相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求2014年11月11日提交的美國臨時申請?zhí)?2/078,310的優(yōu)先權(quán)。本申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。

本申請還涉及2013年10月4日提交的美國申請?zhí)?4/046,356；2013年4月5日提交的美國申請?zhí)?3/857,613；2013年4月5日提交的國際申請?zhí)杙ct/au2013/000354；2013年4月5日提交的澳大利亞申請?zhí)?013202664；以及2012年10月17日提交的澳大利亞申請?zhí)?012904541。這些申請中每一個的全部內(nèi)容通過引用并入本文。

本披露涉及用于確定制造的光學(xué)器件上功率分布和/或表面輪廓的質(zhì)量的系統(tǒng)和方法。此外，本披露還涉及通過使用制造的光學(xué)器件的參數(shù)描述符來分析和比較所制造的光學(xué)器件的復(fù)雜功率分布和/或復(fù)雜表面輪廓與標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓，而確定所制造的光學(xué)器件上的該功率分布和/或表面輪廓的質(zhì)量。

發(fā)明背景

通常，制造的光學(xué)器件(如隱形眼鏡)的功率分布已經(jīng)相對簡單。例如，該功率分布可以是球面或線性函數(shù)。在這種情況下，制造技術(shù)能夠在制造的器件中復(fù)制所期望的(標(biāo)稱)功率分布。由于該功率分布相對簡單，有時并不需要測試所制造的器件來確定該器件的功率分布是否與該標(biāo)稱功率分布足夠接近。

如果需要進(jìn)行測試，要確定所制造的光學(xué)器件是否與該標(biāo)稱功率分布足夠接近通常也是很簡單的。例如，該測試可以包括使用焦度計對光學(xué)功率進(jìn)行驗(yàn)證。

然而，功率分布正變得愈加復(fù)雜。例如，較復(fù)雜的功率分布可以包括變化增加、多個峰值、多級(例如，初級、二級和三級)球面像差模式。具有這些較復(fù)雜特征的光學(xué)器件的制造可能更復(fù)雜，這使得對該器件的測試更加相關(guān)。然而，用于具有較簡單功率分布的光學(xué)器件的簡單測試程序?qū)τ诰哂休^復(fù)雜功率分布的光學(xué)器件來說，可能是不可接受的。用于相對簡單的光學(xué)器件的典型測試程序包括選擇幾個光學(xué)器件并離線測試，以確保該批次產(chǎn)品是可接受的。這些程序還可以包括在特定制造運(yùn)行期間對光學(xué)器件進(jìn)行采樣，并離線測試所采樣的產(chǎn)品，以確保該器件的質(zhì)量不會生變。對于較復(fù)雜的功率分布，這些程序可能是不可接受的。此外，通常用于制造光學(xué)器件的高速生產(chǎn)線使得該光學(xué)器件的實(shí)時測試更難了。

因此，人們期望有這樣的系統(tǒng)和方法，其能夠確定這些制造的功率分布較復(fù)雜的光學(xué)器件的質(zhì)量。在示例性實(shí)施方式中，可能期望基本上實(shí)時地和/或在高速生產(chǎn)線上進(jìn)行質(zhì)量確定。如將在本文的討論中變得顯而易見的，本披露旨在克服和/或改善現(xiàn)有技術(shù)的至少一個或多個缺點(diǎn)。如本文所討論的，本披露還提供了其他優(yōu)點(diǎn)和/或改進(jìn)。

發(fā)明概述

示例性實(shí)施方式可以提供一種用于評估制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔的功率分布和/或表面輪廓與制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔的該功率分布和/或該表面輪廓所基于的相應(yīng)的標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓之間的相似度的方法，該方法包括：測量制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔的該功率分布和/或表面輪廓；從制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔的所測量的功率分布和/或所測量的表面輪廓中確認(rèn)一個或多個相關(guān)區(qū)域；確定相對于所測量的功率分布和/或所測量的表面輪廓的至少一個偏移量，以使統(tǒng)計量詞(statisticalquantifier)實(shí)質(zhì)上最小化，該統(tǒng)計量詞用于量化該標(biāo)稱功率分布和/或該標(biāo)稱表面輪廓和偏移的測量的功率分布和/或偏移的測量的表面輪廓之間的相似度；將該偏移量和該統(tǒng)計量詞與預(yù)定的質(zhì)量控制度量進(jìn)行比較；至少部分地基于該比較來確定所測量的功率分布和/或所測量的表面輪廓是否滿足該預(yù)定的質(zhì)量控制度量。

