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光學(xué)記錄材料及光學(xué)記錄介質(zhì)的制作方法

文檔序號(hào):6763553閱讀:152來(lái)源:國(guó)知局

專利名稱::光學(xué)記錄材料及光學(xué)記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及利用光照實(shí)現(xiàn)信息記錄的光學(xué)記錄介質(zhì)所用的光學(xué)記錄材料和光學(xué)記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)
:現(xiàn)在的光學(xué)記錄介質(zhì),通常是向記錄層照射激光,利用記錄層的形狀變化、磁疇變化、相變化等記錄信息。這類光學(xué)記錄介質(zhì)廣泛使用的有,例如日本特開(kāi)平8-108623號(hào)公報(bào)、特開(kāi)平8-156408號(hào)公報(bào)所揭示的具備含偶氮色素等有機(jī)色素的記錄層的追加型光學(xué)記錄介質(zhì)CD-R(追加型光盤(pán))和DVD±R(追加型數(shù)字影像盤(pán))等。近年,對(duì)光學(xué)記錄介質(zhì)有進(jìn)一步高密度化的需求,為適應(yīng)這一需求,記錄-再現(xiàn)光的波長(zhǎng)越來(lái)越短。例如CD-R的現(xiàn)行記錄-再現(xiàn)光波長(zhǎng)為780nm,而在下一代CD-R或DVD±R中,波長(zhǎng)縮短到635~680nm。在這類短波長(zhǎng)光學(xué)記錄介質(zhì)中,對(duì)所用色素的記錄-再現(xiàn)波長(zhǎng)的耐光性、記錄靈敏度等各種特性的要求與對(duì)現(xiàn)有色素的要求大致同等。而由于含有機(jī)色素的記錄層通常利用涂布法進(jìn)行,所以優(yōu)選為有機(jī)色素對(duì)涂布液的溶劑有溶解性。但當(dāng)使用上述專利文獻(xiàn)所述的有機(jī)色素時(shí),很難以很好的平衡滿足上述所有特性。為此,本申請(qǐng)人曾開(kāi)發(fā)了記錄層含有以通過(guò)取代有活化氫的官能基的一部分而得的偶氮化合物為配位體的螯合物的光學(xué)記錄介質(zhì),它揭示于日本特開(kāi)2000-190641號(hào)公報(bào)和特開(kāi)2000-190642號(hào)公報(bào)中。日本特開(kāi)2000-190641號(hào)公報(bào)和特開(kāi)2000-190642號(hào)公報(bào)所述的鹽成色素是一種耐光性好、對(duì)涂布液所用溶劑顯示出優(yōu)良溶解性的制品,使用該螯合物的光學(xué)記錄介質(zhì)一種對(duì)特定波長(zhǎng)具有優(yōu)異的記錄再現(xiàn)特性。但是,在此情況下,各特性仍有進(jìn)一步改善的余地。例如,人們需要光學(xué)記錄介質(zhì)不僅具有上述更高密度,而且具有更高的在光學(xué)記錄介質(zhì)上的信息記錄速度,并要求光學(xué)記錄介質(zhì)具有更高的靈敏度和高速響應(yīng)性。且由于高速化時(shí)使用的是高能激光,所以還要求其具有對(duì)激光的耐光性、以及在因激光照射導(dǎo)致的高溫條件下也能形成正確信息坑的能力。另外,在日本特開(kāi)2000-190641號(hào)公報(bào)及特開(kāi)2000-190642號(hào)公報(bào)所述的鹽成色素的情況下,根據(jù)有活化氫的官能基的種類,溶解性尚不夠充分。為提高記錄層的成膜性,同時(shí)更可靠地防止記錄層中的螯合物滲出,人們期望能進(jìn)一步提高螯合物的溶解性。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明即是考慮到上述實(shí)際情況而完成的發(fā)明,目的是提供一種能以良好平衡使記錄-再現(xiàn)特性、耐光性及記錄層的成膜性均達(dá)到高水準(zhǔn)的光學(xué)記錄材料以及使用該光學(xué)記錄材料的光學(xué)記錄介質(zhì)。本發(fā)明人等為達(dá)到上述目的而深入研究后,結(jié)果發(fā)現(xiàn)具有特定結(jié)構(gòu)的偶氮化合物與金屬形成的螯合物,以及具有特定結(jié)構(gòu)的賽安寧染料在記錄層用涂布液中顯示出高溶解性,提高了光學(xué)記錄介質(zhì)的記錄-再現(xiàn)特性及耐光性,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明的光學(xué)記錄材料是可利用光照記錄信息的用于光學(xué)記錄介質(zhì)的光學(xué)記錄材料,其特征在于,含有一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物(陰離子),以及下述通式(2)所示的陽(yáng)離子。本發(fā)明的光學(xué)記錄材料是可利用光照記錄信息的用于光學(xué)記錄介質(zhì)的光學(xué)記錄材料,其特征在于,含有通過(guò)一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物(陰離子)與下述通式(2)所示的陽(yáng)離子成鹽而得的色素化合物。在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X1和X2分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子的可帶有取代基的官能基。通式(2)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基。p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù),而為達(dá)到更好的記錄-再現(xiàn)特性,n優(yōu)選為0~1的整數(shù)。