專利名稱:將相變存儲(chǔ)器并入cmos工藝的非易失性sram單元的制作方法
將相變存儲(chǔ)器并入CMOS工藝的非易失性SRAM單元
背景技術(shù):
對(duì)增加功能和減少整體系統(tǒng)成本的需求給消費(fèi)類電子設(shè)備設(shè)置了系統(tǒng)限制。易失 性和非易失性存儲(chǔ)器已經(jīng)在諸如汽車導(dǎo)航系統(tǒng)、智能電話、數(shù)碼相機(jī)、PDA和MP3播放器以 及無數(shù)的其他便攜應(yīng)用之類的消費(fèi)類設(shè)備中使用。新的非易失性技術(shù)正計(jì)劃用于在數(shù)碼消 費(fèi)類設(shè)備中的越來越多的功能。這些新的非易失性存儲(chǔ)具有在這些消費(fèi)類設(shè)備中提供改進(jìn) 性能的特性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,該靜態(tài) 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元具有兩個(gè)通道晶體管和四個(gè)連接在兩個(gè)交叉耦合的反相器中的邏輯 晶體管,該靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元由互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)形成;以及相變存儲(chǔ)器 部分,該相變存儲(chǔ)器部分層疊在所述靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元上,以給該靜態(tài)隨機(jī)存取存 儲(chǔ)器單元提供非易失性。本發(fā)明提供了一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括處于靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中 的第一和第二通道門晶體管,該第一和第二通道門晶體管耦合到位線,用于對(duì)兩個(gè)交叉耦 合的反相器進(jìn)行編程;以及耦合到所述位線的第三和第四通道門晶體管,用于將第一相變 存儲(chǔ)器元件編程為設(shè)置狀態(tài),并將第二相變存儲(chǔ)器元件編程為復(fù)位狀態(tài),其中所述兩個(gè)交 叉耦合的反相器加載所述第一和第二相變存儲(chǔ)器元件的數(shù)據(jù)。本發(fā)明提供了一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括處于靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中 的第一和第二通道門晶體管,該第一和第二通道門晶體管耦合到位線,用于對(duì)兩個(gè)交叉耦 合的反相器進(jìn)行編程;以及第一和第二導(dǎo)體,所述第一和第二導(dǎo)體分別將第一相變存儲(chǔ)器 元件編程為設(shè)置狀態(tài),并將第二相變存儲(chǔ)器元件編程為復(fù)位狀態(tài),其中所述兩個(gè)交叉耦合 的反相器加載所述第一和第二相變存儲(chǔ)器元件的數(shù)據(jù)。本發(fā)明提供了一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯,該互 補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯形成易失性存儲(chǔ)器元件;以及相變存儲(chǔ)器,該相變存儲(chǔ)器被添加 到所述互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯,以將非易失性特征給予所述存儲(chǔ)單元。本發(fā)明利用了 PCM容易與傳統(tǒng)CMOS工藝結(jié)合的特有能力,PCM材料可以被加到依 靠鎖存器的CMOS應(yīng)用中的電路,以提供非易失性存儲(chǔ)功能。
在說明書的總結(jié)部分特別指出并且單獨(dú)要求保護(hù)了本發(fā)明的主題。然而,對(duì)于本 發(fā)明的組織、操作方法、目的、特征以及益處,當(dāng)閱讀以下附圖時(shí),參考下面的詳細(xì)描述可以 更好地加以理解。圖1和圖2示出了一合并有相變存儲(chǔ)器材料以提供非易失性質(zhì)的靜態(tài)隨機(jī)存取存 儲(chǔ)器(SRAM)單元的實(shí)施例;圖3示出了與PCM部分結(jié)合的SRAM單元的實(shí)施例,其中通道門(passgate)專用于對(duì)PCM進(jìn)行編程;以及圖4示出了使用存儲(chǔ)在SRAM單元和PCM的組合中的數(shù)據(jù)來控制交叉點(diǎn)應(yīng)用中的 開關(guān)。需要理解的是,圖中示出的元件是為了簡(jiǎn)單清楚的說明而不必要作為限制。例如, 為清楚起見,一些元件的尺寸可以相對(duì)于其他的元件被夸大。進(jìn)一步地,在被認(rèn)為是恰當(dāng)?shù)?地方,參考標(biāo)號(hào)在圖中被重復(fù)來指示相應(yīng)或類似的元件。
