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一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈的制作方法

文檔序號:12938882閱讀:319來源:國知局
一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈的制作方法與工藝

本實用新型涉及一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈,屬于機械工程領(lǐng)域。



背景技術(shù):

密封圈是由一個或幾個零件組成的環(huán)形罩,固定在軸承的一個套圈或墊圈上并與另一套圈或墊圈接觸或形成窄的迷宮間隙,防止?jié)櫥吐┏黾巴馕锴秩?。密封圈現(xiàn)在不僅僅用在工業(yè)領(lǐng)域,在其他領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用,其廣泛的應(yīng)用在兩個往返運動或靜止的物體之間的密封過程中。

密封圈在對物體進行密封時,當(dāng)被密封物體發(fā)生傾斜或運動等狀況下,其密封性能會比正常狀態(tài)大大降低甚至失去密封性能,而且一般無法承受高壓狀態(tài)。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型要解決的技術(shù)問題是針對以上不足,提供一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈,具有被密封物發(fā)生運動時能夠保持良好的密封性、被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時仍可保持良好的密封性和具有很好的抗壓性能的優(yōu)點。

為解決以上技術(shù)問題,本實用新型采用以下技術(shù)方案:

一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈,包括第一密封環(huán),所述第一密封環(huán)包括上環(huán)體和下環(huán)體;

所述上環(huán)體上設(shè)有若干條第一溝槽;

所述第一溝槽的槽底呈波狀;

所述第一溝槽的槽底處設(shè)有若干個凹陷和若干個凸起;

所述凹陷呈圓弧狀;

所述凸起呈圓弧狀;

所述凹陷的弧形成的圓的半徑小于凸起的弧形成的圓的半徑;

所述相鄰的凹陷和凸起的弧形成的圓相切;

所述下環(huán)體上設(shè)有第二溝槽,第二溝槽呈波形環(huán)狀;

所述第二溝槽的截面形狀為長方形;

所述第二溝槽上設(shè)有三個遠點和三個近點;

所述遠點設(shè)在遠離下環(huán)體軸線的一端;

所述近點設(shè)在靠近下環(huán)體軸線的一端;

所述遠點和距離最遠的近點沿下環(huán)體的軸線對稱分布。

以下是對上述方案的進一步優(yōu)化:

所述若干條第一溝槽均勻分布在上環(huán)體的外表面;

所述第一溝槽為環(huán)形槽;

所述第一溝槽的截面呈長方形;

所述第一溝槽的軸線與上環(huán)體的軸線重合;

所述上環(huán)體的外部套接有第二密封環(huán);

所述第二密封環(huán)的外徑與下環(huán)體的外徑相等;

所述第二密封環(huán)的外徑大于上環(huán)體的外徑。

所述第二密封環(huán)的內(nèi)表面上設(shè)有若干組定位裝置;

所述若干組定位裝置與若干條第一溝槽一一對應(yīng);

所述定位裝置包括四個第一定位塊;

所述四個第一定位塊呈十字狀分布;

所述第一定位塊的形狀為半橢圓球;

所述第一定位塊的短軸長度與第一溝槽的槽寬相等;

所述第一定位塊的長度與凹陷處的槽深相等。

所述第二密封環(huán)的下表面上設(shè)有兩個第二定位塊;

所述兩個第二定位塊沿第二密封環(huán)的軸線對稱分布;

所述第二定位塊的形狀為半橢圓形;

所述第二定位塊插入到第二溝槽中;

所述第二定位塊的長度與第二溝槽的槽深相等。

本實用新型的創(chuàng)新點及意義為:本實用新型裝置可用于對物體的密封,尤其是對被密封物發(fā)生運動時能夠保持良好的密封性,密封性能提高70%以上;在被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時仍可保持良好的密封性;具有很好的抗壓性能,抗壓性能提高20%以上。

下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進行詳細說明。

附圖說明

附圖1是本實用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

附圖2是附圖1的A-A剖視圖;

附圖3是第一密封環(huán)沿第一溝槽的槽底所在平面為截面的剖視圖;

圖中,

1-第一密封環(huán),2-第二密封環(huán),3-下環(huán)體,4-上環(huán)體,5-第一溝槽,6-第一定位塊,7-凹陷,8-凸起,9-第二溝槽,10-遠點,11-近點,12-第二定位塊。

具體實施方式

實施例,如附圖1、附圖2、附圖3所示,一種運動時穩(wěn)定性能不變的密封圈,包括第一密封環(huán)1,第一密封環(huán)1包括下環(huán)體3和上環(huán)體4;

下環(huán)體3的外徑大于上環(huán)體4的外徑;

上環(huán)體4的外部套接有第二密封環(huán)2;

第二密封環(huán)2的外徑與下環(huán)體3的外徑相等。

上環(huán)體4上設(shè)有若干條第一溝槽5;

若干條第一溝槽5均勻分布在上環(huán)體4的外表面;

第一溝槽5為環(huán)形槽;

第一溝槽5的軸線與上環(huán)體4的軸線重合;

第一溝槽5的截面呈長方形;

第一溝槽5的槽底呈波狀;

第一溝槽5的槽底處設(shè)有若干個凹陷7和若干個凸起8;

凹陷7和凸起8的數(shù)量相等;

凹陷7呈圓弧狀;

凸起8呈圓弧狀;

凹陷7的弧形成的圓的半徑小于凸起8的弧形成的圓的半徑;

相鄰的凹陷7和凸起8的弧形成的圓相切。

下環(huán)體3上設(shè)有第二溝槽9,第二溝槽9呈波形環(huán)狀;

第二溝槽9的截面形狀為長方形;

第二溝槽9上設(shè)有三個遠點10和三個近點11;

遠點10設(shè)在遠離下環(huán)體3軸線的一端;

近點11設(shè)在靠近下環(huán)體3軸線的一端;

遠點10和距離最遠的近點11沿下環(huán)體3的軸線對稱分布。

第二密封環(huán)2的內(nèi)表面上設(shè)有若干組定位裝置;

若干組定位裝置與若干條第一溝槽5一一對應(yīng);

定位裝置包括四個第一定位塊6;

四個第一定位塊6呈十字狀分布;

第一定位塊6的形狀為半橢圓球;

第一定位塊6的短軸長度與第一溝槽5的槽寬相等;

第一定位塊6的長度與凹陷7處的槽深相等。

第二密封環(huán)2的下表面上設(shè)有兩個第二定位塊12;

兩個第二定位塊12沿第二密封環(huán)2的軸線對稱分布;

第二定位塊12的形狀為半橢圓形;

第二定位塊12插入到第二溝槽9中;

第二定位塊12的長度與第二溝槽9的槽深相等。

本實用新型裝置可用于對物體的密封,尤其是對被密封物發(fā)生運動時能夠保持良好的密封性,密封性能提高70%以上;在被密封物發(fā)生傾斜等現(xiàn)象時仍可保持良好的密封性;具有很好的抗壓性能,抗壓性能提高20%以上。

以上所述為本實用新型最佳實施方式的舉例,其中未詳細述及的部分均為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員的公知常識。本實用新型的保護范圍以權(quán)利要求的內(nèi)容為準,任何基于本實用新型的技術(shù)啟示而進行的等效變換,也在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。

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