本發(fā)明涉及電極片切割領(lǐng)域，尤其涉及一種電極片切割粉塵及廢料清除裝置。

背景技術(shù)：

金屬電極片在切割形成廢料的同時(shí)還形成了粉塵，需要對(duì)粉塵進(jìn)行清除，傳統(tǒng)清理粉塵僅通過風(fēng)刀將粉塵吹出切割位置，粉塵的清理效果較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種電極片切割粉塵及廢料清除裝置，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中電極片切割后形成的粉塵清理效果較差的技術(shù)問題。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種電極片切割粉塵及廢料清除裝置，包括：切割輥以及切割頭，電極片原材繞于所述切割輥上，并隨所述切割輥轉(zhuǎn)動(dòng)而進(jìn)給，所述切割頭朝向所述切割輥，用于對(duì)所述電極片原材切割形成電極片，所述電極片切割粉塵及廢料清除裝置還包括：

支架，所述支架包括下部以及上部，所述支架自所述下部延伸至所述上部，所述支架與所述切割輥之間形成清除空間；

空氣放大器，所述空氣放大器固定于所述下部，所述下部上設(shè)置有通孔，所述空氣放大器包括通道，所述通道經(jīng)所述通孔與所述清除空間導(dǎo)通；

第一風(fēng)刀，所述第一風(fēng)刀定位于所述上部并朝向所述清除空間吹風(fēng)；

所述電極片原材切割后形成的粉塵或廢料經(jīng)自所述清除空間、所述通孔及所述通道被清除。

進(jìn)一步地，所述支架還包括過渡部，所述過渡部上設(shè)置有穿孔，所述切割頭自所述穿孔垂直于所述切割輥進(jìn)而對(duì)切割輥上的電極片原材切割。

進(jìn)一步地，所述切割頭為激光切割頭，激光束通過所述穿孔切割所述電極片原材。

進(jìn)一步地，所述第一風(fēng)刀相對(duì)于所述支架轉(zhuǎn)動(dòng)，從而調(diào)整對(duì)吹出的風(fēng)向角度進(jìn)行調(diào)整。

進(jìn)一步地，所述切割輥上設(shè)置有切割孔，所述切割孔與切割頭相對(duì)，所述電極片原材覆蓋于所述切割孔，所述切割頭在所述切割孔位置對(duì)電極片原材切割。

進(jìn)一步地，所述電極片粉塵清除裝置還包括限位小棍，所述限位小棍固定于所述下部，并位于所述切割孔下方，所述限位小棍與所述切割輥的表面形成吸附縫隙，所述限位小棍將所述電極片原材壓緊在所述切割輥上，所述第一風(fēng)刀將切割粉塵經(jīng)所述限位小棍相對(duì)于所述切割輥的另一側(cè)吹入所述空氣放大器中。

進(jìn)一步地，所述電極片原材在切割后形成廢料帶，所述廢料帶自所述限位小棍靠近所述切割輥的一側(cè)被所述第一風(fēng)刀吹入所述空氣放大器中。

進(jìn)一步地，所述電極片切割粉塵及廢料清除裝置還包括第二風(fēng)刀，所述第二風(fēng)刀定位于所述上部，并相對(duì)于所述上部轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二風(fēng)刀與靠近所述過渡部。

進(jìn)一步地，所述第一風(fēng)刀靠近所述切割輥，所述第一風(fēng)刀吹出的風(fēng)與所述切割輥的切割位置相切。

進(jìn)一步地，所述通道內(nèi)的氣壓小于所述空氣放大器外部氣壓。

本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明的電極片切割粉塵及廢料清除裝置通過設(shè)置朝向切割輥上的切割位置設(shè)置的第一風(fēng)刀，對(duì)切割位置附近的粉塵吹風(fēng)至空氣放大器的通道；且切割后形成的粉塵在支架所形成的相對(duì)封閉的狹小空間內(nèi)被第一風(fēng)刀吹至通道，具有很好的粉塵清除效果，有效的防止了粉塵向清除裝置外的擴(kuò)散，提高清除的效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。