在示例性實(shí)施方式中，該方法可以進(jìn)一步包括：如果所測量的功率分布和/或所測量的表面輪廓沒有滿足該預(yù)定的質(zhì)量控制度量，則確定是否將所制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔與另一標(biāo)稱功率分布、功率和/或另一標(biāo)稱表面輪廓相關(guān)聯(lián)。

在示例性實(shí)施方式中，該方法可以進(jìn)一步包括將比例因子應(yīng)用于該偏移的測量的功率分布和/或偏移的測量的表面輪廓，以使統(tǒng)計量詞實(shí)質(zhì)上最小化，該統(tǒng)計量詞用于量化該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓與縮放和偏移的測量的功率分布和/或縮放和偏移的測量的表面輪廓的相似度；以及將該比例因子、偏移量和該統(tǒng)計量詞與預(yù)定的質(zhì)量控制度量進(jìn)行比較。

在示例性實(shí)施方式中，該方法可以進(jìn)一步包括將非球面度(或斜率校正)應(yīng)用于該縮放和偏移的測量的功率分布和/或縮放和偏移的測量的表面輪廓，以使統(tǒng)計量詞實(shí)質(zhì)上最小化，該統(tǒng)計量詞用于量化該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓與該縮放和偏移的測量的功率分布和/或縮放和偏移的測量的功率分布之間的相似度；以及將旋光度、比例因子、偏移量和該統(tǒng)計量詞與預(yù)定的質(zhì)量控制度量進(jìn)行比較。

在示例性實(shí)施方式中，該統(tǒng)計量詞可以是在該相關(guān)區(qū)域上所算得的平方差之和。在示例性實(shí)施方式中，該統(tǒng)計量詞可以是絕對差之和除以定義該相關(guān)區(qū)域的點(diǎn)的總數(shù)，其提供了絕對差的平均和。在示例性實(shí)施方式中，該統(tǒng)計量詞可以是通過從該標(biāo)稱功率分布中減去所測量的功率分布而獲得的曲線下的面積。

在示例性實(shí)施方式中，該方法可以在所制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔的制造過程期間執(zhí)行。

在示例性實(shí)施方式中，該方法可以基本上實(shí)時地執(zhí)行。

在示例性實(shí)施方式中，所制造的光學(xué)器件、模具和/或空腔可以在高速生產(chǎn)線(例如，每分鐘能夠生產(chǎn)15、20、25、30、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95或100個光學(xué)器件的生產(chǎn)線)上制造。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以具有顯著量的變化。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以包括階梯輪廓、方形輪廓和/或三角形輪廓。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以沿著半弦，具有多個峰和/或谷。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以沿著半弦，具有至少2、3、4、5、6、7、8、9或10個峰和/或谷。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以具有至少兩個球面像差項(xiàng)。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以具有至少兩個球面像差項(xiàng)和散焦項(xiàng)。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以具有至少三個球面像差項(xiàng)。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以具有至少4、5、6、7或8個球面像差項(xiàng)。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓可以是非單調(diào)的。

根據(jù)以下結(jié)合附圖的說明，其他方面、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見，該附圖是本披露的一部分并且以舉例的方式，說明了本文披露的實(shí)施方式的原理。

附圖說明

盡管有可能落入本文所闡述的本披露的范圍內(nèi)的其他形式，現(xiàn)在將通過示例并參考附圖來描述具體的實(shí)施方式，其中：

圖1是標(biāo)稱功率分布和所得的針對制造的光學(xué)器件的功率分布的示例性說明；

圖2是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所選擇的相關(guān)區(qū)域?yàn)?.5mm至3.5mm；

圖3是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所測量的分布具有0.75屈光度(d)偏移量；

圖4是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所測量的分布具有0.75屈光度偏移量并且按1.09縮放；

圖5是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所測量的分布具有0.75屈光度偏移量，按1.09縮放，并且應(yīng)用-0.65屈光度的非球面度；