具體實(shí)施例方式在下面的詳細(xì)描述中,大量的特定細(xì)節(jié)被提出以便提供對(duì)本發(fā)明的全面理解。然 而,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是,本發(fā)明可以在沒有這些特定細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施。在其他 實(shí)例下,已知方法、程序、組件和電路并未被詳細(xì)描述,以便不會(huì)使本發(fā)明難以理解??梢允褂眯g(shù)語“耦合”、“連接”以及其他派生詞。需要理解的是,這些術(shù)語彼此并 不同義。相反,在一些特定實(shí)施例中,“連接”可以被用于指示兩個(gè)或更多個(gè)元件彼此直接物 理或者電接觸?!榜詈稀笨梢员挥米髦甘緝蓚€(gè)或更多個(gè)元件彼此直接或間接(利用它們之間 的介入元件)物理或者電接觸,和/或兩個(gè)或更多個(gè)元件彼此合作或者交互(例如,以因果 關(guān)系)。圖1示出了增強(qiáng)型SRAM(e-SRAM)單元陣列100,每個(gè)e_SRAM單元陣列100具有與 相變存儲(chǔ)器(PCM)部分130結(jié)合以提供非易失性存儲(chǔ)性質(zhì)的靜態(tài)隨機(jī)訪問存儲(chǔ)器(SRAM) 單元102。PCM可以與SRAM單元結(jié)合,基本上是使用標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝集成到一起,所述標(biāo)準(zhǔn) CMOS工藝將處理后的層添加在“前端”設(shè)備層之后。PCM基本上位于SRAM邏輯的頂部,并 且在提供非易失性時(shí),在標(biāo)準(zhǔn)SRAM施加很小的附加區(qū)域損耗。PCM材料可以被集成在SRAM 單元中NMOS源極或者漏極觸點(diǎn)的頂部。這一 SRAM和PCM存儲(chǔ)器組合消除了對(duì)單獨(dú)的集成 PCM、集成閃存或者片下非易失性存儲(chǔ)器的需要。PCM單元材料包括周期表第VI族的諸如Te或%等元素的合金,這些合金被稱作硫 族化合物(chalcogenide)和硫族化物材料(chalcogenicmaterial)。硫族化合物可以在電 源從易失性SRAM存儲(chǔ)器上移除之后被有利地用來提供數(shù)據(jù)保留并保持穩(wěn)定。將相變材料 如Ge2Sb2Te5作為例子,兩種或更多種的相位被表現(xiàn)為具有對(duì)存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有用的不同電氣 特性。在本實(shí)施例中,硫族材料可以在兩種狀態(tài)間電切換,即非結(jié)晶狀態(tài)和結(jié)晶狀態(tài),從而 引起用于增強(qiáng)型SRAM(e-SRAM)單元100的非易失性存儲(chǔ)能力。這一圖顯示出了六個(gè)晶體管的CMOS SRAM單元,該單元具有存儲(chǔ)一位信息的兩個(gè) 交叉耦合的CMOS反相器。NMOS晶體管104和PMOS晶體管106形成鎖存器的一個(gè)反相器, 并且NMOS晶體管114和PMOS晶體管116形成鎖存器的另一個(gè)反相器。兩個(gè)NMOS通道晶 體管120、122由讀/寫線(R/W)來控制,以便將位線⑶和位線’(B’)信息傳遞到單元中。 相變存儲(chǔ)器材料層疊在CMOS設(shè)備的頂端,以便e-SRAM單元100具有由PCM阻抗元件132 和134提供的非易失性質(zhì)。該圖顯示出了與阻抗元件132耦合的通道門晶體管(pass gate transistor) 136以及與阻抗元件134耦合的通道門晶體管138。晶體管136和138由編程 線(PGM)啟用來將通過位線電壓提供的電流供應(yīng)到選定的阻抗元件,使局部的溫度高于硫 族化合物的熔化溫度。注意PMOS設(shè)備140和142可以被分?jǐn)偟皆S多單元中,并且在一些實(shí) 施例下可能從陣列中被除去。
5
只要PCM部分130未被編程,e-SRAM單元100便可以作為易失性存儲(chǔ)器用傳統(tǒng)方 式進(jìn)行讀寫。例如,在讀模式下,讀/寫線可以被激活來在位線B和B’上讀取CMOS鎖存器 的存儲(chǔ)值。SRAM單元102中的兩個(gè)交叉耦合的反相器驅(qū)動(dòng)該位線,該位線的值可以被讀出。 SRAM單元102的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是數(shù)據(jù)讀取幾乎可以與傳統(tǒng)的SRAM單元一樣快。為了在e-SRAM單元100中寫入新的數(shù)據(jù),讀/寫線被激活來啟用晶體管120、122, 以便用在位線B和B’上提供的數(shù)據(jù)來覆蓋交叉耦合的反相器的先前狀態(tài)。后續(xù)的命令可 以被發(fā)布給e-SRAM單元102以激活編程線PGM,并且將SRAM單元102的鎖存值載入PCM部 分130。在裝載PCM部分130后,e-SRAM單元100可以隨后被斷電,并且電源隨后被重新接 通,其中PCM的非易失性質(zhì)保留了所存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)。在替代的使用方式下,數(shù)據(jù)可以被直接地寫入PCM部分130中。