觸摸屏制備方法
【專利摘要】一種觸摸屏制備方法，包括以下步驟：提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極的導(dǎo)電膜；在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層；將所述光刻膠層在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層；將所述曝光后的光刻膠層顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽；填充并固化導(dǎo)電材料于所述凹槽，填充于所述凹槽的導(dǎo)電材料形成引線；去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線。上述觸摸屏制備方法，通過對光刻膠層進行曝光顯影產(chǎn)生凹槽，將導(dǎo)電材料填充于凹槽以形成引線，相比直接印刷引線的方式，利用曝光顯影技術(shù)所得到的引線線路會更加精細(xì)，滿足窄邊框觸摸屏的設(shè)計需求。
【專利說明】觸摸屏制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏技術(shù)，特別是涉及一種觸摸屏制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]觸摸屏是可接收觸摸等輸入信號的感應(yīng)式裝置。觸摸屏賦予了信息交互嶄新的面貌，是極富吸引力的全新信息交互設(shè)備，其被作為輸入端廣泛應(yīng)用于手機、電視機和平板電腦等電子產(chǎn)品。隨著人們對電子產(chǎn)品外觀審美的需求(邊框最小化，視窗最大化)日益增長，窄邊框化觸摸屏正慢慢變成一種時尚設(shè)計潮流。
[0003]觸摸屏的邊框有多條與觸摸屏可視區(qū)的導(dǎo)電圖案連接的引線，為實現(xiàn)觸摸屏邊框窄邊化，即引線需做到線寬線距最小化。一般地，傳統(tǒng)的觸摸屏的引線通常采用絲網(wǎng)印刷的方式制作，即在基板上采用絲網(wǎng)印刷工藝制作出若干銀漿電路走線。然而，采用絲印方式得到的線路較粗，導(dǎo)致無法滿足對窄邊框觸摸屏的設(shè)計需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于此，有必要針對線路較粗無法滿足對窄邊框觸摸屏的設(shè)計需求的問題，提供一種觸摸屏制備方法。
[0005]一種觸摸屏制備方法，包括以下步驟:
[0006]提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極的導(dǎo)電膜；
[0007]在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層；
[0008]將所述光刻膠層在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層；
[0009]將所述曝光后的光刻膠層顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽；
[0010]填充并固化導(dǎo)電材料于所述凹槽，填充于所述凹槽的導(dǎo)電材料形成引線；
[0011]去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線。
[0012]在其中一個實施例中，所述引線的寬度為20-50 μ m，相鄰所述引線的間距為20-50 μ mD
[0013]在其中一個實施例中，所述在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層的步驟，具體包括:
[0014]在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)涂布光刻膠，以形成光刻膠層。
[0015]在其中一個實施例中，所述在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層的步驟，具體包括:
[0016]將光刻膠干膜通過加熱加壓的方式貼合于所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一偵牝以形成光刻膠層。
[0017]在其中一個實施例中，所述填充并固化導(dǎo)電材料于所述凹槽，使得填充于所述凹槽的導(dǎo)電材料形成引線的步驟，具體包括:
[0018]絲網(wǎng)印刷導(dǎo)電材料于所述光刻膠層，使得所述導(dǎo)電材料填充于所述凹槽形成引線.[0019]預(yù)固烤所述導(dǎo)電材料。
[0020]在其中一個實施例中，所述將所述光刻膠層在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層的步驟，具體包括:
[0021]將所述光刻膠層在紫外光下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層，所述紫外光的波長為300-400nm，曝光能量為20-1000mJ/s。
