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一種制氫用氫氧分離設(shè)備的制作方法

文檔序號:40464010發(fā)布日期:2024-12-27 09:29閱讀:12來源:國知局
一種制氫用氫氧分離設(shè)備的制作方法

本技術(shù)屬于制氫,特別是涉及一種制氫用氫氧分離設(shè)備。


背景技術(shù):

1、制氫用的氫氧分離設(shè)備是一種專門用于將水分解成氫氣和氧氣的設(shè)備,其核心工作原理基于電解水的原理。這種設(shè)備通常由兩個電極和一個電解質(zhì)組成,當(dāng)電極被通電時,它們會吸引水分子中的離子,將其分解成氫離子和氧離子,然后分別收集這些離子。氫離子會在負(fù)極處與電極反應(yīng)形成氫氣,而氧離子則會在正極處與電極反應(yīng)形成氧;

2、制氫過程中會產(chǎn)生熱量,若不及時排出,會影響設(shè)備的運(yùn)行,最為主要的是保證電解液和整流柜的溫度,電解液溫度攀升,可能導(dǎo)致電解設(shè)備氧化和腐蝕加劇,甚至造成安全生產(chǎn)事故,需要對其降溫從而確保制氫過程的穩(wěn)定運(yùn)行,整流柜作為發(fā)熱的組成部分,為確保設(shè)備的正常運(yùn)行和氫氣的純度,也需要對其進(jìn)行冷卻工作;

3、上述的兩種散熱,傳統(tǒng)的一般都是通過獨(dú)立的散熱系統(tǒng)進(jìn)行散熱,散熱方式有水冷和風(fēng)冷,由于需要獨(dú)立的散熱系統(tǒng),導(dǎo)致成本高,且無法將能源充分的利用。

4、為解決上述問題,本申請中提出一種制氫用氫氧分離設(shè)備。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種制氫用氫氧分離設(shè)備,解決了上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:

3、本實(shí)用新型為一種制氫用氫氧分離設(shè)備,包括電解槽和整流柜,所述電解槽中通過隔板分別形成有氧氣通道和氫氣通道以及加注口,所述整流柜內(nèi)部設(shè)有冷卻管道,管道兩端分別設(shè)有冷卻管進(jìn)口和冷卻管出口,還包括一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱,所述一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱的同一側(cè)均設(shè)有散熱模組,所述一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱內(nèi)部還設(shè)置有散熱通道,所述散熱通道兩端均設(shè)置有分流器,所述散熱通道為連續(xù)的“v”型結(jié)構(gòu),所述散熱通道為多個設(shè)置,所述散熱通道還分別連通出水管和冷卻管進(jìn)口以及冷卻管出口和回流管,所述電解槽一側(cè)底部設(shè)置有出水管,同一側(cè)上端設(shè)有兩個回流管。

4、進(jìn)一步地,所述散熱通道為并列設(shè)置的兩個,兩個散熱通道分別與分流器一側(cè)的兩個端口連接,且兩個散熱通道之間形成有散熱流道。

5、進(jìn)一步地,所述散熱通道外部還固定設(shè)有并列分布的翅片,所述一號風(fēng)箱、二號風(fēng)箱內(nèi)部固定設(shè)有與散熱通道局部輪廓吻合的導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板靠近散熱模組的一端成型有導(dǎo)流角。

6、進(jìn)一步地,所述導(dǎo)流板與散熱通道之間形成有散熱的氣流通道。

7、進(jìn)一步地,所述回流管在電解槽中延伸至另一側(cè),且端口處與出水管進(jìn)口呈對角分布。

8、進(jìn)一步地,所述一號風(fēng)箱中設(shè)有一組散熱通道,所述二號風(fēng)箱中設(shè)有大于一號風(fēng)箱內(nèi)部數(shù)量的散熱通道,所述冷卻管出口遠(yuǎn)離整流柜一端連接有分流管,所述分流管同時與數(shù)個散熱通道一端的分流器連通。

9、進(jìn)一步地,所述散熱通道側(cè)面正對散熱模組。

10、本實(shí)用新型具有以下有益效果:

11、本實(shí)用新型利用電解槽內(nèi)部電解液對整流柜進(jìn)行冷卻,無需使用外部的冷卻水循環(huán),較高程度的降低了成本,且循環(huán)的電解液還能在電解槽內(nèi)部充分混合,保證電解液溫度的均勻度;

