磁盤用玻璃基板的制造方法、磁盤用玻璃基板和磁盤的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及在搭載于硬盤驅(qū)動器（下文中簡稱為"HDD"）等磁記錄裝置的磁盤中 所用的磁盤用玻璃基板及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 作為搭載于HDD等磁記錄裝置的一種信息記錄介質(zhì)，存在磁盤。磁盤是在基板上 形成磁性層等薄膜而構(gòu)成的，作為該基板過去一直使用鋁基板。但是，最近，隨著記錄的高 密度化的要求，與鋁基板相比玻璃基板能夠使磁頭和磁盤之間的間隔變得更窄，因此玻璃 基板所占有的比例逐漸升高。另外，對玻璃基板表面高精度地進行研磨以使磁頭的懸浮高 度盡量下降，由此實現(xiàn)記錄的高密度化。近年來，對HDD越來越多地要求更大的存儲容量化 和價格的低廉化，為了實現(xiàn)這樣的目的，磁盤用玻璃基板也需要進一步的高品質(zhì)化、低成本 化。
[0003] 如上所述，為了進行對于記錄的高密度化所必須的低飛行高度（懸浮量）化，磁盤 表面必須具有高平滑性。為了得到磁盤表面的高平滑性，結(jié)果要求具有高平滑性的基板表 面，因此需要對玻璃基板表面進行高精度的研磨。
[0004] 在現(xiàn)有的玻璃基板的研磨方法中，一邊供給含有氧化鈰或膠態(tài)二氧化硅等金屬氧 化物的研磨材料的漿料（研磨液），一邊使用聚氨酯等拋光材料的研磨墊來進行研磨。具有 高平滑性的玻璃基板可以在利用例如氧化鈰系研磨材料進行研磨后，進一步通過使用了膠 態(tài)二氧化硅磨粒的拋光研磨（鏡面研磨）而獲得。
[0005] 此處，例如專利文獻1中記載了一種磁盤用玻璃基板，其對基板的表面缺陷的形 狀和個數(shù)進行了管理，能夠抑制搭載有飛行高度非常小的磁頭的HDD中的不良情況的發(fā) 生。
[0006] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007] 專利文獻
[0008] 專利文獻1 :國際公開第2010/001843號

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明要解決的課題
[0010] 現(xiàn)在的HDD中，例如，每一張2. 5英寸型（直徑65mm)的磁盤能夠存儲320千兆 字節(jié)程度的信息，但是要求實現(xiàn)記錄的更高密度化、例如750千兆字節(jié)、進而1太字節(jié)。伴 隨著這種近年來的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品質(zhì)的要求也比迄今為止更加嚴 格。在面向上述那樣的例如750千兆字節(jié)的磁盤的下一代基板中，由于基板對HDD的可靠 性所產(chǎn)生的影響變大，因此不僅是基板表面的粗糙度，而且在不存在異物缺陷等表面缺陷 的方面也要求對現(xiàn)有產(chǎn)品進行進一步的改善。
[0011] 在下一代基板中基板對HDD的可靠性所產(chǎn)生的影響變大是基于下述理由。
[0012] 可以舉出磁頭的懸浮量（磁頭與介質(zhì)（磁盤）表面的間隙）的大幅降低（低懸 浮量化）。這樣一來，磁頭與介質(zhì)的磁性層的距離接近，因此能夠在更小的區(qū)域記入信號 及拾取更小的磁性顆粒的信號，能夠?qū)崿F(xiàn)記錄的高密度化。近年來，使磁頭搭載了被稱為 DFH(DynamicFlyingHeight，動態(tài)飛行高度）控制的功能。該功能并不是降低滑塊的懸浮 量，而是利用在磁頭的記錄再生元件部附近內(nèi)置的加熱器等加熱部的熱膨脹，僅使記錄再 生元件部向介質(zhì)表面方向突出（接近）?？梢灶A(yù)計：今后，通過該DFH功能，磁頭的元件部與 介質(zhì)表面的間隙變得極小，小于2nm。在這種狀況下，使基板表面的平均粗糙度變得極小，結(jié) 果可知：若存在以往未成為問題的異物缺陷等表面缺陷，則突出的磁頭的記錄再生元件部 與異物缺陷發(fā)生碰撞，這種磁頭與異物缺陷的碰撞再三發(fā)生時，會對磁頭的驅(qū)動產(chǎn)生影響， 有可能引起因元件劣化導(dǎo)致的讀取不良這樣的重大故障。
