1.光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置，包括氦質(zhì)譜檢漏儀(1)、第一快接法蘭(3)、手動(dòng)真空擋板閥(2)、波紋管(4)、He氣注射噴槍(5)、底座(7)、密閉容器(8)和He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)；其特征是；
光學(xué)窗口組件(6)與底座(7)連接并置于密閉容器(8)內(nèi)，且所述光學(xué)窗口組件(6)與底座(7)之間設(shè)置有O型密封圈；所述氦質(zhì)譜檢漏儀(1)的出口處設(shè)置手動(dòng)真空擋板閥(2)；所述手動(dòng)真空擋板閥(2)通過第一快接法蘭(3)與波紋管(4)的一端連接，所述波紋管(4)的另一端通過第一快接法蘭(3)與底座(7)連接，所述He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)通過第二快接法蘭(10)與底座(7)連接，所述He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)設(shè)置有球閥，用于控制He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)的開放與關(guān)閉；He氣注射槍(5)用于向密閉容器(8)內(nèi)注射氦氣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置，其特征在于，所述He氣注射噴槍(5)噴射氦氣時(shí)壓力控制為1～3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置，其特征在于，He氣注射噴槍(5)的噴嘴與光學(xué)窗口組件(6)的距離小于6mm，He氣注射噴槍(5)的掃描速度小于8mm/s。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任意一項(xiàng)所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置的檢測(cè)方法，其特征是，該方法由以下步驟實(shí)現(xiàn)：
步驟一、啟動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀(1)，氦質(zhì)譜檢漏儀(1)進(jìn)入自檢狀態(tài)，待自檢結(jié)束后記錄氦質(zhì)譜檢漏儀(1)示數(shù)；
步驟二、打開He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)的球閥，He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)向光學(xué)窗口組件(6)充入He氣，待穩(wěn)定后讀出氦質(zhì)譜檢漏儀(1)示數(shù)；
步驟三、關(guān)閉He標(biāo)準(zhǔn)漏孔(9)球閥，采用He氣注射噴槍(5)向密閉容器(8)內(nèi)噴射氦氣，待穩(wěn)定后讀出氦質(zhì)譜檢漏儀(1)示數(shù)；采用下式進(jìn)行光學(xué)窗口組件漏率計(jì)算：
Q＝(I-I0)QS/(IS-I0)D；
式中：Q為光學(xué)窗口組件漏率，Qs為標(biāo)準(zhǔn)漏孔的漏率標(biāo)定值，I為噴射氦氣穩(wěn)定后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；I0為自檢結(jié)束后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；IS為標(biāo)準(zhǔn)漏孔打開穩(wěn)定后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；D為密閉容器內(nèi)氦氣的濃度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)方法，其特征在于，所述He氣注射噴槍(5)噴射氦氣時(shí)壓力控制為1～3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)方法，其特征在于，He氣注射噴槍(5)的噴嘴與光學(xué)窗口組件(6)的距離小于6mm，He氣注射噴槍(5)的掃描速度小于8mm/s。