所裝載的數(shù)據(jù)設(shè) 置PCM阻抗,該P(yáng)CM阻抗可使SRAM “不平衡”偏置,以便當(dāng)e-SRAM單元100加電時(shí),SRAM單 元102中的鎖存器加載(take on)包含于成對(duì)的PCM電阻上的數(shù)據(jù)。通過使用這種方法,與 PCM單元結(jié)合的SRAM單元對(duì)于在維持傳統(tǒng)SRAM的高速讀寫同時(shí)需要非易失性質(zhì)的應(yīng)用而 言是有好處的。在同一存儲(chǔ)器單元中混合易失性和非易失性存儲(chǔ)器提供了相當(dāng)?shù)偷拿芏龋?這在嵌入式邏輯電路中是有價(jià)值的。圖2示出了另一種實(shí)施例,在該實(shí)施例中,PCM材料層疊在SRAM單元中,其表現(xiàn)為 增強(qiáng)型SRAM (e-SRAM)單元陣列200,每個(gè)e-SRAM單元陣列200具有與相變存儲(chǔ)器(PCM)部 分230結(jié)合來提供非易失存儲(chǔ)性質(zhì)的靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(SRAM)單元202。在該實(shí)施例 中,PCM阻抗元件132連接在NMOS晶體管104的源極和標(biāo)記為SRCl的單獨(dú)的源極線路之 間;并且阻抗元件134連接在NMOS晶體管114的源極和標(biāo)記為SRC2的單獨(dú)的源極線路之 間。假定阻抗元件132和134被編程為設(shè)置(SET)狀態(tài),也就是,兩阻抗均被編程到低 阻抗?fàn)顟B(tài)。當(dāng)SRCl和SRC2源極線路處于接地電位(GND)時(shí),讀/寫線和B/B’線以常規(guī)方 式操作來讀寫SRAM單元202。e-SRAM單元200是易失性的,并且讀寫速度與最新型的SRAM 相似。為了使e-SRAM單元200存儲(chǔ)數(shù)據(jù)不易丟失,PCM部分230可以被寫入。舉例來說, 通過例如將SRCl源極線路上的電位提升到4伏的“抑制”電壓,PCM阻抗元件132可以保持 在SET狀態(tài),并且保持原狀。另一方面,通過將SRC2源極線路保持在接地電位,PCM阻抗元 件134可以被給予復(fù)位(RESET)脈沖。通道晶體管120和122可以隨后利用例如R/W線上的5伏電壓而被激活,所述R/ W線可驅(qū)動(dòng)直通晶體管120內(nèi)的抑制電壓。電源供應(yīng)和N井(Niell)也可以被提升到4伏 的抑制電壓來阻止PMOS晶體管106、116內(nèi)的正向偏置。由于NMOS晶體管104和PMOS晶體 管106均被偏置到4伏的抑制電壓,NMOS晶體管104和PMOS晶體管106會(huì)阻斷電流。NMOS 晶體管114和PMOS晶體管116的柵極也接收到4伏電壓。通道晶體管122傳遞例如B’上 所接收的3伏的編程電壓,該電壓將被發(fā)送通過NMOS晶體管114和PCM阻抗元件134。這 一高電流編程電流足以將PCM阻抗元件134轉(zhuǎn)換至RESET狀況。在這一編程脈沖的結(jié)束處, 偏置電壓被快速移除,以允許單元結(jié)束(quench)進(jìn)入RESET狀態(tài)。利用在RESET高阻抗?fàn)?態(tài)中的PCM阻抗元件1;34和在SET低阻抗?fàn)顟B(tài)的PCM阻抗元件132,e-SRAM單元200可以 被斷電。
一旦加電,SRCl和SRC2源極線上的電位被保持接地,而對(duì)e_SRAM單元200的供 應(yīng)電壓斜線上升。當(dāng)NMOS和PMOS設(shè)備導(dǎo)通并且位于NMOS晶體管114的源極處的PCM阻 抗元件134的高阻抗兩端出現(xiàn)上升電位時(shí),小電流導(dǎo)通。隨著晶體管114的柵源電壓(Vg) 相對(duì)于NMOS晶體管104的Vg下降,NMOS晶體管114的漏極電壓上升。當(dāng)加電時(shí),數(shù)據(jù)被 獲取,晶體管114、116之間的公共節(jié)點(diǎn)獲取邏輯1,而晶體管104、106之間的公共節(jié)點(diǎn)獲取 邏輯0。由此,SRAM的對(duì)稱性是“不平衡”的,并且在加電時(shí)會(huì)因PCM單元的兩個(gè)不同阻抗 引發(fā)而轉(zhuǎn)換至正確狀態(tài)。圖3是與PCM部分330結(jié)合來提供非易失性存儲(chǔ)性質(zhì)的SRAM單元302的再一個(gè) 實(shí)施例。在這個(gè)實(shí)施例中,PCM阻抗元件132和134都被連到地(GND)。通道門332和334 專用于對(duì)PCM進(jìn)行編程,并且可以是NMOS或PMOS晶體管。這個(gè)實(shí)施例由于編程只通過一 個(gè)通道門設(shè)備,所以具有簡(jiǎn)化線路選擇的優(yōu)點(diǎn),并減少了功率及電壓損耗。圖4是如圖1所示的與PCM部分結(jié)合的SRAM單元的實(shí)施例,其中附加了由SRAM 中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)進(jìn)行控制的開關(guān)440。在這個(gè)配置下,使用者可以寫入SRAM或該單元的非易 失性部分。通過對(duì)SRAM單元402或PCM部分430進(jìn)行編程,開關(guān)440可以被打開來對(duì)兩個(gè) 線路一起進(jìn)行分流(shunt)。