圖6是用于確定所制造的光學(xué)器件是否滿足預(yù)定的質(zhì)量控制度量的過程的示例性流程圖；

圖7a-7c是示例性功率分布，當(dāng)該術(shù)語在本文使用時，其通常被認(rèn)為是簡單的功率分布；以及

圖8a-8w是示例性功率分布，當(dāng)該術(shù)語在本文使用時，其通常被認(rèn)為是復(fù)雜的功率分布。

發(fā)明詳述

諸如隱形眼鏡之類的制造的光學(xué)器件可以包括描述不同位置處該器件的校正功率的功率分布和/或表面輪廓。通常，對該功率分布和/或表面輪廓進(jìn)行設(shè)計/選擇，并且使制造的光學(xué)器件(例如，隱形眼鏡、眼內(nèi)鏡片)包含所期望的(標(biāo)稱)功率分布和/或復(fù)雜的表面輪廓。在某些情況下，制造過程可以包含模具/空腔的生產(chǎn)，然后將該模具/空腔用于制造具有所期望的(標(biāo)稱)功率分布和/或表面輪廓的光學(xué)器件。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將容易理解的是，所制造的光學(xué)器件的功率分布和/或表面輪廓不太可能與該標(biāo)稱功率分布和/或標(biāo)稱表面輪廓相同。這可能是與該制造過程有關(guān)的各種因素導(dǎo)致。例如，在某些情況下，制造設(shè)備可能不夠精確和/或該功率分布和/或表面輪廓可能比該設(shè)備在一致和/或可靠的基礎(chǔ)上所能夠處理的更加復(fù)雜。

本文的說明通常討論所制造的光學(xué)器件的功率分布，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)普遍理解的是，也可以應(yīng)用等效和/或基本上等效的方法和系統(tǒng)來確定制造的光學(xué)器件的表面輪廓的質(zhì)量。

雖然所制造的光學(xué)器件的功率分布有變化是可接受的，但是通常不期望有太大的變化。在某些實(shí)施方式中，該標(biāo)稱功率分布越復(fù)雜，愈加不能容忍有變化。圖7和圖8示出了相對簡單的功率分布和較為復(fù)雜的功率分布之間的一些差異。因此，對所制造的器件的功率分布進(jìn)行測試以確定其是否在該標(biāo)稱功率分布的可接受的變化范圍內(nèi)是可取的。

雖然本文的說明通常討論所制造的光學(xué)器件的功率分布，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)普遍理解的是，也可以將等效和/或基本上等效的方法和系統(tǒng)應(yīng)用于制造的模具和/或空腔，例如用于制造光學(xué)器件的模具和/或空腔。

在示例性實(shí)施方式中，對所制造的光學(xué)器件的功率分布的測試可以通過測量所制造的器件的功率分布并將在相關(guān)區(qū)域中所測量的功率分布與該標(biāo)稱功率分布比較來進(jìn)行。在示例性實(shí)施方式中，這兩個功率分布的比較可以包含使用所測量的功率分布的參數(shù)描述符。在示例性實(shí)施方式中，該參數(shù)描述符可以用來使該標(biāo)稱功率分布和該測量的功率分布之間的差異的統(tǒng)計量詞最小化(或使其至少減小或?qū)嵸|(zhì)上減小)。在示例性實(shí)施方式中，該統(tǒng)計量詞可以是在相關(guān)區(qū)域中，該測量的功率分布和該標(biāo)稱功率分布之間的該平方差之和。該參數(shù)描述符的一個或多個可以與該統(tǒng)計量詞組合使用來確定所制造的光學(xué)器件是否符合某些預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)。

圖1是標(biāo)稱功率分布和所得的針對制造的光學(xué)器件的功率分布的示例性說明。從圖示可以看出，所制造的光學(xué)器件的該測量的功率分布與該標(biāo)稱功率分布并不相同。本文描述的示例性實(shí)施方式包含用于確定該測量的功率分布與該標(biāo)稱功率分布是否足夠接近以符合為所制造的產(chǎn)品建立的質(zhì)量控制指南的方法和系統(tǒng)。在示例性實(shí)施方式中，如果該測量的功率分布不符合該質(zhì)量控制指南，則所制造的光學(xué)器件可能會在質(zhì)量控制過程中不合格并被丟棄或可能被重新分類。在示例性實(shí)施方式中，可以選取根本原因分析/細(xì)節(jié)情況以了解該測量的分布之所以不合格的原因以及要解決問題可能需要做的事情。

為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，在示例性實(shí)施方式中，初始步驟可以是測量所制造的光學(xué)器件的功率分布。該功率分布可以以各種方式進(jìn)行測量。例如，可以使用市售功率映射儀器，其基于，例如相移施利倫(schlieren)方法、shackhartmann波前傳感器、疊層成像(ptychography)或其他合適的市售或定制的功率映射技術(shù)。也可以使用這些儀器的組合。

