一種TiO<sub>2</sub>摻雜ZnNb<sub>2</sub>O<sub>6</sub>陶瓷靶材的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,通過前驅(qū)體的制備、沉淀反應(yīng)、抽濾干燥、預(yù)燒成型及燒結(jié)等工藝步驟,采用液相法制備粉體,并嚴(yán)格控制各反應(yīng)條件,制備出的ZnNb2O6?xTiO2粉體粒徑比較小、成分均勻、純度高、晶粒生長(zhǎng)均勻完整,可以用于多種微波介質(zhì)陶瓷粉體的制備,同時(shí)也顯著提升了ZnNb2O6陶瓷靶材的致密度及介電性能,極大提高了良品率。
【專利說明】
-種T i 〇2慘雜ZnNb2〇6陶瓷卽材的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ] 本發(fā)明設(shè)及ZnNb2〇6陶瓷祀材技術(shù)領(lǐng)域,尤其設(shè)及一種Ti化滲雜化抓2〇6陶瓷祀材的 制備方法。
【背景技術(shù)】
[000^ ZnNb206是一種重要的微波介質(zhì)材料,具有優(yōu)異的介電性能(er = 25,Q X f = 83700G化,Tf二-56 X l0-6/°C),被廣泛應(yīng)用于頻率在300MHz~40G化系列的移動(dòng)通信、衛(wèi)星 電視廣播通信、雷達(dá)、衛(wèi)星定位導(dǎo)航系統(tǒng)等眾多領(lǐng)域。要制備出性能優(yōu)異的化佩206微波介質(zhì) 器件,就必須制備出高純度、高密度的化抓206陶瓷。傳統(tǒng)的固相燒結(jié)法,是將原料通過混粉、 球磨、成型、燒結(jié)的方式得到,通常原料粉體粒徑在微米W上,混粉、球磨過程中,原料粉體 互相撞擊,顆粒容易發(fā)生塑性變形,成型過程中加入粘結(jié)劑容易引入雜質(zhì)等問題,最終會(huì)造 成燒結(jié)后的祀材純度低、致密性差。因此,純相、高致密度、結(jié)晶良好的陶瓷祀材是磁控瓣射 制備陶瓷薄膜的前提。
[0003] 目前,對(duì)化Nb206微波介質(zhì)陶瓷性能的改性方式主要有:1)滲入適量的低烙點(diǎn)氧化 物或低軟化點(diǎn)玻璃來進(jìn)行滲雜改性;2)采用濕化學(xué)合成方法制備粉體。但傳統(tǒng)的固相法在 添加單元、多元助燒劑時(shí)并沒有顯著提高陶瓷的介電性能,運(yùn)是因?yàn)椴捎脗鹘y(tǒng)的固相添加, 是通過機(jī)械法混合陶瓷粉體和助燒劑,助燒劑與原料的結(jié)合與反應(yīng)是建立在微米的尺寸上 進(jìn)行,運(yùn)使得助燒劑混合不均、結(jié)晶性差,從而影響陶瓷的燒結(jié)性能;濕化學(xué)方法反應(yīng)通常 建立在分子尺寸上,制備的粉體粒徑小,純度高,可在一定程度上改善陶瓷的燒結(jié)性能和介 電性能,但是濕化學(xué)法制備的粉體對(duì)也存在著生成率比較低,且團(tuán)聚嚴(yán)重等問題,因此,對(duì) 于高端電子元件的制備尋找能夠合成粒徑小、粒度分布窄、純度高的粉體的制備方法顯得 非常重要。
[0004] 現(xiàn)有類似方式有W下幾種:
[0005] 方案一:在文獻(xiàn)[1 ],黑龍江科技學(xué)院學(xué)報(bào)"固相法合成微波介質(zhì)陶瓷ZnNb2〇6的結(jié) 構(gòu)和性能"中,采用固相燒結(jié)法合成化抓2〇6陶瓷祀材。傳統(tǒng)固相法是將粒徑在2~扣m的化0、 抓2〇5粉體經(jīng)球磨制備出微米級(jí)粉體,再將所得的粉體加入聚異丙醇(PVA)造粒、過篩、干壓 成型成陶瓷巧體,最后將巧體燒結(jié)成陶瓷祀材。然而固相反應(yīng)是建立在物理法混粉的基礎(chǔ) 上,往往存在原料混合不均勻且燒結(jié)祀材需要溫度高的問題,容易引起晶粒的二次長(zhǎng)大,對(duì) 陶瓷祀材的致密性和純度要求有很大的不穩(wěn)定性。采用該方法制備的祀材致密性差,祀材 晶體粒徑大,晶體生長(zhǎng)不均勻,所得的密度僅為理論密度的95%,對(duì)于制備高性能的陶瓷祀 材來說,傳統(tǒng)固相法制備的陶瓷祀材是不符合瓣射祀材的要求。