本發(fā)明的“C”為通式(2)中的環(huán)上所示物質(zhì)。另外,“成鹽”可通過(guò)光學(xué)記錄材料中不含與上述通式(1)所示化合物配位形成螯合物的平衡離子確認(rèn)。而“光學(xué)記錄材料中不含平衡離子”意為“該平衡離子的含量為不足以導(dǎo)致成鹽色素特性失去其特性的程度”,而不論其完全不含與否。通過(guò)將具有上述特定結(jié)構(gòu)的賽安寧染料和具有特定結(jié)構(gòu)的偶氮化合物混合,可適應(yīng)前所未有的高速記錄再現(xiàn),不僅能將記錄-再現(xiàn)特性維持在高水準(zhǔn)下,還能提高耐光性以及在記錄層用涂布液中的溶解性,從而實(shí)現(xiàn)在高水準(zhǔn)下以良好平衡達(dá)到所要求的各特性的光學(xué)記錄介質(zhì)。本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)是可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,具備含有一或兩個(gè)上述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的陰離子、以及上述通式(2)所示的陽(yáng)離子的記錄層。另外,本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)是可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,具備含有由一或兩個(gè)上述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的陰離子和上述通式(2)所示陽(yáng)離子成鹽而得的色素化合物的記錄層。在本發(fā)明的螯合物中,上述通式(1)所示化合物(下文稱為“化合物(1)”)與金屬配位時(shí)的連接基為化合物(1)中具有活化氫原子的官能基X1或X2的部分。本發(fā)明中的賽安寧染料優(yōu)選為下述通式(3)或(4)所示的物質(zhì),特別優(yōu)選為光學(xué)記錄材料中還含有該染料。在通式(3)、(4)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1及R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基。p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù),為達(dá)到更好的記錄-再現(xiàn)特性,n優(yōu)選為0~1的整數(shù)。通過(guò)使用該賽安寧染料,可提供與更高速記錄相應(yīng)的光學(xué)記錄介質(zhì)。上述Q3可舉出假吲哚環(huán)、苯并吲哚啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、噻唑啉環(huán)、哂唑啉環(huán)、咪唑啉環(huán)等,尤其優(yōu)選為假吲哚環(huán)及苯并吲哚啉環(huán)。且這些含氮雜環(huán)還可帶有取代基。取代基可舉出鹵原子、烷基、烷氧基、芳基、酰基、氨基、硝基等。Y1表示脂肪烴基,優(yōu)選為烷基。烷基也可帶有取代基,其碳原子數(shù)優(yōu)選為1~5。取代基可舉出鹵原子、烷基、醚基等。另外,本發(fā)明優(yōu)選使用的三甲川賽安寧染料如下述通式(5)所示。在通式(5)中,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,R5和R6分別表示烷基或芳基,Y3及Y4分別表示碳原子數(shù)1~4的烷基。而且,成鹽螯合物(1)中的X1及X2分別是選自羥基、氨基、酰胺基及磺酰胺基的一種,為進(jìn)一步發(fā)揮上述作用效果,優(yōu)選為具有一個(gè)活化氫原子的基團(tuán)。同理,化合物(1)更優(yōu)選為選自下述通式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)及(11)中的之一。在通式(6)、(7)中,X3表示從具有2個(gè)以上活化氫原子的官能基中除去2個(gè)活化氫原子后的殘基,X4表示從具有1個(gè)以上活化氫原子的官能基中除去1個(gè)活化氫原子后的殘基,Y2表示取代基,R3及R4可相同也可不同,分別表示選自烷基、芳基、?;⑼檠趸?、烯基、鹵原子、羥基、羧基、羧酸酯基、砜基、磺酸酯基、氨磺酰基、磺胺基、氨基甲?;?、酰胺基、氨基或硝基的一價(jià)基,j及k可相同也可不同,分別表示0~4的整數(shù),當(dāng)與苯環(huán)鄰接的碳原子結(jié)合有2個(gè)以上R3或R4時(shí),R3之間或R4之間可連接成環(huán),通式(7)中的兩個(gè)X3及兩個(gè)Y2可相同也可不同。在通式(8)、(9)、(10)中,X5及X6分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子且可帶有取代基的官能基,R8及R9分別獨(dú)立表示氫原子、烷基或芳基,R8和R9也可連接成環(huán),R10、R11及R12分別獨(dú)立表示選自氫原子、烷基、鹵原子、羥基、羧基、羧酸酯基、砜基、磺酸酯基、氨磺?;?、磺胺基、氨基甲?;Ⅴ0坊?、氨基、芳基、?;?、烷氧基及烯基的一價(jià)基,R10和R11也可連接成環(huán),R8和R11及R9和R12也可分別連接成環(huán),R8及R9組合時(shí),R8及R9的其中之一為氫原子或烷基,另一個(gè)為芳基,既可以是R8和R9成環(huán),也可R8和R11及R9和R12中的一組或兩組都成環(huán)。R13、R14、R15及R16分別獨(dú)立表示選自氫原子、鹵原子、羥基、羧基、砜基、芳基、?;⒒前坊Ⅴ0坊?、氰基、硝基、巰基、氰硫基、氨基、硫代烷基、烷基偶氮甲川基、羧酸酯基、氨基甲?;⒒撬狨セ?