[0022]在其中一個實施例中，所述將所述曝光后的光刻膠層顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽的步驟，具體包括:
[0023]將所述曝光后的光刻膠層通過顯影液進行顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽，所述顯影液為0.1-3%的弱堿鹽溶液。
[0024]在其中一個實施例中，所述去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線的步驟，具體包括:
[0025]將所述光刻膠層通過剝膜液去除，以顯露出所述引線，所述剝膜液為I一5%的堿鹽溶液。
[0026]在其中一個實施例中，所述去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線的步驟之后，還包括步驟:干燥所述引線。
[0027]在其中一個實施例中，所述導(dǎo)電材料包括銀漿和有機溶劑，所述銀漿的粘度為10_40Pa.S0
[0028]上述觸摸屏制備方法，提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極的導(dǎo)電膜，先在導(dǎo)電膜設(shè)有觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層，然后在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，經(jīng)過顯影后，在光刻膠層得到位于觸控電極邊緣的凹槽，將導(dǎo)電材料填充于凹槽并固化，使得填充于凹槽的導(dǎo)電材料形成與觸控電極連接的引線，進而去除光刻膠層，將引線顯露出來。如此，通過對光刻膠層進行曝光顯影產(chǎn)生凹槽，將導(dǎo)電材料填充于凹槽以形成引線，相比直接印刷引線的方式，利用曝光顯影技術(shù)所得到的的引線線路會更加精細(xì)，滿足窄邊框觸摸屏的設(shè)計需求，且無需多次曝光顯影，簡化了生產(chǎn)工藝，提高了生產(chǎn)效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為一實施方式中觸摸屏制備方法的流程示意圖；
[0030]圖2為一實施方式中觸摸屏制備方法的填充并固化導(dǎo)電材料于凹槽的流程示意圖；
[0031]圖3為一實施方式中帶有觸控電極的導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖4為一實施方式中覆設(shè)有光刻膠層的導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖5為一實施方式中覆設(shè)有光刻膠層的導(dǎo)電膜的另一視角結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖6為一實施方式中填充導(dǎo)電材料于凹槽的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖7為一實施方式中去除光刻膠層后的導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖8為一實施方式中去除光刻膠層后的導(dǎo)電膜的另一視角結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0037]為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對本發(fā)明進行更全面的描述。附圖中給出了本發(fā)明的較佳實施例。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。
[0038]需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個元件被認(rèn)為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。
[0039]除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本發(fā)明的【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。
[0040]如圖1至圖8所示，一種觸摸屏制備方法，其特征在于，包括以下步驟:
[0041]步驟S110，提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極120的導(dǎo)電膜110。觸控電極120的材質(zhì)可以為氧化銦錫(Indium Tin Oxides, ΙΤ0)、納米銀或石墨烯等。在本實施例中，觸控電極120為ITO觸控電極120，其制作方法可以為通過曝光-顯影-蝕刻工序?qū)?dǎo)電膜110表面的ITO導(dǎo)電層進行圖案化，得到ITO觸控電極120。