[0006] 方案二:在文南犬[2],('A coprecipitation technique to prepare Zn師2〇6P〇wders"中,采用共沉淀法制備Zn師2〇6陶瓷粉體。共沉淀法在液相環(huán)境下,分子間 在原子尺寸上進(jìn)行反應(yīng)、成核、長(zhǎng)大,理論上不僅可W獲得純度高的物相,更易于得到致密 性高的祀材。共沉淀法將原料溶解于在液體中,通過添加液體沉淀劑,形成超微前驅(qū)體粉 體,再將前軀體烘干破碎般燒后得到目標(biāo)粉體。傳統(tǒng)的共沉淀法制備的化Nb206陶瓷粉體粒 徑約lOOnm,超微粉體在常規(guī)單向軸壓力成型中受到壓機(jī)最大壓力和模具承受力的限制,粉 體經(jīng)干壓成型燒結(jié)后很難得到致密性高的巧體,因?yàn)榧{米粉體尺寸小,團(tuán)聚嚴(yán)重,傳統(tǒng)單向 干壓成型壓力小,在燒結(jié)過程中,往往容易引起陶瓷巧體成型壓力不夠,晶粒間距遠(yuǎn),W至 于晶界面不能融合燒結(jié)成瓷,且存在較多的氣孔。
[0007]方案S :在文獻(xiàn)[3],"Preparation of ZnNb2〇(5-Ti〇2mic;rowave dielectric ceramics for multi-layer cofired component"中,采用氧化鐵滲雜化饑)2〇6。其中,添加 助燒劑是在傳統(tǒng)固相燒結(jié)的基礎(chǔ)上,通過添加助劑來提高陶瓷的致密性及介電性能,加入 Ti化后的ZnNb206陶瓷致密性可W提高至96%,且陶瓷的介電性能可W得到明顯提升。但是 固相反應(yīng)中添加助燒劑,往往存在固相滲雜工藝原料混合不均勻、產(chǎn)物純度不高、易引入雜 質(zhì)造成污染等問題,因此選擇合理的滲雜工藝,對(duì)制備高純度、高致密性的陶瓷祀材來說顯 得非常重要。
[000引有鑒于此,業(yè)界亟需一種Ti化滲雜化抓206陶瓷祀材的制備方法,W獲得粒徑小、純 度高、致密性高、晶粒生長(zhǎng)均勻的Ti化滲雜ZnNb206陶瓷祀材。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]有鑒于此,本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有制備方法中Zn師2〇6陶瓷祀材固相燒結(jié)溫度高、陶瓷巧 體致密性差、添加助燒劑后純度低、結(jié)晶性差等不穩(wěn)定因素,提出一種Ti化滲雜化抓2〇6陶瓷 祀材的制備方法。本發(fā)明不僅能夠在分子的尺寸上對(duì)ZnNb2〇6進(jìn)行Ti化的滲雜,同時(shí)也能獲 得純度高、粒徑小、分散性良好、結(jié)晶性好的化抓2〇6-化〇2粉體,為進(jìn)一步燒結(jié)出純度高、致 密性好的化佩2〇6-xTi化陶瓷祀材提供良好的粉體基礎(chǔ)。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種Ti〇2滲雜ZnNb2〇6陶瓷祀材的制備方法,包括W下步 驟:
[00川 Sl、制備含鋒、妮、鐵的混合溶液;
[0012] S2、向所述混合溶液中添加沉淀劑與分散劑,得到沉淀混合溶液,靜置后得到混凝 沉淀物;
[0013] S3、對(duì)所述混凝沉淀物進(jìn)行抽濾,并干燥,得到沉淀物;
[0014] S4、對(duì)所述沉淀物進(jìn)行研磨,得到Zn師2〇6-xTi〇2前驅(qū)體粉體,再對(duì)所述ZnNb2〇6- xTi化前驅(qū)體粉體進(jìn)行預(yù)燒,得到化Nb2〇6-xTi化粉體,對(duì)所述化Nb2〇6-xTi化粉體進(jìn)行冷等靜 壓成型,得到aiNb2〇6-xTi〇2陶瓷祀材毛巧;