、氨磺?;⑼榛?、烷氧基、芳烷基及烯基的一價(jià)基,R13和R14、R14和R15、及R15和R16也可分別連接成環(huán)。在通式(11)中,X7及X8分別表示具有1個(gè)以上化學(xué)合成氫原子且可帶有取代基的官能基,R18、R19、R20、R21、R22及R23分別獨(dú)立表示選自氫原子、鹵原子、硝基、氰基、羥基、羧基、氨基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的雜環(huán)殘基、取代或未取代的烷基羰基、取代或未取代的芳基羰基、取代或未取代的烷氧羰基、取代或未取代的芳氧羰基、取代或未取代的烷基磺?;?、取代或未取代的芳基磺?;⑷〈蛭慈〈耐榛虼趸?、取代或未取代的芳基硫代氧基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的烷基氨基、取代或未取代的芳基氨基、取代或未取代的烷基羰基氨基、取代或未取代的芳基羰基氨基、取代或未取代的烷基氨基甲?;⑷〈蛭慈〈姆蓟被柞;?、取代或未取代的烯基,且R18和R19、R19和R20、或R20和R21也可連接成環(huán)。另外,根據(jù)上述原理,構(gòu)成上述螯合物的金屬優(yōu)選為選自釩、鈷、鎳及銅的一種金屬。為提高介質(zhì)的特性平衡,本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)所具備的記錄層中,以摩爾計(jì),優(yōu)選為上述通式(2)所示陽(yáng)離子(下亦稱為離子(2))含量高于上述螯合物。本發(fā)明的光學(xué)記錄材料及本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)所具有的記錄層優(yōu)選還含有賽安寧染料化合物。本發(fā)明的螯合物具有優(yōu)異的驟冷機(jī)能,特別是當(dāng)與賽安寧染料化合物并用時(shí),可有效抑制起因于色素氧化惡化的再現(xiàn)惡化。圖1為本發(fā)明光學(xué)記錄介質(zhì)光盤(pán)的一優(yōu)選實(shí)施方式的局部剖面圖。圖2為本發(fā)明光學(xué)記錄介質(zhì)光盤(pán)另一優(yōu)選實(shí)施方式的局部剖面圖。具體實(shí)施例方式下面,根據(jù)需要,參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。另外,在附圖中,同一要素采用同一標(biāo)記符號(hào),省略重復(fù)說(shuō)明。另外,上下左右等位置關(guān)系如無(wú)特殊聲明,以附圖所示位置關(guān)系為準(zhǔn)。且附圖尺寸比率不限于圖示比率。光學(xué)記錄材料本發(fā)明的光學(xué)記錄材料是可利用光照記錄信息的用于光學(xué)記錄介質(zhì)的光學(xué)記錄材料,含有一或兩個(gè)上述化合物(1)與一個(gè)金屬配位而形成的螯合物與上述離子(2)成鹽而得的色素化合物(下文稱為“鹽成色素”)。在偶氮化合物的化合物(1)中,A及B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群。即,原子群A、B分別與構(gòu)成雙鍵的兩個(gè)碳原子一起構(gòu)成芳香環(huán)。這類芳香環(huán)具體可舉出苯環(huán)、萘環(huán)、吡啶環(huán)、噻唑環(huán)、苯并噻唑環(huán)、噁唑環(huán)、苯并噁唑環(huán)、喹啉環(huán)、咪唑環(huán)、吡嗪環(huán)、吡咯環(huán)、假吲哚環(huán)、苯并吲哚啉環(huán)等。其中特別優(yōu)選為苯環(huán)、萘環(huán)。上述的芳香族可帶有除-X1、-X2等有活化氫的基團(tuán)之外的其它取代基。這類取代基可舉出烷基、芳基、芳烷基、?;?、烷氧基、烯基、鹵原子、羥基、羧基、羧酸酯基、砜基、磺酸酯基、氨磺?;?、磺胺基、氨基甲?;被?、酰胺基、硫代烷基、烷基偶氮甲川基、硝基等。當(dāng)與苯環(huán)鄰接的碳原子結(jié)合有2個(gè)以上R1或R2時(shí),取代基之間也可連接成環(huán)。芳香環(huán)的取代基中,為烷基時(shí),優(yōu)選為碳原子總數(shù)1~12的烷基。烷基可為直鏈狀、支鏈環(huán)狀中的任一種,也可為其中的兩種以上的組合。另外,鹵原子、烷氧基等取代基也可與烷基結(jié)合。芳基可舉出苯基、甲苯基等。芳基的碳原子總數(shù)優(yōu)選為6~10。芳基可為取代或未取代中的任一種。?;膳e出乙酰基、丙?;⒍□;?。?;奶荚涌倲?shù)優(yōu)選為2~5。芳烷基可舉出芐基、羥芐基、甲基芐基等。芳烷基的碳原子總數(shù)優(yōu)選為7~10。烷氧基的碳原子總數(shù)優(yōu)選為1~4??膳e出甲氧基、乙氧基、丙氧基、五氟丙氧基等。烯基既可為直鏈狀,也可帶有支鏈,具體可舉出乙烯基、烯丙基、丙烯基、丁烯基、戊烯基等。優(yōu)選為碳原子總數(shù)2~10的烯基。鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子等。羧酸酯基優(yōu)選為碳原子總數(shù)2~10的基,可舉出甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、乙酰氧羰基等。砜基優(yōu)選為碳原子總數(shù)1~10基的基,可舉出甲基磺?;?、苯磺?;?、乙基磺酰基、正丙基磺酰基等?;撬狨セ鶅?yōu)選為碳原子總數(shù)1~10的基,可舉出甲氧基磺?;?、乙氧基磺?;?、丙氧基磺?;?、丁氧基磺?;?。氨磺酰基可帶有取代基,優(yōu)選為碳原子總數(shù)0~10的基,可舉出氨磺?;?、甲基氨磺?;?、乙基氨磺?;?、正丙基氨磺?;惐被酋;?。磺胺基優(yōu)選為碳原子總數(shù)1~10的基,可舉出甲基磺胺基、乙基磺胺基、正丙基磺胺基等。氨基甲?;蓭в腥〈?,優(yōu)選為碳原子總數(shù)1~10的基,可舉出氨基甲?;?