1.垂直度檢測裝置，其特征在于，包括：
基座，包括基部、及垂直于所述基部的底壁所在平面的導軌；
滑座，設于所述導軌上并沿所述導軌垂直于所述基部的底壁所在平面滑動，所述滑座上設有檢測表；
平衡機構，所述平衡機構對所述滑座與導軌之間的兩個相對面產生使兩個相對面相斥或相吸的斥力或者吸附力，使所述滑座與導軌的兩個相對面各點之間處于均勻排斥或均勻吸附的狀態(tài)。
2.如權利要求1所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述滑座與所述導軌之間相對的兩個面分別是滑座的后壁面與所述導軌的前壁面，所述平衡機構包括開設于所述滑座的氣體通道，所述氣體通道包括至少一個進氣口、及多個出氣口，所述出氣口均勻設于所述滑座與所述導軌的前壁面相對的后壁面上；所述進氣口與外部的高壓氣體輸送管通連，高壓氣體從所述進氣口進入所述氣體通道后，從所述出氣口噴至所述導軌的前壁面，使所述滑座的后壁面與所述導軌的前壁面均勻相斥。
3.如權利要求1所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述滑座與所述導軌之間相對的兩個面分別是所述滑座的后壁面與所述導軌的前壁面，所述平衡機構包括嵌設于所述導軌的前壁面的第一磁鐵以及嵌設于所述滑座后壁面的第二磁鐵；當所述第一磁鐵和所述第二磁鐵為同性磁極相對設置時，所述第一磁鐵對所述第二磁鐵產生斥力，驅動所述滑座至其后壁面與所述導軌的前壁面相斥；而當所述第一磁鐵與所述第二磁鐵為異性磁極相對設置時，所述第一磁鐵對所述第二磁鐵產生吸附力，以將所述滑座的后壁面吸附于所述導軌的前壁面。
4.如權利要求2所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述氣體通道包括開設在所述滑座上的橫向主通道以及多條與所述主通道連通的垂向支通道，所述主通道通過所述進氣口與外部的所述高壓氣體輸送管通連，位于所述滑座后壁面的所述出氣口則與支通道通連，高壓氣體先從所述進氣口進入所述主通道，接著從所述主通道分流至多條所述支通道，最后由所述支通道經所述出氣口噴向所述導軌的前壁面。
5.如權利要求3所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述第一磁鐵和所述第二磁鐵由強磁鐵材料制成，所述第一磁鐵從所述導軌的前壁面的上部延伸至下部。
6.如權利要求1所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述基座采用大理石制成。
7.如權利要求1所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述基座呈三角形，其兩條相鄰的直角邊中，有一條直角邊形成所述基部，所述基部的底壁由支撐平臺支撐，另一條直角邊形成所述導軌。
8.如權利要求1至7中任意一項所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述導軌的左壁面和右壁面開設分別垂直于所述基部的底壁所在平面的左導滑槽和右導滑槽，所述滑座的后壁面的左右兩側有向后延伸的左側板和右側板，所述左側板和右側板分別與導軌的左壁面和右壁面相接觸且后端延伸至位于所述左導滑槽和所述右導滑槽的外側，所述左側板和所述右側板的后端分別設有可伸入左導滑槽和右導滑槽內的左折彎部和右折彎部。
9.如權利要求8所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述左折彎部和所述右折彎部與所述左導滑槽和所述右導滑槽之間為間隙或者過渡配合，當所述滑座的后壁面與所述導軌的前壁面相斥時，所述左折彎部和所述右折彎部的前壁面分別與所述左導滑槽和所述右導滑槽的相對壁面均勻相抵。
10.如權利要求9所述的垂直度檢測裝置，其特征在于：所述左折彎部和所述右折彎部與所述滑座的所述左側板和所述右側板為一體成型，或者通過螺釘結構可拆卸連接。