[001引 S5、對(duì)所述Zn師206-xTi02陶瓷祀材毛巧進(jìn)行燒結(jié),得到Zn師206-xTi02陶瓷祀材素 巧,之后進(jìn)行機(jī)械加工。
[0016] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟Sl具體包括:將佩2〇5粉體加入HF溶液中,在第 一恒溫條件下磁力攬拌第一時(shí)間至溶液澄清,得到第一溶液,取化(S化)2 ? 7此0粉體稀釋攬 拌,得到第二溶液,取無機(jī)TiOS化粉體稀釋攬拌,得到第=溶液,將所述第一溶液、第二溶液 及第=溶液混合均勻,并在第二恒溫條件下磁力攬拌第二時(shí)間,再進(jìn)行超聲波震蕩,得到含 鋒、妮、鐵的混合溶液。
[0017] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一恒溫條件下的溫度為80~100°C,第一時(shí)間為 5~化,所述第二恒溫條件下的溫度為40~60°C,第二時(shí)間為50~80min,所述超聲波震蕩的 時(shí)間為20~40min。
[0018] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述第一恒溫條件下的溫度為9(TC,第一時(shí)間為化,所 述第二恒溫條件下的溫度為50°C,第二時(shí)間為化,所述超聲波震蕩的時(shí)間為30min。
[0019] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟S2具體包括:在恒溫反應(yīng)條件下,向所述混合 溶液中滴加沉淀劑與分散劑,并同時(shí)攬拌,直至析出白色沉淀,且所述混合溶液的抑為10, 得到沉淀混合溶液,將所述沉淀混合溶液超聲震動(dòng)第=時(shí)間,靜置第四時(shí)間后得到混凝沉 淀物。
[0020] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述沉淀劑為0.25~Imol/L的氨水,所述分散劑為質(zhì) 量分?jǐn)?shù)6~10%的丙二醇,所述恒溫條件下的溫度為40~60°C,所述攬拌速度為180~22化/ min,所述第S時(shí)間為20~40min,所述第四時(shí)間為11~13h。
[0021] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟S3具體包括:將所述混凝沉淀物進(jìn)行抽濾,將 抽濾后的粉體進(jìn)行多次水洗和乙醇洗,再置于真空冷干燥箱內(nèi),在溫度-20~-30°C環(huán)境下, 抽真空2~4Pa,真空冷干燥2地。
[0022] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟S4具體包括:將所述沉淀物置于研磨鉢中研 磨30~60min,得到粒徑190~210nm的aiNb2〇6-xTi〇2前驅(qū)體粉體,將所述aiNb2〇6-xTi〇2前驅(qū) 體粉體進(jìn)行預(yù)燒,升溫速率為3~5°C/min,溫度升至850~950°C,保溫化,得到粒徑450~ 550皿的化Nb2〇6-xTi化粉體,將所述化Nb2〇6-xTi化粉體裝入模具中進(jìn)行冷等靜壓成型,成型 壓力為50~200MPa,保壓時(shí)間為3~5min,得到aiNb2〇6-xTi〇2陶瓷祀材毛巧。
[0023] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟S5具體包括:將所述化師2〇6-xTi〇2陶瓷祀材 毛巧置于真空高溫加熱爐中進(jìn)行燒結(jié),其中抽真空至IX IO-2Pa,通入高純氣氣保護(hù),W5~ IOtVmin的升溫速率升至1100~1300°C,保溫地,得到aiNb2〇6-xTi〇2陶瓷祀材素巧,再將所 述化佩2〇6-化〇2陶瓷祀材素巧機(jī)械加工成圓形祀材。