、甲基氨基甲酰基、乙基氨基甲酰基、正丙基氨基甲?;?、異丙基氨基甲酰基等。氨基優(yōu)選為具有取代基的氨基,取代氨基特別優(yōu)選為二烷基氨基。此時(shí)的二烷基氨基的烷基部分的碳原子數(shù)優(yōu)選為1~12,既可為直鏈狀,也可帶有支鏈。酰胺基優(yōu)選為碳原子總數(shù)2~10的基,可舉出乙酰胺基、丙酰胺基、丁酰胺基、苯酰胺基等。硫代烷基優(yōu)選為碳原子總數(shù)1~4的基,可舉出硫代甲基、硫代乙基、硫代正丙基、硫代異丙基等。烷基偶氮甲川基優(yōu)選為碳原子總數(shù)2~5的基,可舉出甲基偶氮甲川基、乙基偶氮甲川基、正丙基偶氮甲川基等。X1及X2只要是分別具有1個(gè)以上活化氫的官能基即可,且還可帶有取代基,除此無(wú)特別限定。具有1個(gè)以上活化氫的官能基可舉出羥基(-OH)、硫羥基(-SH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、酰胺基(-CONH2)、磺胺基(-SO2NH2)及磺基(-SO3H)等。而上述取代基可舉出烷基、芳基、?;?、烷氧基、鹵基、羥基、羧基、羧酸酯基、砜基、氨磺?;?、磺胺基、氨基甲?;?、酰胺基、氨基、烯基、氰基、硝基、巰基、氰硫基、硫代烷基、烷基偶氮甲川基、芳烷基等。其中優(yōu)選為烷基、砜基(-SO2-R;R表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基)、?;?-CO-R;R表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基)。當(dāng)砜基及?;腞是烷基時(shí),該烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1~6。具有上述結(jié)構(gòu)的偶氮化合物(1),更優(yōu)選為選自上述通式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)及(11)中的一種。X3表示從具有兩個(gè)以上活化氫原子的官能基中除去兩個(gè)活化氫原子后的殘基。具有兩個(gè)以上活化氫原子的官能基優(yōu)選為氨基(-NH2)、酰胺基(-CONH2)及磺胺基(-SO2NH2),特別優(yōu)選為氨基。因此,X1優(yōu)選為-NH-、-CONH-、-SO2NH-,特別優(yōu)選為-NH-。另外,通式(7)中的兩個(gè)X1及兩個(gè)Y1可相同也可各不相同。X2表示從具有一個(gè)以上活化氫原子的官能基中除去一個(gè)活化氫原子后的殘基。具有一個(gè)以上活化氫原子的官能基優(yōu)選為羥基(-OH)、硫羥基(-SH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、酰胺基(-CONH2)、磺胺基(-SO2NH2)及磺基(-SO3H),特別優(yōu)選為羥基。因此,X2優(yōu)選為-O-、-S-、-NH-、-COO-、-CONH-、-SO2NH-、-SO3-,特別優(yōu)選為-O-。Y2表示與X3結(jié)合的同上所述的取代基。因此,Y2優(yōu)選為烷基、砜基(-SO2-R;R表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基)、?;?-CO-R;R表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基)。當(dāng)砜基及?;腞是烷基時(shí),該烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1~6。本實(shí)施方式的偶氮化合物(1)的優(yōu)選例可舉出下述通式(12)~(57)所示的化合物。另外,還可舉出日本專利3441410號(hào)公報(bào)、專利3364231號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2000-190641號(hào)公報(bào)所述的螯合物。而螯合物的金屬(中心金屬)可舉出鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋯、鈮、鉬、釕、銠、鈀、銀、鎘、銦、錫、銻、鎢、錸、鋨、銥、鉑、金等,特別優(yōu)選為鈷及鎳。在本發(fā)明的上述螯合物中,例如,也可形成由通式(6)或(7)所示的從偶氮化合物(1)脫去兩個(gè)活化氫原子的三嚙配位體與金屬的配位鍵。例如金屬為鈷(Co)時(shí),可如下述通式(58)或(59)所示,每個(gè)鈷原子與兩個(gè)三嚙配位體配位形成螯合物。上述通式(58)、(59)中的Z+表示平衡陽(yáng)離子。平衡陽(yáng)離子優(yōu)選使用Na+、Li+、K+等堿金屬離子、銨離子等。而具有正電荷的賽安寧染料也可用作為平衡陽(yáng)離子成鹽。賽安寧染料的平衡陰離子具體可以舉出Cl-、Br-、I-等鹵離子、ClO4-、BF4-、PF6-、SbF6-、VO3-、VO43-、WO42-、CH3SO3-、CF3COO-、CH3COO-、HSO4-、CF3SO3-、對(duì)甲苯磺酸離子(PTS-)、對(duì)三氟甲基苯磺酸離子(PFS-)等。其中優(yōu)選為ClO4-、BF4-、PF6-、SbF6-等。本發(fā)明對(duì)螯合物的合成方法無(wú)特別限制,可利用常用方法合成(例如參照古川,Anal.Chem.Acta.,140,298(1982))。本發(fā)明的賽安寧染料優(yōu)選使用下述通式(60)所示的三甲川賽安寧染料。在通式(60)中,Q1及Q2可相同也可不同,分別表示用于形成可帶有縮合環(huán)的五元環(huán)的含氮雜環(huán)的原子群。這類雜環(huán)可舉出假吲哚環(huán)、苯并吲哚啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、噻唑啉環(huán)、哂唑啉環(huán)、咪唑啉環(huán)等,其中優(yōu)選為假吲哚環(huán)及苯并吲哚啉環(huán)。