jiǎn)卧獙⒃摶逋葡蛏鲜龆ㄎ粯?gòu)件的步驟，其中，上述推壓?jiǎn)卧O(shè)置在用于將基板遞交給該基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的基板搬送機(jī)構(gòu)；將基板從上述基板搬送機(jī)構(gòu)交接到上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的步驟。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基板處理裝置和基板搬送方法，該基板處理裝置包括基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于保持并旋轉(zhuǎn)基板；定位構(gòu)件，其設(shè)在該基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上，用于將基板定位在規(guī)定的基板保持位置；基板搬送機(jī)構(gòu)，其將基板遞交給到上述基板保持旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；推壓?jiǎn)卧?，其設(shè)在該基板搬送機(jī)構(gòu)上，將基板推向上述定位構(gòu)件。
文檔編號(hào)H01L21/687GK101047115SQ20071009140
公開(kāi)日2007年10月3日 申請(qǐng)日期2007年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月28日
發(fā)明者西出信彥 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社