比色裝置、掩模構(gòu)件以及比色系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種比色裝置、其掩模構(gòu)件以及在比色裝置上安裝有掩模構(gòu)件的比色系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]對于各種工業(yè)產(chǎn)品等，為了確保固定的品質(zhì)，例如表面的色彩在產(chǎn)品之間保持為相同。因此，在從制造到出廠的某一個階段，需要通過利用比色計等測定表面的色彩來管理表面的色彩。在這種比色計中，例如設(shè)置有照明受光系統(tǒng)，該照明受光系統(tǒng)具有對產(chǎn)品等這樣的作為比色的對象的物體(還稱為比色對象物)的表面進行照明的光源以及接收從該表面發(fā)出的反射光等光的傳感器。
[0003]另外，比色對象物的表面中的作為色彩的管理的對象的部位、即作為比色的對象的部位(還稱為比色對象部位)的尺寸和形狀有可能根據(jù)比色對象物的形狀和尺寸、顧客的要求以及制造方法等各種條件而不同。但是，按每個條件準備不同的比色計對于制造者來說在經(jīng)濟上成為大的負擔。
[0004]因此，提出了如下的便攜用色彩測定裝置:通過配置能夠根據(jù)條件而在比色對象物與比色計的主體部之間更換的頭錐體(nose cone)，使得能夠變更作為比色的對象的區(qū)域(還稱為比色對象區(qū)域)的尺寸等(例如專利文獻I等)。該頭錐體具有規(guī)定比色對象區(qū)域的尺寸等的窗部，以覆蓋照明受光部的方式安裝于比色計，在進行比色對象物的比色時能夠作為與比色對象物接觸的構(gòu)件(還稱為掩模構(gòu)件)發(fā)揮功能。
[0005]在這種結(jié)構(gòu)中，在更換掩模構(gòu)件時，有時必須根據(jù)掩模構(gòu)件的種類來變更在光學系統(tǒng)的變更以及比色的運算中使用的校正系數(shù)等。因此，在上述專利文獻I的裝置中，在主體部的下半部分設(shè)置I個以上的磁開關(guān)，利用磁開關(guān)來監(jiān)視從配置于掩模構(gòu)件的磁鐵發(fā)出的磁場，由此自動地識別并顯示掩模構(gòu)件的種類。
[0006]專利文獻1:日本特表2000-505887號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明要解決的問題
[0008]另外，在上述專利文獻I的裝置中設(shè)想如下情況:在設(shè)置于掩模構(gòu)件的多個爪狀的止動部分別被插入到在主體部側(cè)以弧狀設(shè)置的凹部的狀態(tài)下掩模構(gòu)件被旋轉(zhuǎn)，從而掩模構(gòu)件安裝于主體部。這種安裝機構(gòu)的方式還被稱為卡口式，通過該卡口式的機構(gòu)，掩模構(gòu)件能夠更容易且可靠地安裝于主體部。
[0009]然而，在采用卡口式的機構(gòu)的情況下，如果通過掩模構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而止動部未到達至凹部的最里側(cè)的部分，則掩模構(gòu)件的磁鐵配置于設(shè)想外的位置，由磁開關(guān)監(jiān)視磁場的結(jié)果，有可能誤認掩模構(gòu)件的種類。
[0010]例如在為了實現(xiàn)主體部的小型化而在主體部的同心圓上排列多個磁開關(guān)的情況下，有可能由于在向主體部安裝掩模構(gòu)件時掩模構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)不足而由與應該檢測磁場的磁開關(guān)不同的其它磁開關(guān)來檢測出磁場。也就是說，無法實現(xiàn)與掩模構(gòu)件的種類相應的適當?shù)拇判詸z測狀態(tài)。而且，由此有可能誤認為與實際安裝的掩模構(gòu)件不同的種類的掩模構(gòu)件安裝于主體部。
[0011]這種問題在通過旋轉(zhuǎn)而掩模構(gòu)件安裝于主體部的結(jié)構(gòu)以及通過直線或曲線的滑動而掩模構(gòu)件安裝于主體部的結(jié)構(gòu)中均有可能產(chǎn)生。而且，上述問題是安裝掩模構(gòu)件的比色裝置中一般所共有的。