且這些含氮雜環(huán)還可帶有取代基。取代基可舉出鹵原子、烷基、烷氧基、芳基、?;?、氨基、硝基等。另外,R5及R6分別表示脂肪烴基優(yōu)選為烷基。烷基可帶有取代基,其碳原子數(shù)優(yōu)選為1~5。取代基可舉出鹵原子、烷基、醚基等。另外,R7表示氫原子或鹵原子、烷基等一價(jià)取代基。通式(60)所示的三甲川賽安寧染料化合物中,更優(yōu)選為下述通式(61)~(72)所示的化合物,未能得到記錄-再現(xiàn)特性、耐光性及記錄層的成膜性均為平衡的更高水準(zhǔn)的光學(xué)記錄材料,其中特別優(yōu)選為上述通式(2)所示賽安寧染料化合物之一的通式(72)所示化合物。當(dāng)光學(xué)記錄介質(zhì)的記錄層含有本發(fā)明的賽安寧染料及螯合物時(shí),鹽成色素既可單獨(dú)存在,也可與其它色素化合物并用。當(dāng)本發(fā)明的賽安寧染料及螯合物與其它色素化合物并用時(shí),可利用本發(fā)明的賽安寧染料及螯合物的優(yōu)異性能,進(jìn)一步提高耐光性、磁盤(pán)的電特性等各種特性??刹⒂玫纳鼗衔锟膳e出上述賽安寧染料等,其中優(yōu)選為上述通式(61)所示的化合物。并用賽安寧染料優(yōu)選為下述通式(60)所示的三甲川賽安寧染料。在通式(60)中,Q1及Q2可相同也可不同,分別表示用于形成可帶有縮合環(huán)的五元環(huán)的含氮雜環(huán)的原子群。這類雜環(huán)可舉出假吲哚環(huán)、苯并吲哚啉環(huán)、噁唑啉環(huán)、噻唑啉環(huán)、哂唑啉環(huán)、咪唑啉環(huán)等,特別優(yōu)選為假吲哚環(huán)及苯并吲哚啉環(huán)。另外,這些含氮雜環(huán)也可帶有取代基。其取代基可舉出鹵原子、烷基、烷氧基、芳基、?;被?、硝基等。另外,R5及R6分別表示脂肪烴基,優(yōu)選為烷基。烷基也可帶有取代基,其碳原子數(shù)優(yōu)選為1~5。取代基可舉出鹵原子、烷基、醚基等。另外,R7表示氫原子或鹵原子、烷基等一價(jià)取代基。其中,特別優(yōu)選為通式(61)、(62)、(63)、(64)或(71)所示化合物。對(duì)本發(fā)明的螯合物與其它色素的配比無(wú)特別限制,包括鹽成色素的情況,以摩爾比計(jì),優(yōu)選為螯合物∶其它色素=100∶0~10∶90,更優(yōu)選為30∶70~70∶30。光學(xué)記錄介質(zhì)圖1為本發(fā)明的光學(xué)記錄介質(zhì)光學(xué)記錄盤(pán)的一優(yōu)選實(shí)施方式的局部剖面圖。圖1所示的光學(xué)記錄盤(pán)1為相應(yīng)于DVD規(guī)格的追加型光學(xué)記錄光盤(pán),可利用635~680nm的短波長(zhǎng)的光實(shí)現(xiàn)記錄-再現(xiàn)。光學(xué)記錄盤(pán)10如圖1所示,是用粘接劑將兩個(gè)光學(xué)記錄盤(pán)的保護(hù)層相向地緊密貼合而成。即,光學(xué)記錄盤(pán)10從其一側(cè)看具有以基板12、記錄層13、反射層14、保護(hù)層15、粘接劑層50、保護(hù)層25、反射層24、記錄層23、基板22的順序?qū)臃e的結(jié)構(gòu)?;?2是直徑為64~200mm左右、厚為0.6mm左右的盤(pán)狀物。為使基板12的背面(與記錄層13相對(duì)的一側(cè))能實(shí)現(xiàn)記錄和再現(xiàn),基板12優(yōu)選為相對(duì)于記錄光及再現(xiàn)光實(shí)質(zhì)上呈透明的材料,具體優(yōu)選為對(duì)基板12的記錄光及再現(xiàn)光的透過(guò)率為88%以上的材料。這類基板12材料,優(yōu)選為滿足與透過(guò)率相關(guān)的上述條件的樹(shù)脂或玻璃,其中,特別優(yōu)選為聚碳酸酯樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、非晶聚乙烯、TPX、聚苯乙烯系樹(shù)脂等熱塑性樹(shù)脂。另外,基板12的記錄層13形成面及基板23的記錄層24形成面上分別形成有槽123、223。槽123、223優(yōu)選為螺旋狀連續(xù)槽,優(yōu)選為槽深60~200nm,槽寬0.2~0.5μm,槽距0.6~1.0μm的槽。通過(guò)形成上述結(jié)構(gòu)的槽,可避免槽反射水平降低,能得到優(yōu)質(zhì)循跡信號(hào)??稍谕ㄟ^(guò)使用上述樹(shù)脂進(jìn)行注射成型等而成型為基板12時(shí),同時(shí)進(jìn)行槽123的成型,也可在基板12制造完成后,利用2P法等形成有槽123的樹(shù)脂層,制成基板12和樹(shù)脂層的復(fù)合基板。另外,記錄層13、23的厚度分別為50~200nm,對(duì)記錄光的復(fù)數(shù)折射率優(yōu)選為n=1.8~2.6、k=0.02~0.20。所形成的記錄層13含有本發(fā)明的螯合物,優(yōu)選還含有其它色素。記錄層13可通過(guò)將含本發(fā)明的螯合物的涂布液涂在基板12上,根據(jù)需要使涂膜干燥而成。涂布液的溶劑具體可舉出醇類溶劑(包括酮醇類、乙二醇單烷基醚系等烷氧基醇類)、脂肪烴類溶劑、酮類溶劑、酯類溶劑、醚類溶劑、芳香族溶劑、鹵代烷烴類溶劑等,其中優(yōu)選為醇類溶劑及脂肪烴類溶劑。醇類溶劑優(yōu)選為烷氧基醇類、酮醇類等。烷氧基醇類溶劑的烷氧基部分的碳原子數(shù)優(yōu)選為1~4,且醇部分的碳原子數(shù)優(yōu)選為1~5、更優(yōu)選為2~5,碳原子總數(shù)優(yōu)選為3~7。具體可舉出乙二醇單甲醚(甲基乙二醇乙醚)或乙二醇單乙醚(亦稱獨(dú)乙醚、乙氧基乙醇)或丁基乙二醇乙醚、2-異丁氧基-1-乙醇等乙二醇單烷基醚(乙二醇乙醚)類,或1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丁醇、3-甲氧基-1-丁醇、4-甲氧基-1-丁醇、1-乙氧基-2-丙醇等。