[0024] 作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述步驟S4中預(yù)燒后的化Nb2〇6-xTi〇2粉體及步驟S5中 燒結(jié)后的化Nb2〇6-xTi化陶瓷祀材素巧,通過XRD進(jìn)行物相分析,通過TEM結(jié)合沈M進(jìn)行微觀形 貌及氣孔率的表征,通過粒徑分析儀對(duì)化Nb2〇6-xTi化粉體的粒徑分布進(jìn)行測(cè)試。
[0025] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下的技術(shù)優(yōu)勢(shì):
[0026] (1)采用液相法制備粉體,液相法制備建立在原子、分子的尺寸上進(jìn)行,整個(gè)反應(yīng) 過程離子混合均勻,反應(yīng)所需的反應(yīng)勢(shì)能低,可W在較低的溫度下合成目標(biāo)粉體,且粉體粒 徑比較小、成分均勻、純度高、晶粒生長(zhǎng)均勻完整,可W用于多種微波介質(zhì)陶瓷粉體的制備;
[0027] (2)本發(fā)明針對(duì)常規(guī)共沉淀法制備出的超微粉體難W燒結(jié)成瓷的問題,進(jìn)行工藝 上的改進(jìn),通過在液相反應(yīng)中滲入Ti化,不僅可W獲得超微細(xì)的粉體,促進(jìn)燒結(jié)的進(jìn)行,同 時(shí)也可W顯著提升化佩2〇6陶瓷祀材的致密度及介電性能;
[0028] (3)采用共沉淀法或溶膠-凝膠法對(duì)粉體進(jìn)行滲雜Ti化,使反應(yīng)條件在液體環(huán)境下 進(jìn)行,在原子、分子尺寸上進(jìn)行Ti化的滲雜與替換,可W克服固相滲雜不均勻等問題,可W 獲得粒徑約500nm、純度高的超微粉體,且所制備的超微粉體通過冷等靜壓成型,可使制得 后的陶瓷祀材毛巧表面光滑且有高達(dá)99 %的致密度,極大提高良品率。
【附圖說明】
[0029] 為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可W 根據(jù)運(yùn)些附圖獲得其他的附圖。
[0030] 圖1是本發(fā)明T i化滲雜化抓2〇6陶瓷祀材的工藝流程圖
【具體實(shí)施方式】
[0031] 為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí) 施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施 例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通 技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù) 的范圍。
[0032] 請(qǐng)參見圖1,是本發(fā)明Ti化滲雜化抓2〇6陶瓷祀材的工藝流程圖,Ti〇2滲雜化抓2〇6陶 瓷祀材的制備方法,主要包括五個(gè)步驟,即前驅(qū)體的制備、沉淀反應(yīng)、抽濾干燥、預(yù)燒成型及 燒結(jié),具體工藝如下:
[0033] Sl、前驅(qū)體的制備:稱取佩2〇5粉體加入盛有HF溶液的塑料燒杯中,在第一恒溫條件 水浴下,磁力攬拌第一時(shí)間至溶液由白色渾濁變?yōu)槌吻澹玫降谝蝗芤?,同時(shí)按摩爾比Zn: 抓:1'1 = 1:2:乂村=0.2~2),稱取化(5化)2-7此0粉體用蒸饋水稀釋攬拌,得到第二溶液,稱 取無機(jī)TiOS化粉體用蒸饋水稀釋攬拌,得到第=溶液,將W上得到的第一溶液、第二溶液及 第=溶液緩慢混合均勻,并在第二恒溫條件下磁力攬拌第二時(shí)間后備用,之后將上述的混 合溶液進(jìn)行超聲波震蕩20~40min,優(yōu)選30min,得到成分更均勻的含鋒、妮、鐵的混合溶液。 其中,第一恒溫條件下的溫度為80~100°C,優(yōu)選90°C,第一時(shí)間為5~化,優(yōu)選化,第二恒溫 條件下的溫度為40~60°C,優(yōu)選50°C,第二時(shí)間為50~80min,優(yōu)選化。