示例性的測量的分布在圖1中示出。在測量該功率分布后，下一步是選擇一個或多個相關(guān)區(qū)域，以將所測量的功率分布與該標(biāo)稱功率分布進(jìn)行比較。圖2是圖1所示的功率分布的圖示，其中所選擇的相關(guān)區(qū)域在半弦上為0.5mm至3.5mm。盡管圖2中所示的實(shí)例示出了該相關(guān)區(qū)域?yàn)?.5mm至3.5mm(半弦)，但是，在示例性實(shí)施方式中，該相關(guān)區(qū)域可以是整個半弦或任何其他相關(guān)區(qū)域。例如，該相關(guān)區(qū)域可以是0-3.5mm、0-3mm、0-2.5mm、0-2mm、0-1.5mm、0-1mm、0-0.5mm、0.5-3.5mm、0.5-3mm、0.5-2.5mm、0.5-2mm、0.5-1.5mm、0.5-1mm、1-3.5mm、1-3mm、1-2.5mm、1-2mm、1-1.5mm、1.5-3.5mm、1.5-3mm、1.5-2.5mm、1.5-2mm、2-3.5mm、2-3mm、2-2.5mm、2.5-3.5mm、2.5-3mm或3-3.5mm。

在選擇該相關(guān)區(qū)域之后，可以對所測量的功率分布進(jìn)行調(diào)整，并且可以測量該平方差之和。在示例性實(shí)施方式中，也可以利用其他統(tǒng)計量詞(如普氏距離)。例如，圖3是具有0.75屈光度偏移的所測量的輪廓的示例性說明。在示例性實(shí)施方式中，該偏移量可以選擇以使該平方差之和最小化(或至少大致最小化)。在示例性實(shí)施方式中，選擇偏移量的過程可以是迭代的。換句話說，可以選擇偏移量，然后可以計算所得的該平方差之和。該過程可以迭代，直到確定該平方差之和的最小值。在示例性實(shí)施方式中，該偏移量可以是針對整個相關(guān)區(qū)域的單個偏移量，以及可以計算多個測量點(diǎn)處的該平方差之和。

在應(yīng)用該偏移量之后，可以對所測量的分布做進(jìn)一步的調(diào)整，以及可以計算所得的該平方差之和。例如，圖4是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所測量的分布具有0.75屈光度偏移量并且沿著半弦軸按1.09縮放。在示例性實(shí)施方式中，可以選擇比例以使該平方差之和最小化(或至少大致最小化)。在示例性實(shí)施方式中，選擇比例因子的過程可以是迭代的。換句話說，可以選擇比例，然后可以計算所得的該平方差之和。該過程可以迭代，直到確認(rèn)該平方差之和的最小值。在示例性實(shí)施方式中，比例可以是針對整個相關(guān)區(qū)域的單個偏移量，以及可以計算多個測量點(diǎn)處的該平方差之和。雖然縮放的施加被示為在施加了偏移量之后，但是替代性的命令也是可以接受的，并且可以使用不同的參數(shù)組合。在示例性實(shí)施方式中，該偏移量也可以沿著半弦。在示例性實(shí)施方式中，該偏移量可以是橫向移位的偏移量。

在施加了該偏移量和縮放之后，可以對所測量的分布做進(jìn)一步的調(diào)整。例如，圖5是圖1所示的功率分布的示例性說明，其中所測量的分布具有0.75屈光度偏移量，按1.09縮放，并且應(yīng)用了-0.65屈光度的非球面度。在示例性實(shí)施方式中，該非球面度(或斜率校正)可以通過將二次函數(shù)擬合到差分分布(標(biāo)稱功率分布-測量的功率分布)來計算。如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以容易地理解的，由于材料在水合期間的各向異性膨脹行為，非球面度可能被引入隱形眼鏡。

在獲得所期望的參數(shù)，以及相關(guān)聯(lián)的統(tǒng)計量詞之后，可以利用該參數(shù)和統(tǒng)計量詞的各種組合來確定所制造的光學(xué)產(chǎn)品是否通過質(zhì)量控制檢查。在示例性實(shí)施方式中，如果所制造的光學(xué)產(chǎn)品沒有通過該質(zhì)量控制檢查，則該產(chǎn)品可以被丟棄或重新分類。例如，在示例性實(shí)施方式中，該偏移量和相應(yīng)的該平方差之和可以用于確定所制造的光學(xué)器件是否滿足預(yù)定的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)可以以如下方式進(jìn)行量化：如果該偏移量小于0.25屈光度以及相應(yīng)的該平方差之和小于4d²，則該器件通過了該標(biāo)準(zhǔn)。觀察圖3中所測量的功率分布，該偏移量為0.75屈光度。因此，即使該平方差之和小于4d²，該器件也不會通過該質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，因此鏡片可能被丟棄。替代性地，該鏡片可以被重新分類。在這種情況下，可能存在該產(chǎn)品可能足夠接近的另一種所期望的標(biāo)稱功率分布。在這種情況下，該偏移量的標(biāo)準(zhǔn)可以是：如果該偏移量大于0.25屈光度，則該產(chǎn)品不合格，但如果該偏移量為0.75-1.25屈光度，則重新分類。在圖3中的功率分布的情況下，該器件可以被重新分類，因?yàn)樗c另一種所期望的分布足夠接近。