酮醇類可舉出二丙酮醇等。而且,還可使用2,2,3,3-四氟丙醇等氟化醇。脂肪烴類溶劑優(yōu)選為正己烷、環(huán)己烷、甲基環(huán)己烷、乙基環(huán)己烷、環(huán)辛烷、二甲基環(huán)己烷、正辛烷、異丙基環(huán)己烷、叔丁基環(huán)己烷等,其中優(yōu)選為乙基環(huán)己烷、二甲基環(huán)己烷等。另外,酮系溶劑可舉出環(huán)己酮等。在本發(fā)明中,特別優(yōu)選為乙二醇單烷基醚類等烷基醇,其中優(yōu)選為乙二醇單乙醚、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丁醇等。溶劑可單獨(dú)使用一種,也可使用兩種或兩種以上的混合溶劑。例如,優(yōu)選使用乙二醇單乙醚和1-甲氧基-2-丁醇的混合溶劑。另外,涂布液中除添加本發(fā)明的螯合物或其它色素之外,還可含有適當(dāng)?shù)姆勰⒎稚?、穩(wěn)定劑等。這類涂布液中的螯合物含量?jī)?yōu)選為0.05~10重量%。涂布液的涂布方法可使用旋涂法、凹印涂布法、噴涂法、浸涂法等,其中優(yōu)選為旋涂法。這樣形成的記錄層13的厚度以干燥膜厚計(jì)優(yōu)選為30~300nm。當(dāng)在該范圍之外時(shí),反射率降低,難以進(jìn)行相應(yīng)于DVD規(guī)格的再現(xiàn)。另外,記錄層13的記錄光及再現(xiàn)光的相應(yīng)的衰減系數(shù)(復(fù)數(shù)折射率的虛部k)優(yōu)選為0~0.20。當(dāng)衰減系數(shù)大于0.20時(shí),存在達(dá)不到充分的反射率的傾向。另外,記錄層13的折射率(復(fù)數(shù)折射率的實(shí)部n)優(yōu)選為1.8以上。當(dāng)折射率小于1.8時(shí),信號(hào)的調(diào)制系數(shù)有變小的趨勢(shì)。而對(duì)折射率的上限無(wú)特別限制,但考慮到有機(jī)色素合成的具體情況,通常為2.6左右。記錄層13的衰減系數(shù)及折射率可根據(jù)下述操作求得。首先,在預(yù)定的透明基板上設(shè)置40~100nm左右的記錄層,制成測(cè)定用樣品,然后通過(guò)測(cè)定穿過(guò)該測(cè)定用樣品基板的反射率或來(lái)自記錄層側(cè)的反射率求得。這時(shí),使用記錄-再現(xiàn)光的波長(zhǎng),通過(guò)鏡面反射(5°左右)測(cè)定反射率。再測(cè)定樣品的透過(guò)率。然后,根據(jù)這些測(cè)定值,以例如“共立全書(shū)《光學(xué)》,作者石黑浩三、第168~178頁(yè)”所述方法,算出衰減系數(shù)及折射率。在記錄層13上設(shè)有與記錄層13密合的反射層14。反射層14可通過(guò)使用高反射率的金屬或合金進(jìn)行蒸鍍、濺射等形成。這類金屬及合金可舉出金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)、AgCu等。這樣形成的反射層14的厚度優(yōu)選為50~120nm。在反射層14上設(shè)有與反射層14密合的保護(hù)層15。保護(hù)層15既可呈層狀,也可呈片狀,可通過(guò)例如將含紫外線固化樹(shù)脂等材料的涂布液涂在反射層14上,并根據(jù)需要使涂膜干燥而形成保護(hù)層15。在進(jìn)行該涂布時(shí),可使用旋涂法、凹印涂布法、噴涂法、浸涂法等。這樣形成的保護(hù)層15的厚度優(yōu)選為0.5~100μm。也可如圖2所示,在保護(hù)層15上,設(shè)置與保護(hù)層15密合的名義基板16。名義基板16可采用與基板12同樣的材質(zhì)和同樣的厚度。當(dāng)在具有上述結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄盤(pán)10上進(jìn)行記錄或追加時(shí),從基板12的背面,以脈沖狀照射具有預(yù)定波長(zhǎng)的記錄光,使照射部的光反射率變化。這時(shí),利用設(shè)有含本發(fā)明的螯合物的記錄層13的光學(xué)記錄盤(pán)10,即使在利用短波長(zhǎng)記錄-再現(xiàn)光進(jìn)行信息的記錄-再現(xiàn)時(shí),也能以良好平衡達(dá)成高水準(zhǔn)的記錄層的成膜性、耐光性及記錄再現(xiàn)特性。另外,在上述實(shí)施方式中對(duì)具有一個(gè)記錄層13的光學(xué)記錄盤(pán)進(jìn)行了說(shuō)明,但也可設(shè)置多層記錄層,且使各層含有根據(jù)不同波長(zhǎng)的光進(jìn)行反應(yīng)的有機(jī)色素。由此,就能通過(guò)不同波長(zhǎng)的多種記錄-再現(xiàn)光進(jìn)行信息的記錄-再現(xiàn)。此時(shí),可在各記錄層上設(shè)置對(duì)各波長(zhǎng)的記錄-再現(xiàn)光成半透明的反射膜。粘接劑層50的材料優(yōu)選使用熱固性樹(shù)脂等,粘接劑層50的厚度為10~200μm左右。以上,說(shuō)明了本發(fā)明的DVD-R的優(yōu)選的實(shí)施方式,但本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式。例如,光學(xué)記錄盤(pán)不局限于上述光學(xué)記錄盤(pán)10的結(jié)構(gòu)定,也可采用保護(hù)層兼具粘接層功能的結(jié)構(gòu)。實(shí)施例下面,通過(guò)實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明,但本發(fā)明并不局限于所述實(shí)施例。