[0012]本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)與安裝于比色裝置的掩模構(gòu)件的種類相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)的技術(shù)。
[0013]用于解決問題的方案
[0014]為了解決上述問題，第I方式所涉及的比色裝置具備:照明受光部，具有光源部和傳感器部；被安裝部，用于以覆蓋所述照明受光部的方式安裝具有窗部的掩模構(gòu)件；多個檢測部，沿著所述掩模構(gòu)件在被安裝到所述被安裝部的中途的階段中相對于所述被安裝部移動的安裝方向排列，能夠分別檢測配置于所述掩模構(gòu)件的被檢測部；以及識別部，識別與所述多個檢測部中的檢測出所述被檢測部的2個以上的檢測部的組合對應的檢測模式。
[0015]第2方式所涉及的比色裝置在第I方式所涉及的比色裝置中，在正在進行所述掩模構(gòu)件向所述被安裝部中的為了執(zhí)行比色而預先設(shè)定的安裝位置的安裝的中途的安裝中途狀態(tài)下，所述識別部識別與所述多個檢測部中的檢測出所述被檢測部的I個以上的檢測部對應的檢測模式，在所述掩模構(gòu)件向所述安裝位置的安裝完成的安裝完成狀態(tài)下由所述識別部識別的檢測模式與在所述安裝中途狀態(tài)下由所述識別部識別的檢測模式不同。
[0016]第3方式所涉及的比色裝置在第I方式所涉及的比色裝置中，所述多個檢測部中的位于所述安裝方向上的最里側(cè)的檢測部在所述掩模構(gòu)件向所述安裝位置的安裝完成的安裝完成狀態(tài)下檢測所述被檢測部。
[0017]第4方式所涉及的比色裝置在第I?第3方式中的任一個方式所涉及的比色裝置中，所述多個檢測部包括3個以上的檢測部，關(guān)于所述3個以上的檢測部中的兩個檢測部的所有組合各自的檢測部間的距離不同。
[0018]第5方式所涉及的比色裝置在第I?第4方式中的任一個方式所涉及的比色裝置中，還具備:存儲部，按每個檢測模式存儲在根據(jù)由所述傳感器部得到的數(shù)據(jù)計算比色結(jié)果數(shù)據(jù)的比色運算中使用的校正數(shù)據(jù)；以及運算部，使用所述存儲部中存儲的多個所述校正數(shù)據(jù)中的與由所述識別部識別的檢測模式對應的所述校正數(shù)據(jù)進行所述比色運算。
[0019]第6方式所涉及的比色裝置在第I?第5方式中的任一個方式所涉及的比色裝置中，還具備判別部，該判別部判別與由所述識別部識別的檢測模式對應的所述掩模構(gòu)件的種類。
[0020]第7方式所涉及的比色裝置在第I?第6方式中的任一個方式所涉及的比色裝置中，所述被檢測部是磁鐵。
[0021]第8方式所涉及的掩模構(gòu)件具備:窗部；安裝部，用于安裝到比色裝置的被安裝部；以及2個以上的被檢測部，沿著在被安裝到所述被安裝部的中途的階段中相對于所述被安裝部移動的安裝方向排列，且能夠由所述比色裝置的檢測部分別檢測。
[0022]第9方式所涉及的掩模構(gòu)件在第8方式所涉及的掩模構(gòu)件中，具備多個被裝配部，該多個被裝配部能夠配置所述2個以上的被檢測部，且該多個被裝配部沿著所述安裝方向排列，在所述多個被裝配部中的、位于所述安裝方向上的最前頭的被裝配部中裝配有所述被檢測部。
[0023]第10方式所涉及的掩模構(gòu)件在第8方式所涉及的掩模構(gòu)件中，具備多個被裝配部，該多個被裝配部能夠配置所述2個以上的被檢測部，且該多個被裝配部沿著所述安裝方向排列，所述多個被裝配部包括3個以上的被裝配部，關(guān)于所述3個以上的被裝配部中的兩個被裝配部的所有組合各自的被裝配部間的距離不同，所述2個以上的被檢測部配置于所述3個以上的被裝配部中的至少兩個被裝配部。
[0024]第11方式所涉及的掩模構(gòu)件在第8?第10方式中的任一個方式所涉及的掩模構(gòu)件中，所述被檢測部是磁鐵。
[0025]第12方式所涉及的比色系統(tǒng)具備:第I?第7方式中的任一個方式所涉及的比色裝置；以及安裝于所述比色裝置的所述被安裝部的第8?第11方式中的任一個方式所涉及的掩模構(gòu)件。
[0026]發(fā)明的效果
[0027]通過第I?第7方式中的任一個方式所涉及的比色裝置，也能夠?qū)崿F(xiàn)與安裝于比色裝置的掩模構(gòu)件的種類相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)。