開關(guān)440在現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列(FPGA)和諸如可編程邏輯設(shè)備 (PLD)和可編程邏輯陣列(PLA)之類的其它類型的可編程邏輯設(shè)備中存在應(yīng)用。在FPGA實(shí) 施例中,可能僅需要對(duì)單元的非易失性部分進(jìn)行寫入。在PCM部分430內(nèi)存儲(chǔ)有數(shù)據(jù)的情 況下,通過單元加電或切換PMOS晶體管140,SRAM鎖存器中的數(shù)據(jù)可反映PCM狀態(tài)。至此,顯而易見的是,本發(fā)明的實(shí)施例利用了 PCM容易與傳統(tǒng)CMOS工藝結(jié)合的特 有能力。因此,PCM材料可以被加到依靠鎖存器的CMOS應(yīng)用中的電路,除個(gè)別的以外諸如可 編程邏輯陣列(PLA)、SRAM陣列、現(xiàn)場(chǎng)可編程邏輯門陣列(FPGA)、交叉點(diǎn)交換機(jī),以提供非 易失性存儲(chǔ)功能。只要一個(gè)PCM電阻被編程為SET狀態(tài),且另一個(gè)PCM電阻被編程為RESET 狀態(tài),則SRAM單元變成非易失性的。加電后,SRAM單元可加載包含在PCM單元中的數(shù)據(jù), 并且在一些實(shí)施例中,該SRAM可以以傳統(tǒng)方式進(jìn)行讀/寫。雖然發(fā)明的特定的特征在這里被舉例說明和描述,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的 是,許多修改、代替、變化和等價(jià)方式均是可行的。因此,需要理解的是,附加的權(quán)利要求是 意在覆蓋所有這樣的修改和變換,這些修改和變換落入本發(fā)明的實(shí)質(zhì)精神中。
權(quán)利要求
1.一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,該靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元具有兩個(gè)通道晶體管和四個(gè)連 接在兩個(gè)交叉耦合的反相器中的邏輯晶體管,該靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元由互補(bǔ)金屬氧化 物半導(dǎo)體技術(shù)形成;以及相變存儲(chǔ)器部分,該相變存儲(chǔ)器部分層疊在所述靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元上,以給該 靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元提供非易失性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,其中所述四個(gè)邏輯晶體管中的兩個(gè)邏輯晶體管為 NMOS晶體管,每個(gè)NMOS晶體管的源極耦合到所述相變存儲(chǔ)器部分中的硫族化物材料的第 一節(jié)點(diǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)單元,其中所述硫族化物材料的第二節(jié)點(diǎn)耦合到接地電位。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元還包括將位線耦合到第一NMOS晶體管 源極的第一通道門晶體管以及將互補(bǔ)位線耦合到第二 NMOS晶體管的第二通道門晶體管。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的存儲(chǔ)單元,其中所述第一通道門晶體管和第二通道門晶體管 的柵極被共同激活,以將所述硫族化物材料中的一個(gè)硫族化物材料編程為設(shè)置狀態(tài),將另 一硫族化物材料編程為復(fù)位狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的存儲(chǔ)單元,其中所述靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元加載包含在所 述相變存儲(chǔ)器部分中的數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元被排列到非易失性存儲(chǔ)器設(shè)備中。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元形成用于交叉點(diǎn)交換機(jī)的存儲(chǔ)設(shè)備。
9.一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括處于靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中的第一通道門晶體管和第二通道門晶體管,該第一通 道門晶體管和第二通道門晶體管耦合到位線,用于對(duì)兩個(gè)交叉耦合的反相器進(jìn)行編程;以 及耦合到所述位線的第三通道門晶體管和第四通道門晶體管,用于將第一相變存儲(chǔ)器元 件編程為設(shè)置狀態(tài),并將第二相變存儲(chǔ)器元件編程為復(fù)位狀態(tài),其中所述兩個(gè)交叉耦合的 反相器加載所述第一相變存儲(chǔ)器元件和第二相變存儲(chǔ)器元件的數(shù)據(jù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)單元,其中所述第一相變存儲(chǔ)器元件和第二相變存儲(chǔ) 器元件從所述兩個(gè)交叉耦合的反相器中的NMOS晶體管的兩個(gè)源極節(jié)點(diǎn)耦合到處于接地電 位的導(dǎo)體。