[0034] S2、在恒溫40~60°C,優(yōu)選50°C的反應(yīng)條件下,在磁力攬拌器上,向W上制得的混 合溶液中邊緩慢滴加沉淀劑與分散劑,邊攬拌,其中,沉淀劑為0.25~Imol/L的氨水,分散 劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)6~10 %、優(yōu)選8 %的丙二醇,攬拌速度為180~22化/min,優(yōu)選2(K)r/min,直至 有白色沉淀析出,繼續(xù)攬拌、滴加,用pH酸度計(jì)測(cè)出混合溶液的抑為10,再將得到的沉淀混 合溶液在超聲波下,超聲震動(dòng)第=時(shí)間20~40min,優(yōu)選0.化,之后,靜置第四時(shí)間11~13h, 優(yōu)選12h,得到混凝沉淀物。整個(gè)反應(yīng)過程離子混合均勻,反應(yīng)所需的反應(yīng)勢(shì)能低,可W在較 低的溫度下進(jìn)行。
[0035] S3、對(duì)上述得到的混凝沉淀物進(jìn)行抽濾,將抽濾后的粉體進(jìn)行多次水洗和乙醇洗 后備用,之后將該混凝沉淀物置于真空冷干燥箱內(nèi),干燥箱的溫度控制在-20~-30°C環(huán)境 下,抽真空2~4Pa,真空冷干燥24h,得到沉淀物,由此可W克服常規(guī)干燥造成的粉體團(tuán)聚現(xiàn) 象。另外,對(duì)該混凝沉淀物的干燥也可W選用離屯、噴霧干燥法,同樣可W克服常規(guī)干燥造成 的粉體團(tuán)聚現(xiàn)象。
[0036] S4、將上述得到的塊體沉淀物置于剛玉研磨鉢中進(jìn)行研磨,研磨30~60min,得到 粒徑190~210皿、優(yōu)選約200皿的化Nb2〇6-xTi化前驅(qū)體粉體,再將該化Nb2〇6-xTi化前驅(qū)體粉 體置于馬弗爐中預(yù)燒,升溫速率為3~5°C/min,溫度升至850~950°C,優(yōu)選900°C,保溫化, 得到粒徑450~550皿的化Nb2〇6-xTi化粉體,優(yōu)選粒徑約500皿,由此得到的化Nb2〇6-xTi化粉 體粒徑比較小、成分均勻、純度高、晶粒生長(zhǎng)均勻完整,可W用于多種微波介質(zhì)陶瓷粉體的 制備。將得到的化師2〇6-xTi〇2粉體裝入下氯塑料橡膠模具中進(jìn)行冷等靜壓成型,采用冷等 靜壓的方式可W提高陶瓷毛巧的致密度,成型壓力為50~200M化,保壓時(shí)間為3~5min,從 而得到aiNb2〇6-xTi〇2陶瓷祀材毛巧,毛巧的體積密度約為3.96g/cm3。
[0037] S5、將上述得到的Zn師2〇6-xTi〇2陶瓷祀材毛巧置于真空高溫加熱爐中進(jìn)行燒結(jié), 其中抽真空至IX 10-2化,然后通入高純氣氣保護(hù),W5~IOtVmin的升溫速率升至1100~ 1300°C,保溫4h,即可得到致密性好的ZnNb2〇6-xTi化陶瓷祀材素巧,其體積密度可達(dá)到 5.13g/cm3,再對(duì)燒結(jié)后的陶瓷祀材素巧進(jìn)行機(jī)械加工,使之加工成尺寸0為6英寸的圓形祀 材,W滿足所需。另外,對(duì)化Nb2〇6-xTi〇2陶瓷祀材毛巧的燒結(jié)也可采用真空熱壓燒結(jié)方式, 制得后的陶瓷祀材毛巧表面同樣光滑且有高達(dá)99%的致密度,極大提高良品率。
[003引其中,步驟S4中預(yù)燒后的aiNb206-xTi02粉體及步驟S5中燒結(jié)后的aiNb206-xTi02陶 瓷祀材素巧,通過XRD進(jìn)行物相分析,通過TEM結(jié)合SEM進(jìn)行微觀形貌及氣孔率的表征,通過 粒徑分析儀對(duì)化Nb206-xTi化粉體的粒徑分布進(jìn)行測(cè)試。
[0039] 超微ZnNb2〇6-xTi〇2粉體的滲雜制備工藝,可W采用共沉淀法,也可W采用溶膠-凝 膠法對(duì)粉體進(jìn)行滲雜Ti化。