圖1為本發(fā)明電極片切割廢料粉塵清除裝置的側(cè)視圖；

圖2為本發(fā)明支架與空氣放大器的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

參見圖1以及圖2，本發(fā)明實(shí)施例提供一種電極片切割廢料粉塵清除裝置，其包括切割輥10以及切割頭20，電極片原材30繞于所述切割輥10上，并隨所述切割輥10轉(zhuǎn)動(dòng)而進(jìn)給，所述切割頭20朝向所述切割輥10，用于對(duì)所述電極片原材30切割。

所述電極片切割粉塵及廢料清除裝置還包括：支架100、空氣放大器300以及第一風(fēng)刀400，支架100包括下部11以及上部12，所述下部11位于所述切割輥10下方，所述上部12位于所述切割輥10上方，所述支架100自所述下部11延伸至所述上部12，所述支架100與所述切割輥10之間形成清除空間200；空氣放大器300固定于所述下部11，所述下部11上設(shè)置有通孔111，所述空氣放大器300朝向遠(yuǎn)離所述切割輥10的方向設(shè)置，其包括通道31，所述通道31經(jīng)所述通孔111與所述清除空間200導(dǎo)通；第一風(fēng)刀400定位于所述上部12并朝向所述切割輥10上的切割位置吹風(fēng)；所述電極片原材30切割后形成的粉塵或廢料經(jīng)自所述清除空間200、所述通孔111及所述通道31被清除。

在本實(shí)施方式中，所述支架100是自下部11到上部12延伸并與切割輥10之間形成一個(gè)相對(duì)狹小的封閉空間，當(dāng)切割頭20在對(duì)覆蓋于切割輥10上的電極片原材30進(jìn)行切割后，形成的粉塵主要集中與該狹小的空間內(nèi)，當(dāng)?shù)谝伙L(fēng)刀400對(duì)該狹小的清除空間200內(nèi)吹風(fēng)時(shí)，該清除空間200內(nèi)的粉塵通過通孔111被吹入空氣放大器300的通道31內(nèi)，從而有利于提高粉塵清理的效率以及效果，防止粉塵向該裝置外圍的空間內(nèi)擴(kuò)散，有利于提高該裝置的穩(wěn)定性，減少故障。

在本實(shí)施方式中，所述支架100優(yōu)選的為c形，其中c形的開口位置收容切割輥10，c形開口的上方安裝第一風(fēng)刀400，c形開口的下方固定空氣放大器300，具有c形的支架100更加符合流體力學(xué)特性，能夠提高粉塵清理的效果。

進(jìn)一步地，所述第一風(fēng)刀400相對(duì)于所述支架100轉(zhuǎn)動(dòng)，從而調(diào)整對(duì)吹出的風(fēng)向角度進(jìn)行調(diào)整。

在本實(shí)施方式中，第一風(fēng)刀400安裝時(shí)定位于支架100上，可以通過在支架100上安裝固定架后，然后將所述第一風(fēng)刀400定位于固定架，也可以將第一風(fēng)刀400支架100定位于支架100上。在第一風(fēng)刀400相對(duì)于支架100定位后，第一風(fēng)刀400可以相對(duì)于支架100轉(zhuǎn)動(dòng)，通過轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)整第一風(fēng)刀400與切割輥10上的切割位置之間的角度，優(yōu)選的是，調(diào)整第一風(fēng)刀400的角度使第一風(fēng)刀400吹出的風(fēng)與切割輥10上的切割位置相切。當(dāng)?shù)谝伙L(fēng)刀400吹出的風(fēng)與切割輥10切割位置相切時(shí)，能夠保證第一風(fēng)刀400在切割位置上又最大的風(fēng)量，可以有效的清除切割輥10上切割位置附近的粉塵，提高清除的效果。當(dāng)?shù)谝伙L(fēng)刀400的角度調(diào)整至吹出的風(fēng)與切割輥10上切割位置相切時(shí)，通過緊固件固定第一風(fēng)刀400，防止第一風(fēng)刀400轉(zhuǎn)動(dòng)。當(dāng)該清除裝置匹配不同直徑大小的切割輥10時(shí)，可以再次對(duì)第一風(fēng)刀400的角度進(jìn)行調(diào)整，從而適應(yīng)了不同的切割輥10尺寸，使本裝置的適用性更強(qiáng)。