在示例性實(shí)施方式中，可以利用該偏移、該比例、該非球面度(或斜率校正)和相應(yīng)的統(tǒng)計量詞(例如該平方差之和)的各種組合來確定所制造的光學(xué)器件是否滿足某些預(yù)定的質(zhì)量控制要求。

在示例性實(shí)施方式中，不符合要求的器件可以在制造的質(zhì)量控制階段不合格；或者可以被重新分類為替代產(chǎn)品。在示例性實(shí)施方式中，該方法可以向所制造的光學(xué)器件分配標(biāo)記功率(如屈光度)。例如，如果該器件不符合該質(zhì)量控制階段的要求，該方法則可以分配標(biāo)記功率或重新分配標(biāo)記功率。

在示例性實(shí)施方式中，該質(zhì)量控制過程可以在所制造的光學(xué)產(chǎn)品的制造過程期間實(shí)施。在示例性實(shí)施方式中，所有制造的光學(xué)產(chǎn)品可以在制造之后或在制造過程的某個階段進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，所制造的光學(xué)產(chǎn)品的大部分可以在制造之后或在制造過程中的某個階段進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，所制造的光學(xué)產(chǎn)品的一部分可以在制造之后或在制造過程中的某個階段進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，1000個中至少1個、500個中至少1個、250個中至少1個、100個中至少1個可以在制造之后或在制造過程中的某個階段進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，可以交替測試該產(chǎn)品。在示例性實(shí)施方式中，該產(chǎn)品可以以隨機(jī)(或偽隨機(jī))方式進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，約5個鏡片中的1個可以進(jìn)行測試。例如，2個中至少1個、3個中至少1個、4個中至少1個、5個中至少1個、6個中至少1個、7個中至少1個、8個中至少1個、9個中至少1個或10個中至少1個鏡片可以進(jìn)行測試。在示例性實(shí)施方式中，該質(zhì)量控制過程可以實(shí)時或基本實(shí)時地或其他實(shí)施該質(zhì)量控制過程的合適時間發(fā)生。在示例性實(shí)施方式中，單個鏡片可以基本上實(shí)時地進(jìn)行檢查。

此外，該光學(xué)產(chǎn)品可以在高速生產(chǎn)線(例如，每分鐘能夠生產(chǎn)15、20、25、30、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95或100個光學(xué)器件的生產(chǎn)線)上制造。在這種情況下，該測試可以基本上實(shí)時地執(zhí)行，而不會顯著影響該生產(chǎn)線的速度，也可以不執(zhí)行。例如，在制造的情況下，增加本文所述的測試程序可能會使該生產(chǎn)線的輸出量減少了不到1％、2％、3％、4％、5％、10％或15％等。

圖6是用于確定所制造的光學(xué)器件是否滿足了預(yù)定的質(zhì)量控制度量的過程的示例性流程圖。在示例性實(shí)施方式中，可以使用lambda-xnimotr1504來測量所制造的光學(xué)器件。測量后，可將分布加載到比較系統(tǒng)中。該系統(tǒng)可以執(zhí)行初始檢查以確定所測量的分布是否有效。如果該系統(tǒng)確定該分布有效，則選擇所測量的分布并將其與標(biāo)稱功率分布進(jìn)行比較。在比較之后，該系統(tǒng)確定所測量的分布是否與該標(biāo)稱分布足夠相似(例如，在一定的公差內(nèi))以滿足所定義的質(zhì)量參數(shù)。如果沒有滿足該質(zhì)量控制標(biāo)準(zhǔn)，該過程則審核設(shè)計和功率是否設(shè)置正確。如果是，所制造的器件則沒有通過質(zhì)量檢查。如果該參數(shù)不正確，則重新設(shè)置并重新進(jìn)行比較。如果所制造的光學(xué)器件確實(shí)符合該質(zhì)量控制標(biāo)準(zhǔn)，則通過該質(zhì)量檢查。