[0013] 另外，在上述專利文獻1中，作為被認為在具備Dra功能的磁頭（下文中簡稱為 "Dra磁頭"）那樣的飛行高度非常小的磁頭中產(chǎn)生影響的缺陷，舉出了凸區(qū)域?qū)挼耐範町愇?缺陷。對于這種凸區(qū)域?qū)挼娜毕荩缗c凸區(qū)域尖銳的缺陷相比，與磁頭接觸的面積相對較 大，對磁頭施加較大的碰撞能量，結(jié)果磁頭有可能發(fā)生碰撞。
[0014] 近年來，作為能夠防止因存在上述專利文獻1中記載的凸區(qū)域?qū)挼娜毕菟鶎?dǎo)致的 DHl磁頭的碰撞的技術(shù)，提出了使用搭載了HDIOfeadDiskInterface，頭盤界面）傳感器 的DHl磁頭的技術(shù)。
[0015] 該HDI傳感器是指接觸檢測傳感器，檢測出磁盤表面的凸狀缺陷（突起物）。HDI 傳感器例如由MR(magnetoresistive，磁阻）元件構(gòu)成，利用過溫（ThermalAsperity)現(xiàn)象 進行檢測。
[0016] 通過使用搭載有該HDI傳感器的DHl磁頭，檢測出基于該HDI傳感器的磁盤表面 的狀態(tài)，基于該檢測結(jié)果來控制在磁盤表面上掃描的DHl磁頭的寫入元件和讀入元件中的 至少一個元件的突出量，從而認為能夠避免在磁盤表面存在的凸狀缺陷與寫入?讀入元件 的接觸?？傊?，可以認為：通過使用HDI傳感器，能夠檢測出磁盤表面的狀態(tài)，因此即使存在 上述專利文獻1中記載的凸區(qū)域?qū)挼娜毕?，在DHl磁頭通過該缺陷前，控制寫入?讀入元件 的突出量，也能夠避免這些元件與缺陷發(fā)生接觸。
[0017] 然而，根據(jù)本發(fā)明人的研究可知，在欲制造例如超過750千兆字節(jié)這樣的現(xiàn)有之 上的高記錄密度的磁盤時，即使在使用了上述HDI傳感器的情況下，有時也可引起預(yù)測之 外的磁頭碰撞。
[0018] 本發(fā)明人對其原因也進行了調(diào)查，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，由于迄今未檢測出的某種特定缺陷 的存在，很有可能引起例如磁頭的讀取錯誤的發(fā)生頻率增大，進而引起上述磁頭碰撞的問 題。
[0019] 于是，本發(fā)明是為了解決這樣的現(xiàn)有問題而進行的，其目的在于提供一種磁盤用 玻璃基板的制造方法、磁盤用玻璃基板和磁盤的制造方法，該磁盤用玻璃基板的制造方法 即便在形成使用上述HDI傳感器的DHl磁頭對應(yīng)的磁盤時，也能夠降低預(yù)測之外可引起磁 頭碰撞的異物缺陷。
[0020] 用于解決課題的方案
[0021] 本發(fā)明人對可引起上述磁頭碰撞的異物缺陷的產(chǎn)生原因進行了進一步的調(diào)查，結(jié) 果可知，在作為磁盤的基板的玻璃基板的表面存在異物。并且可知，即使根據(jù)例如上述專利 文獻1所公開的制造方法進行制造，有時也會存在該異物。即，認為與上述專利文獻1中成 為問題的現(xiàn)有的凸區(qū)域?qū)挼娜毕菔钱a(chǎn)生原因不同的異物缺陷。
[0022] 于是，本發(fā)明人對該異物缺陷的產(chǎn)生原因進行了進一步的研究，結(jié)果可知，玻璃基 板的研磨處理中所用的研磨液中含有成為上述缺陷的原因的異物。因此發(fā)現(xiàn)：即使在對玻 璃基板表面進行了研磨后，由于研磨液與玻璃基板接觸，因此研磨液中含有的異物會附著 于玻璃基板表面，通過之后的清洗等也無法除去，有可能存在于玻璃基板表面。
[0023] 于是，基于上述技術(shù)思想，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)：通過調(diào)整為研磨液中不含有成為上述缺 陷的原因的異物，或者選擇不含有這種異物的物質(zhì)作為研磨液，從而能夠解決上述課題，由 此完成了本發(fā)明。
[0024] S卩，本發(fā)明為了達到上述目的而具有以下的構(gòu)成。
[0025] (構(gòu)成 1)
[0026] -種磁盤用玻璃基板的制造方法，該磁盤用玻璃基板的制造方法適用于下述DFH 磁頭對應(yīng)的磁盤，該DHl磁頭對應(yīng)的磁盤搭載有HDI傳感器，能夠基于來自上述HDI傳感器 的信號對記錄再生元件的至少一個元件的突出量進行控制，該磁盤用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨處理：向玻璃基板的主表面與研磨墊之間供給包含膠態(tài)二氧化硅的研磨液， 使玻璃基板與研磨墊接觸，對玻璃基板的主表面進行鏡面研磨，其特征在于，為了防止含有 鋁（Al)、硅（Si)和氧（0)的各元素的異物的產(chǎn)生，至少在酸性環(huán)境下對上述研磨液進行調(diào) 整。