[0040] 本發(fā)明中的Ti化滲雜ZnNb2〇6陶瓷祀材的制備方法,通過前驅(qū)體的制備、沉淀反應(yīng)、 抽濾干燥、預(yù)燒成型及燒結(jié)等工藝步驟,采用液相法制備粉體,并嚴(yán)格控制各反應(yīng)條件,審U 備出的ZnNb2〇6-xTi〇2粉體粒徑比較小、成分均勻、純度高、晶粒生長(zhǎng)均勻完整,可W用于多 種微波介質(zhì)陶瓷粉體的制備,同時(shí)也顯著提升了 ZnNb2〇6陶瓷祀材的致密度及介電性能,極 大提高了良品率。
[0041] 對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié),而且在 不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下,能夠W其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此,無論 從哪一點(diǎn)來看,均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本發(fā)明的范圍由所附權(quán) 利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有 變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所設(shè)及的權(quán)利要求。
[0042] 此外,應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實(shí)施方式加 W描述,但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包 含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案,說明書的運(yùn)種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng) 將說明書作為一個(gè)整體,各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可W經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員 可W理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 51、 制備含鋅、鈮、鈦的混合溶液; 52、 向所述混合溶液中添加沉淀劑與分散劑,得到沉淀混合溶液,靜置后得到混凝沉淀 物; 53、 對(duì)所述混凝沉淀物進(jìn)行抽濾,并干燥,得到沉淀物; 54、 對(duì)所述沉淀物進(jìn)行研磨,得到ZnNb2〇6_xTi〇2前驅(qū)體粉體,再對(duì)所述ZnNb2〇6_xTi〇2前 驅(qū)體粉體進(jìn)行預(yù)燒,得到ZnNb2〇6_xTi〇2粉體,對(duì)所述ZnNb2〇6_xTi〇2粉體進(jìn)行冷等靜壓成型, 得到ZnNb 2O6-XTi O2陶瓷靶材毛坯; 55、 對(duì)所述ZnNb2O6-XTiO2陶瓷靶材毛坯進(jìn)行燒結(jié),得到ZnNb 2O6-XTiO2陶瓷靶材素坯,之 后進(jìn)行機(jī)械加工。2. 如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟Sl 具體包括:將Nb2O5粉體加入HF溶液中,在第一恒溫條件下磁力攪拌第一時(shí)間至溶液澄清,得 到第一溶液,取Zn(SO 4)2 · 7H20粉體稀釋攪拌,得到第二溶液,取無機(jī)TiOSO4粉體稀釋攪拌, 得到第三溶液,將所述第一溶液、第二溶液及第三溶液混合均勻,并在第二恒溫條件下磁力 攪拌第二時(shí)間,再進(jìn)行超聲波震蕩,得到含鋅、鈮、鈦的混合溶液。3. 如權(quán)利要求2所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述第一恒 溫條件下的溫度為80~100°C,第一時(shí)間為5~7h,所述第二恒溫條件下的溫度為40~60°C, 第二時(shí)間為50~80min,所述超聲波震蕩的時(shí)間為20~40min。