在示例性實(shí)施方式中，該系統(tǒng)可以包括被編程為使用matlab或類似軟件來執(zhí)行本文所描述的比較的處理器。在示例性實(shí)施方式中，用戶界面可以是圖形用戶界面。

在示例性實(shí)施方式中，該系統(tǒng)可以將來自lambda-xnimo儀器的測量值與針對鏡片輪廓的標(biāo)稱光功率分布進(jìn)行比較，以及確定該測量值是否在標(biāo)稱值的公差內(nèi)，從而報告合格/不合格結(jié)果以及標(biāo)記功率。

如本文所討論的，在示例性實(shí)施方式中，用于質(zhì)量控制的標(biāo)準(zhǔn)可以是所測量的分布和標(biāo)稱分布之間的平方差之和(ssd)(例如，如果ssd大于25d²、20d²、15d²、10d²、或5d²)。該標(biāo)準(zhǔn)可以通過將ssd結(jié)果除以求和點(diǎn)數(shù)來使其獨(dú)立于一個或多個所選擇的相關(guān)區(qū)域來修改。替代性地，可以計算一個或多個該相關(guān)區(qū)域上的所測量的分布和標(biāo)稱分布之間的面積。然后可以將該面積除以沿著一個或多個所選擇的區(qū)域的直徑的總距離以獲得單位為度數(shù)的平均誤差。對于這些實(shí)施方式中的任一個，可以應(yīng)用，例如對于沿直徑范圍的某些區(qū)域給予更多權(quán)重的權(quán)重因子。在示例性實(shí)施方式中，該系統(tǒng)還可以返回與該標(biāo)稱功率分布相比的所測量的功率分布之內(nèi)，比例(例如，當(dāng)與該標(biāo)稱分布相比時，沿著所測量的分布的直徑進(jìn)行的拉伸或收縮或偏移)、非球面度(或斜率校正)(如所測量的分布和標(biāo)稱分布之間的線性(傾斜)或橢圓誤差)和/或峰谷比數(shù)據(jù)的適當(dāng)組合的度量。在示例性實(shí)施方式中，可以確定等間距(如0.005、0.0075、0.01、0.015或0.02mm)采樣點(diǎn)處的度量。

在示例性實(shí)施方式中，該度量/變量可以包括下表中的度量的組合。

在示例性實(shí)施方式中，該度量/變量可以包括下表中的度量的組合。

在示例性實(shí)施方式中，用戶也許不能改變比較計算。然而，比較中的某些參數(shù)可以由該用戶來配置。例如，在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)記功率可以從該標(biāo)稱功率或目標(biāo)功率調(diào)整±0.10、0.20、0.25、0.30、0.40或0.50d。

在示例性實(shí)施方式中，該標(biāo)稱光功率分布可以被硬編碼到該系統(tǒng)中或者該系統(tǒng)能夠接受由用戶提供的簡檔。

雖然本文所述的示例性實(shí)施方式通常描述了具有某種形式的旋轉(zhuǎn)對稱性(其允許將整個光學(xué)區(qū)域內(nèi)的功率分布減小到一維功率圖)的功率分布，但是光學(xué)器件(隱形眼鏡)可能不是旋轉(zhuǎn)對稱的。本文所述的系統(tǒng)、方法和器件仍然適用。例如，隱形眼鏡的前表面或后表面可以是復(fù)曲面形狀，從而使得基礎(chǔ)功率在不同假想線之間變化，如圖8s所示。其他更復(fù)雜的變化也可以想象。該系統(tǒng)、方法和器件的基本概念仍然可以應(yīng)用(例如，我們將分別分析相關(guān)的不同假想線，然后結(jié)合得出整體結(jié)果)。

在示例性實(shí)施方式中，該系統(tǒng)可以被配置為在5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24或25秒內(nèi)提供該合格/不合格結(jié)果和/或該標(biāo)記功率。在示例性實(shí)施方式中，該系統(tǒng)可以被配置為在50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、180、190、200、210、220、230、240、250、300、350、400、450或500毫秒內(nèi)提供該合格/不合格結(jié)果和/或該標(biāo)記功率。

雖然本文已經(jīng)示出和描述了一些實(shí)施方式，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，這些實(shí)施方式僅以示例的方式提供。意圖在于，以下權(quán)利要求限定本發(fā)明的范圍，并且特此涵蓋在這些權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)的方法和結(jié)構(gòu)。