[0027] (構(gòu)成 2)
[0028] -種磁盤用玻璃基板的制造方法，該磁盤用玻璃基板的制造方法適用于下述Dra 磁頭對應(yīng)的磁盤，該DHl磁頭對應(yīng)的磁盤搭載有HDI傳感器，能夠基于來自上述HDI傳感器 的信號對記錄再生元件的至少一個元件的突出量進行控制，該磁盤用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨處理：向玻璃基板的主表面與研磨墊之間供給包含膠態(tài)二氧化硅的研磨液， 使玻璃基板與研磨墊接觸，對玻璃基板的主表面進行鏡面研磨，其特征在于，作為上述研磨 液，選擇不含有含鋁（Al)、硅（Si)和氧（0)的各元素的異物的研磨液，在將上述玻璃基板作 成磁盤并用磁頭進行記錄再生時，上述各元素可抑制記錄再生；利用該選擇的研磨液進行 上述研磨處理。
[0029] (構(gòu)成 3)
[0030] 如構(gòu)成1或2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述異物為層狀化 合物。
[0031] (構(gòu)成 4)
[0032] 如構(gòu)成1~3中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述膠態(tài) 二氧化硅是利用離子交換法所制造的。
[0033] (構(gòu)成 5)
[0034] 如構(gòu)成1~4中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述膠態(tài) 二氧化硅中的鋁（Al)的含量為5yg/g以下。
[0035] (構(gòu)成 6)
[0036] 如構(gòu)成1~5中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在上述研 磨處理后，以清洗前后的玻璃基板的表面粗糙度Rq之差為〇. 〇5nm以下的條件進行玻璃基 板的清洗處理。
[0037](構(gòu)成 7)
[0038] 如構(gòu)成1~6中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述磁盤 用玻璃基板是在搭載于服務(wù)器用的硬盤驅(qū)動器的磁盤中所用的玻璃基板。
[0039](構(gòu)成 8)
[0040] -種磁盤用玻璃基板的制造方法，該磁盤用玻璃基板的制造方法適用于下述Dra 磁頭對應(yīng)的磁盤，該DHl磁頭對應(yīng)的磁盤搭載有HDI傳感器，能夠基于來自上述HDI傳感器 的信號對記錄再生元件的至少一個元件的突出量進行控制，該磁盤用玻璃基板的制造方法 包括下述研磨處理：向玻璃基板的主表面與研磨墊之間供給包含膠態(tài)二氧化硅的研磨液， 使玻璃基板與研磨墊接觸，對玻璃基板的主表面進行鏡面研磨，其特征在于，在將上述玻璃 基板作成磁盤并用上述DHl磁頭進行記錄再生時，為了防止可抑制上述記錄再生的異物的 產(chǎn)生，上述研磨液進行了調(diào)整。
[0041] (構(gòu)成 9)
[0042] -種磁盤的制造方法，其特征在于，在利用構(gòu)成1~8中任一項所述的磁盤用玻璃 基板的制造方法所得到的磁盤用玻璃基板的主表面上至少形成磁性膜。
[0043](構(gòu)成10)
[0044] 一種磁盤用玻璃基板，其為具有主表面的磁盤用玻璃基板，其特征在于，對于上述 基板的主表面，利用原子力顯微鏡以256X256像素的分解率測定IymXIym見方的測定 區(qū)域時的算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 15nm以下，且30nm~200nm的波段的算術(shù)平均粗糙度Ra 為0. 06nm以下，對于上述基板的主表面，以6ym的光斑直徑照射波長405nm、功率80mW的 激光，通過來自上述基板的主表面的散射光檢測出異物時，每一個主表面存在30個以