1. 一種用于監(jiān)控構(gòu)件(10)的系統(tǒng)(200)，所述構(gòu)件(10)具有外部表面(11)和構(gòu)造在所述構(gòu)件(10)上的表面特征(40)，所述系統(tǒng)(200)包括：
數(shù)據(jù)采集裝置(140)，其用于分析所述表面特征(40)；以及
對齊組件(210)，其用于對齊所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)和所述表面特征(40)，所述對齊組件(210)包括可構(gòu)造在所述構(gòu)件(10)上的目標(biāo)特征(212)和與所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)一起構(gòu)造的導(dǎo)引特征(214)，其中所述導(dǎo)引特征(214)與所述目標(biāo)特征(212)的對齊使所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)和所述表面特征(40)對齊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述目標(biāo)特征(212)與所述表面特征(40)分開。
3.根據(jù)權(quán)利要求1至2中的任一項所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述對齊組件(210)是物理對齊組件(210)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述導(dǎo)引特征(214)與所述目標(biāo)特征(212)之間的接觸導(dǎo)致所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)和所述表面特征(40)的對齊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述目標(biāo)特征(212)是第一磁體(222)，且所述導(dǎo)引特征(214)是具有相對于所述第一磁體(222)相反的磁極性的匹配的第二磁體(224)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述目標(biāo)特征(212)是凹陷(232)或凸起(234)中的一者，且所述導(dǎo)引特征(214)是所述凹陷(232)或所述凸起(234)中的另一者。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述對齊組件(210)是光學(xué)對齊組件(210)，且所述目標(biāo)特征(212)提供用于所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)的焦點。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述導(dǎo)引特征(214)與所述目標(biāo)特征(212)的對齊將所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)和所述表面特征(40)沿X軸線(202)、Y軸線(204)和Z軸線(206)中的至少一者對齊。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)采集裝置(140)包括檢孔儀(130)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)(200)，其特征在于，所述導(dǎo)引特征(214)聯(lián)接于所述檢孔儀(130)。