4. 如權(quán)利要求3所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述第一恒 溫條件下的溫度為90°C,第一時(shí)間為6h,所述第二恒溫條件下的溫度為50°C,第二時(shí)間為 lh,所述超聲波震蕩的時(shí)間為30min。5. 如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟S2 具體包括:在恒溫反應(yīng)條件下,向所述混合溶液中滴加沉淀劑與分散劑,并同時(shí)攪拌,直至 析出白色沉淀,且所述混合溶液的pH為10,得到沉淀混合溶液,將所述沉淀混合溶液超聲震 動(dòng)第三時(shí)間,靜置第四時(shí)間后得到混凝沉淀物。6. 如權(quán)利要求5所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述沉淀劑 為0.25~lmol/L的氨水,所述分散劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)6~10%的丙二醇,所述恒溫條件下的溫度 為40~60 °C,所述攪拌速度為180~220r/min,所述第三時(shí)間為20~40min,所述第四時(shí)間為 11~13h〇7. 如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟S3 具體包括:將所述混凝沉淀物進(jìn)行抽濾,將抽濾后的粉體進(jìn)行多次水洗和乙醇洗,再置于真 空冷干燥箱內(nèi),在溫度-20~-30°C環(huán)境下,抽真空2~4Pa,真空冷干燥24h。8. 如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟S4 具體包括:將所述沉淀物置于研磨缽中研磨30~60min,得到粒徑190~210nm的ZnNb206-χTi02前驅(qū)體粉體,將所述ZnNb206-χTi02前驅(qū)體粉體進(jìn)行預(yù)燒,升溫速率為3~5°C/min,溫 度升至850~950 °C,保溫2h,得到粒徑450~550nm的ZnNb2O6-XTiO2粉體,將所述ZnNb 2O6-XTiO2粉體裝入模具中進(jìn)行冷等靜壓成型,成型壓力為50~200MPa,保壓時(shí)間為3~5min,得 到ZnNb 2O6-XTi O2陶瓷靶材毛坯。9. 如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟S5 具體包括:將所述ZnNb2O6-XTiO2陶瓷靶材毛坯置于真空高溫加熱爐中進(jìn)行燒結(jié),其中抽真 空至I X 10_2pa,通入高純氬氣保護(hù),以5~10°C/min的升溫速率升至1100~1300°C,保溫4h, 得到ZnNb 2O6-XTiO2陶瓷靶材素坯,再將所述ZnNb2O 6-XTiO2陶瓷靶材素坯機(jī)械加工成圓形靶 材。10.如權(quán)利要求1所述的TiO2摻雜ZnNb2O6陶瓷靶材的制備方法,其特征在于,所述步驟 S4中預(yù)燒后的ZnNb2O6-XTiO2粉體及步驟S5中燒結(jié)后的ZnNb 2O6-XTiO2陶瓷靶材素坯,通過 XRD進(jìn)行物相分析,通過TEM結(jié)合SEM進(jìn)行微觀形貌及氣孔率的表征,通過粒徑分析儀對(duì) ZnNb2〇6_xTi〇2粉體的粒徑分布進(jìn)行測(cè)試。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK105924168SQ201610301534
【公開日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年5月9日
【發(fā)明人】杜勇, 王廣欣, 崔立虎
【申請(qǐng)人】中科院微電子研究所昆山分所