[0028]根據(jù)第2方式所涉及的比色裝置，不易產(chǎn)生不與掩模構(gòu)件的種類對應的錯誤的檢測狀態(tài)。
[0029]根據(jù)第3方式所涉及的比色裝置，不易產(chǎn)生掩模構(gòu)件的安裝未完成的狀態(tài)下的不與掩模構(gòu)件的種類對應的錯誤的檢測狀態(tài)。
[0030]根據(jù)第4方式所涉及的比色裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)與更多的種類的掩模構(gòu)件相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)。
[0031]根據(jù)第5方式所涉及的比色裝置，能夠容易且適當?shù)貙崿F(xiàn)與掩模構(gòu)件的種類相應的校正數(shù)據(jù)的變更。
[0032]根據(jù)第6方式所涉及的比色裝置，能夠適當?shù)嘏袆e安裝于比色裝置的掩模構(gòu)件的種類。
[0033]根據(jù)第7方式所涉及的比色裝置，即使在例如細小的粒子或液體等是比色對象物的情況下粒子或液體等雜質(zhì)進入被安裝部與掩模構(gòu)件之間，也能夠通過比色裝置的檢測部來穩(wěn)定地檢測出被檢測部。
[0034]通過第8?第11方式中的任一個方式所涉及的掩模構(gòu)件，也能夠在比色裝置中實現(xiàn)與安裝于比色裝置的掩模構(gòu)件的種類相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)。
[0035]根據(jù)第9方式所涉及的掩模構(gòu)件，在比色裝置中不易產(chǎn)生掩模構(gòu)件的安裝未完成的狀態(tài)下的不與掩模構(gòu)件的種類對應的錯誤的檢測狀態(tài)。
[0036]根據(jù)第10方式所涉及的掩模構(gòu)件，在比色裝置中能夠?qū)崿F(xiàn)與更多的種類的掩模構(gòu)件相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)。
[0037]根據(jù)第11方式所涉及的掩模構(gòu)件，即使在例如細小的粒子或液體等是比色對象物的情況下粒子或液體等雜質(zhì)進入被安裝部與掩模構(gòu)件之間，也能夠通過比色裝置的檢測部來穩(wěn)定地檢測出被檢測部。
[0038]根據(jù)第12方式所涉及的比色系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)與安裝于比色裝置的掩模構(gòu)件的種類相應的適當?shù)臋z測狀態(tài)。
【附圖說明】
[0039]圖1是例示一個實施方式所涉及的比色系統(tǒng)的外觀的立體圖。
[0040]圖2是用于說明比色系統(tǒng)的前端部附近的一個結(jié)構(gòu)例的圖。
[0041]圖3是用于說明比色系統(tǒng)的前端部附近的一個結(jié)構(gòu)例的圖。
[0042]圖4是用于說明比色系統(tǒng)的前端部附近的一個結(jié)構(gòu)例的圖。
[0043]圖5是表示相對于比色裝置能夠裝卸掩模構(gòu)件的情形的圖。
[0044]圖6是表示相對于比色裝置能夠裝卸掩模構(gòu)件的情形的圖。
[0045]圖7是表示相對于比色裝置能夠裝卸掩模構(gòu)件的情形的圖。
[0046]圖8是用于說明掩模檢測部的結(jié)構(gòu)的圖。
[0047]圖9是例示掩模構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的圖。
[0048]圖10是例示比色系統(tǒng)的功能性結(jié)構(gòu)的框圖。
[0049]圖11是表示參考例所涉及的比色系統(tǒng)中的掩模構(gòu)件的檢測方式的圖。
[0050]圖12是表示參考例所涉及的比色系統(tǒng)中的掩模構(gòu)件的檢測方式的圖。
[0051]圖13是例示裝配模式與檢測模式的關(guān)系的圖。
[0052]圖14是例示檢測模式與判別結(jié)果的關(guān)系的圖。
[0053]圖15是用于說明檢測部的配置條件的一例的圖。
[0054]圖16是用于說