實(shí)施例1準(zhǔn)備一側(cè)具有預(yù)置槽(深180nm、寬0.30μm、槽距0.74μm)的直徑120mm、厚0.6mm的聚碳酸酯樹(shù)脂基板。另將下述通式(3)所示的鹽成色素1添加到2,2,3,3-四氟丙醇中,調(diào)成含量為1.0重量%的記錄層用涂布液。在上述聚碳酸酯樹(shù)脂基板的形成有預(yù)置槽的面上涂布所得涂布液,并使之干燥,形成記錄層(厚100nm)。然后,在該記錄層上,利用濺射法形成Ag反射層(厚85nm),再于Ag反射層上形成由紫外線固化型丙烯酸樹(shù)脂形成的透明保護(hù)層(厚5μm),得到層積結(jié)構(gòu)體。制作兩塊該層積結(jié)構(gòu)體,以其保護(hù)層為內(nèi)側(cè),將它們用粘接劑粘貼,得到具有圖2所示結(jié)構(gòu)的光學(xué)記錄盤(pán)。實(shí)施例2除使用下述通式(74)所示的鹽成色素2代替實(shí)施例1的鹽成色素1之外,其它與實(shí)施例1一樣,制作光學(xué)記錄盤(pán)。實(shí)施例3~13、比較例1~3在實(shí)施例3~13、比較例1~3中,除分別使用表1所示色素組成3~13代替鹽成色素1之外,其它與實(shí)施例1一樣,制作光學(xué)記錄盤(pán)。表1中,括號(hào)內(nèi)的數(shù)字表示上述及下述化學(xué)結(jié)構(gòu)式的符號(hào)。表1<tablesid="table1"num="001"><tablewidth="786">鹽賽安寧染料化學(xué)式組成(重量%)化學(xué)式組成(重量%)實(shí)施例3(73)40(61)60實(shí)施例4(73)50(61)50實(shí)施例5(74)40(65)60實(shí)施例6(74)40(66)60實(shí)施例7(74)40(67)60實(shí)施例8(74)40(68)60實(shí)施例9(73)30(61)70實(shí)施例10(73)60(61)40實(shí)施例11(73)70(61)30實(shí)施例12(73)40(77)60實(shí)施例13(73)40(78)60比較例1(75)70(76)30比較例2(75)100--比較例3(75)40(76)60</table></tables>記錄-再現(xiàn)特性的評(píng)價(jià)然后,使用波長(zhǎng)655nm的激光,以3.5m/秒或28.0m/秒的線速度記錄實(shí)施例1~13及比較例1~3的各光學(xué)記錄盤(pán)信號(hào)。然后使用波長(zhǎng)655nm的激光以3.5m/秒的線速度再現(xiàn)。另外,透鏡孔徑NA為0.60。此時(shí),根據(jù)反射率(Rtop)、調(diào)制系數(shù)(Mod.)、抖動(dòng)(Jitter)及最優(yōu)記錄功率(P0)評(píng)價(jià)此時(shí)的特性。以3.5m/秒、28.0m/秒的線速度記錄時(shí)的結(jié)果分別示于表2。表2如表2所示,實(shí)施例1~13的光學(xué)記錄盤(pán)在3.5m/秒及28.0m/秒的任一線速度下,均顯示出良好的記錄-再現(xiàn)特性,可充分適應(yīng)高速記錄。反之,比較例1~3的光學(xué)記錄盤(pán)在3.5m/秒及28.0m/秒的任一線速度下,抖動(dòng)都大幅增加,最優(yōu)記錄功率也增加。耐光性的評(píng)價(jià)對(duì)實(shí)施例1~13的各光學(xué)記錄盤(pán)的耐光性進(jìn)行了評(píng)價(jià)。具體而言,用8萬(wàn)勒克司的氙燈(島津社制耐氙計(jì))照射4小時(shí)后,測(cè)定光盤(pán)抖動(dòng)。結(jié)果,實(shí)施例1~13的任一種光學(xué)記錄盤(pán)的穩(wěn)定性毫無(wú)變化。可靠性評(píng)價(jià)在80℃、80%RH的條件下,對(duì)實(shí)施例1~13的各光學(xué)記錄盤(pán)進(jìn)行100小時(shí)的可靠性試驗(yàn)。結(jié)果,實(shí)施例1~13的任一光學(xué)記錄盤(pán)的特性軍未惡化。權(quán)利要求1.一種光學(xué)記錄材料,其特征在于,用于可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),含有通過(guò)一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物與下述通式(2)所示的陽(yáng)離子成鹽而得的色素化合物,在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X1和X2分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子的可帶有取代基的官能基;在通式(2)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基,p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù)。2.一種光學(xué)記錄材料,其特征在于,用于可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),含有通過(guò)一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物與下述通式(2)所示的陽(yáng)離子,在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X1和X2分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子的可帶有取代基的官能基;在通式(2)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基,p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù)。