[0042]步驟S120，在所述導(dǎo)電膜110設(shè)置有所述觸控電極120的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層130。
[0043]在其中一個實施例中，步驟S120具體可以為:在所述導(dǎo)電膜110設(shè)置有所述觸控電極120的一側(cè)涂布光刻膠，以形成光刻膠層130。通過采用涂布的方式，具體可采用旋涂等方式，將光刻膠涂覆于導(dǎo)電膜110設(shè)有觸控電極120的一側(cè)，進而實現(xiàn)形成光刻膠層130的目的。需要指出的是，也可采用其他覆設(shè)方式，只要能夠?qū)崿F(xiàn)在導(dǎo)電膜110設(shè)置有觸控電極120的一側(cè)形成光刻膠層130即可。
[0044]在其中一個實施例中，步驟S120還可以具體為:將光刻膠干膜通過加熱加壓的方式貼合于所述導(dǎo)電膜110設(shè)置有所述觸控電極120的一側(cè)，以形成光刻膠層130。本實施例所使用的是光刻膠干膜，即由光刻膠預(yù)制成干膜狀，在一定溫度和壓強的作用下，該光刻膠干膜能與導(dǎo)電膜110設(shè)置有觸控電極120的一側(cè)緊密貼合，形成光刻膠層130層。需要指出的是，也可采用其他覆設(shè)方式，只要能夠?qū)崿F(xiàn)在導(dǎo)電膜110設(shè)置有觸控電極120的一側(cè)形成光刻膠層130即可。
[0045]步驟S130，將所述光刻膠層130在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層130。選擇合適的光照條件，透過設(shè)有特定圖案的光罩對覆設(shè)在導(dǎo)電膜110表面的光刻膠層130進行曝光，從而使得光刻膠層130形成曝光區(qū)域及非曝光區(qū)域。當(dāng)光刻膠層130為正性光刻膠層時，在其后的顯影階段，非曝光區(qū)域不溶解于顯影液而被保留，而曝光區(qū)域?qū)⒈伙@影液溶解而形成凹槽132 ;相反，當(dāng)光刻膠層130為負(fù)性光刻膠層時，在其后的顯影階段，曝光區(qū)域不溶解于顯影液而被保留，而非曝光區(qū)域?qū)⒈伙@影液溶解而形成凹槽132。由此可見，光罩的形狀圖案將決定上述凹槽132的形狀及位置，進而決定了觸摸屏上引線150的形狀及位置。
[0046]在其中一個實施例中，為避免曝光不足影響凹槽132的形狀及位置的精確性，及曝光過度影響后期的顯影效果，因此，步驟S130具體為:將所述光刻膠層130在紫外光下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層130，所述紫外光的波長為300-400nm，曝光能量為20-1000mJ/s。需要指出的是，所選用的曝光光源也可不為紫外光，如鹵素?zé)?、高壓汞燈、激光、金屬鹵化物燈、黑光燈或者無電極等作為曝光光源，也可以實現(xiàn)曝光的目的。
[0047]步驟S140，將所述曝光后的光刻膠層130顯影，在所述光刻膠層130得到位于所述觸控電極120邊緣，并與所述觸控電極120連接的凹槽132。
[0048]在其中一個實施例中，步驟S140具體為:將所述曝光后的光刻膠層130通過顯影液進行顯影，在所述光刻膠層130得到位于所述觸控電極120邊緣，并與所述觸控電極120連接的凹槽132，所述顯影液為0.1-3%的弱堿鹽溶液。顯影液可以為碳酸氫鈉，碳酸氫鉀，磷酸鈉，磷酸氫鈉等弱堿鹽溶液。若顯影液濃度過低，難免導(dǎo)致顯影速度過于緩慢；如果顯影液濃度過高，難免會損傷預(yù)設(shè)凹槽132形狀，故合理設(shè)置顯影液的濃度為0.1-3%。
[0049]步驟S150，填充并固化導(dǎo)電材料140于所述凹槽132，填充于所述凹槽132的導(dǎo)電材料140形成引線150。因凹槽132位于觸控電極120邊緣，并與觸控電極120連接，故引線150與觸控電極120連接。該凹槽132可以恰好與觸控電極120的邊緣接觸，也可以覆蓋觸控電極120的一部分。具體如圖7所示的實施例中，凹槽132覆蓋觸控電極120的一小部分，進而使引線150更好的與觸控電極120連接，提高引線150與觸控電極120連接的穩(wěn)定性。
[0050]請參閱圖2，在其中一個實施例中，步驟S150包括:
[0051]步驟S152:絲網(wǎng)印刷導(dǎo)電材料140于光刻膠層130表面，使得所述導(dǎo)電材料140填充于所述凹槽132形成引線150。絲印網(wǎng)版材質(zhì)可為尼龍或者鋼絲，網(wǎng)版目數(shù)可為300-520目之間。當(dāng)然，也可采用其他方式填充導(dǎo)電材料140于觸控電極120邊緣，只要能實現(xiàn)導(dǎo)電材料140填充于凹槽132以形成引線150的目的即可。
