本發(fā)明涉及光學(xué)窗口組件檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)：

光學(xué)窗口組件是空間環(huán)境模擬系統(tǒng)中的重要組成部件，它的密封性直接決定了空間環(huán)境模擬系統(tǒng)的性能，因此光學(xué)窗口組件裝配完成后有必要對(duì)其進(jìn)行漏率檢測(cè)。

目前，空間環(huán)境模擬系統(tǒng)的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)往往采用直接與空間環(huán)境模擬系統(tǒng)裝配進(jìn)行整體檢測(cè)的方法，這種方法具有如下缺點(diǎn)：

(1)光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)需要耗費(fèi)較大的人力和時(shí)間；

(2)光學(xué)窗口組件自身的漏率無(wú)法確定。

目前已有公開(kāi)文獻(xiàn)并沒(méi)有光學(xué)窗口組件檢漏的技術(shù)，因此，有必要研制一種新型的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明為解決現(xiàn)有光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)技術(shù)耗時(shí)費(fèi)力且無(wú)法確定光學(xué)窗口組件自身漏率等問(wèn)題，提供一種光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置。

光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置，包括氦質(zhì)譜檢漏儀、第一快接法蘭、手動(dòng)真空擋板閥、波紋管、He氣注射噴槍、底座、密閉容器和He標(biāo)準(zhǔn)漏孔；光學(xué)窗口組件與底座連接并置于密閉容器內(nèi)，且所述光學(xué)窗口組件與底座之間設(shè)置有O型密封圈；所述氦質(zhì)譜檢漏儀的出口處設(shè)置手動(dòng)真空擋板閥；所述手動(dòng)真空擋板閥通過(guò)第一快接法蘭與波紋管的一端連接，所述波紋管的另一端通過(guò)第一快接法蘭與底座連接，所述He標(biāo)準(zhǔn)漏孔通過(guò)第二快接法蘭與底座連接，所述He標(biāo)準(zhǔn)漏孔設(shè)置有球閥，用于控制He標(biāo)準(zhǔn)漏孔的開(kāi)放與關(guān)閉；He氣注射槍用于向密閉容器內(nèi)注射氦氣。

本發(fā)明的有益效果：

一、本發(fā)明所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便，大大縮短了檢測(cè)時(shí)間，減少了檢測(cè)所需耗費(fèi)的人力。

二、本發(fā)明所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置由于脫離了空間環(huán)境模擬系統(tǒng)，可以檢測(cè)出光學(xué)窗口組件自身的漏率。

三、本發(fā)明所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置由于采用了密閉容器，可以有效避免外界環(huán)境對(duì)檢測(cè)結(jié)果的干擾。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明所述的光學(xué)窗口組件檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)組成示意圖。

圖中：1、氦質(zhì)譜檢漏儀，2、手動(dòng)真空擋板閥，3、第一快接法蘭，4、波紋管，5、He氣注射噴槍，6、光學(xué)窗口組件，7、底座，8、密閉容器，9、He標(biāo)準(zhǔn)漏孔，10、第二快接法蘭。

具體實(shí)施方式

具體實(shí)施方式一、結(jié)合圖1說(shuō)明本實(shí)施方式，光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置，包括氦質(zhì)譜檢漏儀1、第一快接法蘭3、手動(dòng)真空擋板閥2、第二快接法蘭10、波紋管4、He氣注射噴槍5、光學(xué)窗口組件6、底座7、密閉容器8和He標(biāo)準(zhǔn)漏孔9；所述的光學(xué)窗口組件6與底座7通過(guò)連接螺釘相連，二者之間設(shè)置有O型密封圈；所述的氦質(zhì)譜檢漏儀出口處設(shè)有手動(dòng)真空擋板閥2；手動(dòng)真空擋板閥2通過(guò)第一快接法蘭3與波紋管4的一端連接，所述波紋管4的另一端通過(guò)第一快接法蘭3與底座7相連，所述的He標(biāo)準(zhǔn)漏孔9通過(guò)第二快接法蘭10與底座7直接連接，該He標(biāo)準(zhǔn)漏孔9設(shè)有球閥，可以控制He標(biāo)準(zhǔn)漏孔的開(kāi)放與關(guān)閉；上述組件連接安裝完成后置于密閉容器8內(nèi)，He氣注射槍5用于向密閉容器8內(nèi)注射氦氣。

具體實(shí)施方式二、本實(shí)施方式為具體實(shí)施方式一所述的光學(xué)窗口組件漏率檢測(cè)裝置的檢測(cè)方法，該方法具體由以下步驟實(shí)現(xiàn)：

漏率檢測(cè)時(shí)，啟動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀1，氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)入自檢狀態(tài)，待自檢結(jié)束后記錄氦質(zhì)譜檢漏儀示數(shù)，記為I₀。

打開(kāi)He標(biāo)準(zhǔn)漏孔9球閥，He標(biāo)準(zhǔn)漏孔逐漸向光學(xué)窗口組件充入He氣，待穩(wěn)定后讀出氦質(zhì)譜檢漏儀示數(shù)，記為I_s。

關(guān)閉He標(biāo)準(zhǔn)漏孔9球閥，采用He氣注射噴槍5向密閉容器8內(nèi)噴射氦氣，待穩(wěn)定后讀出氦質(zhì)譜檢漏儀示數(shù)，記為I。噴射氦氣時(shí)壓力一般控制為1～3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，噴槍嘴與被檢光學(xué)窗口組件的距離應(yīng)小于6mm，噴槍的掃描速度一般小于8mm/s。

各項(xiàng)指標(biāo)測(cè)試結(jié)束后，按如下公式進(jìn)行光學(xué)窗口組件漏率計(jì)算：

Q＝(I-I₀)Q_S/(I_S-I₀)D

式中：

Q—被檢光學(xué)窗口組件漏率；

Q_s—標(biāo)準(zhǔn)漏孔的漏率標(biāo)定值；

I—噴射氦氣穩(wěn)定后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；

I₀—自檢結(jié)束后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；

I_S—標(biāo)準(zhǔn)漏孔打開(kāi)穩(wěn)定后，氦質(zhì)譜檢漏儀的示數(shù)；

D—密閉容器內(nèi)氦氣的濃度，計(jì)算時(shí)近似按50％處理。

以上為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但絕非對(duì)本發(fā)明的限制，任何在本發(fā)明保護(hù)范圍內(nèi)做的改進(jìn)或等效替換均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。