3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)記錄材料,其特征在于,所述金屬是選自釩、鈷、鎳、銅的一種金屬。4.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)記錄材料,其特征在于,還含有賽安寧染料化合物。5.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)記錄材料,其特征在于,還含有賽安寧染料化合物。6.可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,具有記錄層,所述記錄層含有通過(guò)一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物與下述通式(2)所示的陽(yáng)離子成鹽而得的色素化合物,在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X1和X2分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子的可帶有取代基的官能基;在通式(2)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基,p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù)。7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述金屬是選自釩、鈷、鎳、銅的一種金屬。8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,在所述記錄層中,以摩爾為基準(zhǔn),所述通式(2)所示的陽(yáng)離子含量多于所述螯合物。9.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。10.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,在所述記錄層中,以摩爾為基準(zhǔn),所述通式(2)所示的陽(yáng)離子含量多于所述螯合物。11.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。12.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。13.可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,具有記錄層,所述記錄層含有通過(guò)一或兩個(gè)下述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物與下述通式(2)所示的陽(yáng)離子,在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X1和X2分別表示具有1個(gè)以上活化氫原子的可帶有取代基的官能基;在通式(2)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1和R2分別表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基,p和q分別表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù)。14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述金屬是選自釩、鈷、鎳、銅的一種金屬。15.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,在所述記錄層中,以摩爾為基準(zhǔn),所述通式(2)所示的陽(yáng)離子含量多于所述螯合物。16.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。17.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,在所述記錄層中,以摩爾為基準(zhǔn),所述通式(2)所示的陽(yáng)離子含量多于所述螯合物。18.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。19.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,所述記錄層還含有賽安寧染料化合物。20.如權(quán)利要求6~19任一項(xiàng)所述的光學(xué)記錄介質(zhì),其特征在于,還含有下述通式(3)所示的化合物,在通式(3)中,C表示構(gòu)成可帶有取代基的苯環(huán)或萘環(huán)的原子群,R1表示可帶有取代基的五元環(huán)基或六元環(huán)基,Y1表示取代基,Q3表示可帶有縮合環(huán)的含氮雜環(huán)基,p表示1~4的整數(shù),n表示0~3的整數(shù)。全文摘要本發(fā)明涉及一種光學(xué)記錄材料,用于可利用光照記錄信息的光學(xué)記錄介質(zhì),含有通過(guò)一或兩個(gè)所述通式(1)所示化合物與一個(gè)金屬配位而成的螯合物與所述通式(2)所示的陽(yáng)離子成鹽而得的色素化合物,在通式(1)中,A和B可相同也可不同,分別表示構(gòu)成芳香環(huán)的原子群,X文檔編號(hào)G11B7/24GK1644392SQ20041006158公開(kāi)日2005年7月27日申請(qǐng)日期2004年12月27日優(yōu)先權(quán)日2003年12月26日發(fā)明者新海正博,門(mén)田敦志,田邊順志,塚本修司,洞井高志申請(qǐng)人:Tdk株式會(huì)社
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