[0052]步驟S154:預(yù)固烤所述導(dǎo)電材料140。為了保證填充于凹槽132的導(dǎo)電材料140能夠成型，并與觸控電極120接觸緊密，故填充完導(dǎo)電材料140后可采用預(yù)固烤的方式來使導(dǎo)電材料140固化。同時，為了避免光刻膠在高溫固烤時與導(dǎo)電膜110結(jié)合得過于牢靠而在后續(xù)工序中不易去除，故預(yù)固烤溫度不宜過高，時間不宜過長。具體可以通過使用立柜式烘箱或者紅外線烘烤箱等設(shè)備完成預(yù)固烤。如采用立柜式烘箱，則是將導(dǎo)電膜110放入立柜式烘箱內(nèi)，然后設(shè)置立柜式烘箱內(nèi)的溫度和烘烤時間，進而完成對導(dǎo)電材料140的固化。立柜式烘箱內(nèi)的溫度為110-150攝氏度，烘烤時間為10-60分鐘。如采用紅外線烤箱，則是將導(dǎo)電膜110放入烘烤軌道以一定的速度傳遞，在傳遞過程中通過紅外線照射完成對導(dǎo)電材料140的固化。紅外線烘箱的烘烤軌道線長為2-20米，傳遞速度為0.3-3.0m/min。當(dāng)然，也可采用其他方式來對導(dǎo)電材料140進行固化，只要能夠?qū)崿F(xiàn)填充于凹槽132的導(dǎo)電材料140固化成型的目的即可。
[0053]在其中一個實施例中，所述導(dǎo)電材料140包括銀漿和有機溶劑，銀漿的粘度為10-40Pa *s。該導(dǎo)電材料140采用銀漿和有機溶劑，在將導(dǎo)電材料140進行固化之后，有機溶劑會揮發(fā)，進而形成由銀制成的引線150。采用銀漿作為導(dǎo)電材料140，導(dǎo)電效果好。如果銀漿的粘度過低，難免導(dǎo)致導(dǎo)電材料140流動性太強，影響填充。如果銀漿的粘度過高，難免導(dǎo)致導(dǎo)電材料140填充于凹槽132的阻力過大。故合理設(shè)置銀漿的粘度為10-40Pa.S。
[0054]步驟S160，去除所述光刻膠層130，以顯露出所述引線150。引線150嵌入光刻膠層130的凹槽132，去除光刻膠層130后，與觸控電極120連接的引線150便顯露出來。
[0055]在其中一個實施例中，步驟S160具體為:將所述光刻膠層130通過剝膜液去除，以顯露出所述引線150，所述剝膜液為1-5%的堿鹽溶液。其中，剝膜液可以為碳酸鈉，碳酸鉀，氫氧化鈉，氫氧化鉀等堿鹽溶液。若剝膜液濃度過低，難免導(dǎo)致光刻膠層130去除速度過低；如果剝膜液濃度過高，難免會損傷導(dǎo)電膜110的其它結(jié)構(gòu)，故合理設(shè)置薄膜液的濃度為1-5%，該剝膜液的堿性高于顯影液。
[0056]上述觸摸屏制備方法，提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極120的導(dǎo)電膜110，先在導(dǎo)電膜110設(shè)有觸控電極120的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層130，然后在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，經(jīng)過顯影后，在光刻膠層130得到位于觸控電極120邊緣的凹槽132，將導(dǎo)電材料140填充于凹槽132并固化，使得填充于凹槽132的導(dǎo)電材料140形成與觸控電極120連接的引線150，進而去除光刻膠層130，將引線150顯露出來。如此，通過對光刻膠層進行曝光顯影產(chǎn)生凹槽，將導(dǎo)電材料填充于凹槽以形成引線，相比直接印刷引線的方式，利用曝光顯影技術(shù)所得到的的引線線路會更加精細(xì)，滿足窄邊框觸摸屏的設(shè)計需求。且無需多次曝光顯影，簡化了生產(chǎn)工藝，提高了生產(chǎn)效率和生產(chǎn)良率。與此同時，先形成凹槽，再將導(dǎo)電材料填充于凹槽形成引線，有利于得到的引線線形整齊。通過上述方法，可以制得引線的線寬及線距均小于50 μ m的產(chǎn)品，滿足了對窄邊框的設(shè)計要求。
[0057]在其中一個實施例中，為了保證生產(chǎn)效率，合理設(shè)置引線的寬度為20-50 μ m，相鄰引線的間距為20-50 μ m。當(dāng)然，為了得到性能更優(yōu)的產(chǎn)品，也可采用上述方法制備引線的線寬線距均小于20 μ m的產(chǎn)品。
[0058]當(dāng)需要制備超小線寬/線距的產(chǎn)品時，步驟S130中所用的光罩需要更精細(xì)的圖案。此時，由于曝光時光的衍射效應(yīng)，可能造成曝光顯影后得到的凹槽132的位置及尺寸偏離設(shè)計值，因此，需要對光罩進行設(shè)計補償。例如，在其中一實施例中，該光刻膠層130由負(fù)性光刻膠形成，光罩設(shè)計如下:引線150的線寬/線距為50/50 μ m時，光罩不設(shè)計補償；引線150的線寬/線距為40/40 μ m時，光罩設(shè)計補償36/44 μ m;引線150的線寬/線距為30/30 μ m時，光罩設(shè)計補償25/35 μ m;引線150的線寬/線距為20/20 μ m時，光罩設(shè)計補償 15/25 μ m。