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元還包括耦合在電源導(dǎo)體和所述兩個(gè) 交叉耦合的反相器中的PMOS晶體管之間的晶體管。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元被排列到非易失性存儲(chǔ)器設(shè)備中。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元形成用于交叉點(diǎn)交換機(jī)的存儲(chǔ)設(shè)備。
14.一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括處于靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中的第一通道門晶體管和第二通道門晶體管,該第一通 道門晶體管和第二通道門晶體管耦合到位線,用于對(duì)兩個(gè)交叉耦合的反相器進(jìn)行編程;以 及第一導(dǎo)體和第二導(dǎo)體,所述第一導(dǎo)體和第二導(dǎo)體分別將第一相變存儲(chǔ)器元件編程為設(shè)置狀態(tài),并將第二相變存儲(chǔ)器元件編程為復(fù)位狀態(tài),其中所述兩個(gè)交叉耦合的反相器加載 所述第一相變存儲(chǔ)器元件和第二相變存儲(chǔ)器元件的數(shù)據(jù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的存儲(chǔ)單元,其中所述第一相變存儲(chǔ)器元件從所述兩個(gè)交叉 耦合的反相器中的NMOS晶體管的源極耦合到所述第一導(dǎo)體,并且所述第二相變存儲(chǔ)器元 件從所述兩個(gè)交叉耦合的反相器中的另一個(gè)NMOS晶體管的源極耦合到所述第二導(dǎo)體。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的存儲(chǔ)單元,其中所述第一相變存儲(chǔ)器元件和第二相變存儲(chǔ) 器元件集成在所述靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中的NMOS源極觸點(diǎn)上。
17.一種存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元包括互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯,該互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯形成易失性存儲(chǔ)器元件;以及相變存儲(chǔ)器,該相變存儲(chǔ)器被添加到所述互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯,以將非易失性 特征給予所述存儲(chǔ)單元。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的存儲(chǔ)單元,其中所述互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體邏輯為靜態(tài)隨 機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,該靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元具有兩個(gè)交叉耦合的反相器,且所述相變 存儲(chǔ)器為與所述兩個(gè)交叉耦合的反相器相集成的硫族化物元件。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)單元,該存儲(chǔ)單元還包括讀/寫線,用于使通道門晶體 管能夠覆蓋所述交叉耦合的反相器的先前狀態(tài)。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)單元,其中所述硫族化物元件的阻抗對(duì)所述靜態(tài)隨機(jī) 存取存儲(chǔ)器單元進(jìn)行偏置,以加載包含在所述硫族化物元件中的數(shù)據(jù)。
全文摘要
一種SRAM單元,該SRAM單元具有由CMOS技術(shù)形成的兩個(gè)交叉耦合反相器以及第一和第二硫族化物元件,該第一和第二硫族化物元件與SRAM單元相集成,以將非易失性性質(zhì)添加到存儲(chǔ)單元。PCM阻抗被編程為SET狀態(tài)和RESET狀態(tài),并且當(dāng)加電時(shí),SRAM單元加載包含在PCM單元中的數(shù)據(jù)。
文檔編號(hào)G11C11/413GK102122528SQ20101050877
公開日2011年7月13日 申請(qǐng)日期2010年10月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月12日
發(fā)明者R·法肯索爾 申請(qǐng)人:恒憶公司