進(jìn)一步地，所述切割輥10上設(shè)置有切割孔101，所述切割孔101與切割頭20相對(duì)，所述電極片原材30覆蓋于所述切割孔101，所述切割頭20在所述切割孔101位置對(duì)電極片原材30切割。

在本實(shí)施方式中，于切割輥10上設(shè)置切割孔101的方式一方面可以為切割頭20切割位置提供定位的依據(jù)，另一方面可以為切割頭20的切割預(yù)留避讓空間，防止損壞切割頭20。

進(jìn)一步地，所述電極片粉塵清除裝置還包括限位小棍600，所述限位小棍600固定于所述下部11，并位于所述切割孔101下方，所述限位小棍600與所述切割輥10的表面形成吸附縫隙，所述限位小棍600將所述電極片原材30壓緊在所述切割輥10上。

在本實(shí)施方式中，限位小棍600起到了壓緊電極片原材30的目的，使電極片原材30隨切割輥10的轉(zhuǎn)動(dòng)而進(jìn)給，防止電極片原材30相對(duì)于切割輥10打滑。另一方面，當(dāng)在切割輥10的切割位置的下方附近設(shè)置限位小棍600后，可以在切割輥10的切割位置附近因阻擋風(fēng)道，而在一定程度上增加風(fēng)的風(fēng)壓，有利于將切割輥10上吸附的粉塵吹掉。

進(jìn)一步地，所述電極片原材30在切割后形成廢料帶，所述廢料帶自所述限位小棍600靠近所述切割輥10的一側(cè)被所述第一風(fēng)刀400吹入所述空氣放大器300中。

在本實(shí)施方式中，限位小棍600同時(shí)還起到了防止廢料到被第一風(fēng)刀400吹出的風(fēng)帶向遠(yuǎn)離切割輥10的位置，從而阻礙清除空間200與通道31的導(dǎo)通效果，有利于第一風(fēng)刀400清除粉塵。

進(jìn)一步地，所述通道31內(nèi)的氣壓小于所述空氣放大器300外部氣壓。

在本實(shí)施方式中，通過設(shè)置一個(gè)通道31內(nèi)部氣壓小于外部氣壓的空氣放大器300，能夠增大所述空氣放大器300與清除空間200內(nèi)的空氣壓力，從而提高粉塵清除的效果。

進(jìn)一步地，所述支架100還包括過渡部13，所述過渡部13上設(shè)置有穿孔131，所述切割頭20自所述穿孔131垂直于所述切割輥10進(jìn)而對(duì)切割輥10上的電極片原材30切割。

在本實(shí)施方式中，支架100的下部11、上部12以及過渡部13，從而形成一個(gè)相對(duì)狹小的空間，切割頭20通過穿孔131對(duì)切割輥10上的電極片原材30切割，既不影響電極片原材30的切割，又能夠保證該清除空間200處于相對(duì)狹小，提高清除效果。

進(jìn)一步地，所述切割頭20為激光切割頭20，激光束通過所述穿孔131切割所述電極片原材30。

在本實(shí)施方式中，采用激光切割頭20有利于提高切割精度。

進(jìn)一步地，所述電極片切割粉塵及廢料清除裝置還包括第二風(fēng)刀500，所述第二風(fēng)刀500定位于所述上部12，并相對(duì)于所述上部12轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二風(fēng)刀500與靠近所述過渡部13。

在本實(shí)施方式中，設(shè)置限位小棍600后，限位小棍600對(duì)切割輥10切割位置附近風(fēng)通道具有阻礙作用，此時(shí)第一風(fēng)刀400將切割粉塵經(jīng)所述限位小棍600相對(duì)于所述切割輥10的另一側(cè)吹入所述空氣放大器300中，第一風(fēng)刀400吹出的粉塵勢(shì)必會(huì)在支架100的過渡部13附近增多堆積，增多的粉塵不利于粉塵的清除。本實(shí)施方式中，通過設(shè)置第二風(fēng)刀500，使第二風(fēng)刀500位于靠近過渡部13的位置，能夠有效地在第一風(fēng)刀400將粉塵吹向過渡部13的過程中將粉塵直接吹入通孔111以及空氣放大器300中，提高粉塵的清除效果。

以上僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。