[0059]在其中一個實施例中，步驟S160之后還包括:步驟S170，干燥所述引線150。在去除光刻膠層130，露出引線150之后，通過對引線150進行干燥，有利于保證引線150與觸控電極120連接緊密，及加強引線150的牢固性。具體可以通過使用立柜式烘箱或者紅外線烘烤箱等設(shè)備完成干燥。立柜式烘箱或者紅外線烘烤箱的工作原理與預(yù)固烤時所使用的立柜式烘箱或者紅外線烘烤箱的工作原理相同，在此不再贅述。采用立柜式烘箱對引線150進行干燥的過程中，為保證干燥效果，合理設(shè)置立柜式烘箱內(nèi)的溫度為130-200攝氏度，烘烤時間為60-120分鐘。采用紅外線烘箱對引線150進行干燥的過程中，為保證干燥效果，合理設(shè)置紅外線烘箱的烘烤軌道線長為2-20米，傳遞速度為0.1-1.0m/min。
[0060]以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸屏制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 提供表面設(shè)置有圖案化觸控電極的導(dǎo)電膜； 在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層； 將所述光刻膠層在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層； 將所述曝光后的光刻膠層顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽； 填充并固化導(dǎo)電材料于所述凹槽，填充于所述凹槽的導(dǎo)電材料形成引線； 去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述引線的寬度為20-50μ m,相鄰所述引線的間距為20-50 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層的步驟，具體包括: 在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)涂布光刻膠，以形成光刻膠層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述在所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)覆設(shè)光刻膠，以形成光刻膠層的步驟，具體包括: 將光刻膠干膜通過加熱加壓的方式貼合于所述導(dǎo)電膜設(shè)置有所述觸控電極的一側(cè)，以形成光刻膠層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述填充并固化導(dǎo)電材料于所述凹槽，使得填充于所述凹槽的導(dǎo)電材料形成引線的步驟，具體包括: 絲網(wǎng)印刷導(dǎo)電材料于所述光刻膠層表面，使得所述導(dǎo)電材料填充于所述凹槽形成引線.預(yù)固烤所述導(dǎo)電材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述將所述光刻膠層在光照下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層的步驟，具體包括: 將所述光刻膠層在紫外光下透過預(yù)定圖案的光罩曝光，得到曝光后的光刻膠層，所述紫外光的波長為300-400nm，曝光能量為20_1000mJ/s。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述將所述曝光后的光刻膠層顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽的步驟，具體包括: 將所述曝光后的光刻膠層通過顯影液進行顯影，在所述光刻膠層得到位于所述觸控電極邊緣，并與所述觸控電極連接的凹槽，所述顯影液為0.1-3%的弱堿鹽溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線的步驟，具體包括: 將所述光刻膠層通過剝膜液去除，以顯露出所述引線，所述剝膜液為I一5%的堿鹽溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述去除所述光刻膠層，以顯露出所述引線的步驟之后，還包括步驟:干燥所述引線。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9任意一項所述的觸摸屏制備方法，其特征在于，所述導(dǎo)電材料包括銀漿和有機溶劑，所述銀漿的粘度為10-40Pa.S。
【文檔編號】G06F3/041GK103823595SQ201410092799
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2014年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月13日
【發(fā)明者】周志華 申請人:南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司