12、本實(shí)用新型將電解液在進(jìn)入整流柜之前和循環(huán)回到電解槽之前均設(shè)置散熱通道和翅片,同時設(shè)置散熱模組進(jìn)行散熱,電解液子電解槽內(nèi)反應(yīng)過程會產(chǎn)生熱領(lǐng),電解液進(jìn)入整流柜的過程中被一號風(fēng)箱內(nèi)部散熱件降溫,然后降溫后的冷卻液進(jìn)入整流柜內(nèi)部對其散熱,電解液通過整流柜后溫度被升高,電解液被分成兩路,并且通過散熱模組,此時上端散熱模組對通過的電解液進(jìn)行降溫,最終被降溫后的電解液回到電解槽中,提升能源利用率,降低成本。

13、當(dāng)然,實(shí)施本實(shí)用新型的任一產(chǎn)品并不一定需要同時達(dá)到以上所述的所有優(yōu)點(diǎn)。



技術(shù)特征:

1.一種制氫用氫氧分離設(shè)備,包括電解槽(1)和整流柜(5),所述電解槽(1)中通過隔板分別形成有氧氣通道(2)和氫氣通道(3)以及加注口(4),所述整流柜(5)內(nèi)部設(shè)有冷卻管道,管道兩端分別設(shè)有冷卻管進(jìn)口(6)和冷卻管出口(7),其特征在于:還包括一號風(fēng)箱(8)和二號風(fēng)箱(9),所述一號風(fēng)箱(8)和二號風(fēng)箱(9)的同一側(cè)均設(shè)有散熱模組(10),所述一號風(fēng)箱(8)和二號風(fēng)箱(9)內(nèi)部還設(shè)置有散熱通道(11),所述散熱通道(11)兩端均設(shè)置有分流器(12),所述散熱通道(11)為連續(xù)的“v”型結(jié)構(gòu),所述散熱通道(11)為多個設(shè)置,所述散熱通道(11)還分別連通出水管(17)和冷卻管進(jìn)口(6)以及冷卻管出口(7)和回流管(18),所述電解槽(1)一側(cè)底部設(shè)置有出水管(17),同一側(cè)上端設(shè)有兩個回流管(18)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述散熱通道(11)為并列設(shè)置的兩個,兩個散熱通道(11)分別與分流器(12)一側(cè)的兩個端口連接,且兩個散熱通道(11)之間形成有散熱流道(13)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述散熱通道(11)外部還固定設(shè)有并列分布的翅片(14),所述一號風(fēng)箱(8)、二號風(fēng)箱(9)內(nèi)部固定設(shè)有與散熱通道(11)局部輪廓吻合的導(dǎo)流板(15),所述導(dǎo)流板(15)靠近散熱模組(10)的一端成型有導(dǎo)流角(16)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述導(dǎo)流板(15)與散熱通道(11)之間形成有散熱的氣流通道。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述回流管(18)在電解槽(1)中延伸至另一側(cè),且端口處與出水管(17)進(jìn)口呈對角分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述一號風(fēng)箱(8)中設(shè)有一組散熱通道(11),所述二號風(fēng)箱(9)中設(shè)有大于一號風(fēng)箱(8)內(nèi)部數(shù)量的散熱通道(11),所述冷卻管出口(7)遠(yuǎn)離整流柜(5)一端連接有分流管(19),所述分流管(19)同時與數(shù)個散熱通道(11)一端的分流器(12)連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種制氫用氫氧分離設(shè)備,其特征在于:所述散熱通道(11)側(cè)面正對散熱模組(10)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)屬于制氫技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種制氫用氫氧分離設(shè)備,包括電解槽和整流柜,所述電解槽中通過隔板分別形成有氧氣通道和氫氣通道以及加注口,所述整流柜內(nèi)部設(shè)有冷卻管道,管道兩端分別設(shè)有冷卻管進(jìn)口和冷卻管出口,還包括一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱,所述一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱的同一側(cè)均設(shè)有散熱模組,所述一號風(fēng)箱和二號風(fēng)箱內(nèi)部還設(shè)置有散熱通道,所述散熱通道兩端均設(shè)置有分流器,所述散熱通道為連續(xù)的“V”型結(jié)構(gòu);首先利用電解液對整流柜內(nèi)部進(jìn)行散熱,提升電解液利用率,其次在電解液的通道上分別設(shè)置散熱風(fēng)箱,實(shí)現(xiàn)循環(huán)狀態(tài)吸電解液的降溫,從而保證電解液在電解槽內(nèi)部的溫度和對整流柜內(nèi)部的散熱效果,具有成本低,利用率高的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員:袁崢嶸
受保護(hù)的技術(shù)使用者:安徽華東化工醫(yī)藥工程有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:20240515
技術(shù)公布日:2024/12/26
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