技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
用于評估制造的光學(xué)器件的功率分布和所制造的光學(xué)器件的功率分布所基于的標(biāo)稱功率分布之間的相似度的方法。該方法包括測量制造的光學(xué)器件的功率分布；從制造的光學(xué)器件的測量的功率分布中確認(rèn)相關(guān)區(qū)域；以及對所測量的功率分布施加偏移量，以使統(tǒng)計量詞實質(zhì)上最小化，從而量化該標(biāo)稱功率分布和偏移的測量的功率分布之間的相似度。該方法進一步包括將該偏移量和該統(tǒng)計量詞與預(yù)定的質(zhì)量控制度量進行比較；至少部分地基于該比較來確定所測量的功率分布是否滿足該預(yù)定的質(zhì)量控制度量。在示例性實施方式中，該方法可以進一步包括：如果所測量的功率分布沒有滿足該預(yù)定的質(zhì)量控制度量，則確定是否將所制造的光學(xué)器件與另一標(biāo)稱功率分布相關(guān)聯(lián)。

技術(shù)研發(fā)人員：F·康拉德;拉維·錢德拉·巴卡拉朱;克勞斯·艾爾曼
受保護的技術(shù)使用者：華柏恩視覺研究中心
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.11
技術(shù)公布日：2017.08.29