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用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:12646706閱讀:601來源:國知局
用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng)的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及電鍍設備,特別涉及用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng)。



背景技術(shù):

在使用不溶性陽極的硫酸銅電鍍中,由于不是從陽極溶解銅,因 此,隨著電鍍的進行,鍍浴中的銅濃度減少。為了使減少了的銅濃度 恢復到適于電鍍的銅濃度,補給氧化銅、碳酸銅、氫氧化銅等銅鹽作 為銅離子的補給鹽。

公開號為CN204727977U的中國專利公開了一種線路板電鍍銅裝置,它包括電鍍銅缸、溶銅桶、出液管和回流管;所述的溶銅桶內(nèi)設有銅塊;所述的出液管連通電鍍銅缸和溶銅桶,回流管連通電鍍銅缸和溶銅桶,電鍍銅缸內(nèi)的電鍍液由出液管進入溶銅桶,再經(jīng)回流管進入電鍍銅缸。

上述這種線路板電鍍銅裝置所采用的是銅塊,而銅塊在熔銅桶內(nèi)溶解時的溶解量受銅塊的接觸面積限制,使得在熔銅桶內(nèi)直接輸出會導致銅反應不夠完全而使硫酸銅的濃度不夠,影響加工質(zhì)量。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng),具有使氧化銅反應更加充分以提高硫酸銅的濃度,進而使電鍍后的工件質(zhì)量更好。

本發(fā)明的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的:一種用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng),包括銅粉輸料裝置、攪拌過濾裝置、溶液循環(huán)裝置、溶液內(nèi)循環(huán)裝置,

所述銅粉輸料裝置,包括儲料桶、用于抽取儲料桶內(nèi)氧化銅銅粉的真空上料機、與真空上料機連通的螺旋給料機;

所述攪拌過濾裝置,包括輸入端與螺旋給料機連通的溶解槽,所述溶解槽內(nèi)的下側(cè)設置有若干用于將溶解槽內(nèi)部隔離成若干溢流槽的分隔板一,所述分隔板一與溶解槽的頂部留有間隙;所述溶解槽內(nèi)的上側(cè)位于相鄰兩個分隔板一之間的位置設置有分隔板二,所述分隔板二與溶解槽的底部留有間隙,所述溶解槽內(nèi)設置有攪拌器;

所述溶液循環(huán)裝置,包括用于將電鍍槽內(nèi)的溶液輸入到溶解槽的輸入端的出液管、設置在溶解槽遠離輸入管一端用于將溶解槽內(nèi)溶液輸送至電鍍槽內(nèi)的進液管;

所述溶液內(nèi)循環(huán)裝置,包括每個溢流槽的底部均設置有循環(huán)管,所述循環(huán)管上均設置有球閥,若干所述循環(huán)管相互連通。

通過采用上述技術(shù)方案,通過真空上料機將儲料桶內(nèi)的氧化銅銅粉吸入到螺旋給料機,然后再通過螺旋給料機將銅粉從溶解槽的輸入端喂入到溶解槽內(nèi)與硫酸銅、硫酸反應,而在這個反應的過程中,由于在溶解槽內(nèi)添加的是銅粉,因此銅粉進入到溶解槽內(nèi)時能夠快速的與硫酸反應生產(chǎn)硫酸銅溶液,并且在溶解槽內(nèi)設置的分隔板一將溶解槽分隔成若干溢流槽,使得從溶解槽內(nèi)的溶液從螺旋給料機的一端緩慢的從分隔板一的上端溢流到相鄰的另一個溢流槽中,再從這個溢流槽中通過另一個分隔板一上端溢流到另一個溢流槽中,同時分隔板二將溢流槽再分隔成兩部分,使得溶液只能從溢流槽的底部從分隔板二的一側(cè)流動到另一側(cè),進而使得銅粉在加入到溶解槽內(nèi)之后到從進液管輸出的過程的運行軌跡較長,從而延長其反應時間,并且通過分隔板一上端溢過再分隔板二下端流過這樣反復的上下交錯方式,使得銅粉能夠更充分反應生成硫酸銅溶液,進而以液體的方式從分隔板一的上端不斷的溢流至相鄰的溢流槽,直到從進液管輸入到電鍍槽中;而攪拌器的設置能夠?qū)⒓尤氲你~粉及時的與硫酸溶液混合,進而加快銅粉與硫酸溶液的反應;其溶解槽上設置的出液管能夠用于電鍍槽內(nèi)的溶液輸入,然后在溶解槽內(nèi)加銅以提高濃度并從進液管再次進入到電鍍槽內(nèi),從而保證電鍍槽內(nèi)硫酸銅的濃度,使得在電鍍過程中能夠使待鍍件的電鍍質(zhì)量更好;而為了使進液管輸出的硫酸銅溶液的濃度更高,在每個溢流槽的下方連接的循環(huán)管能夠?qū)㈩A從進液管內(nèi)流出的硫酸銅溶液在回流至前序的溢流槽中,進而使未充分反應的氧化銅銅粉進一步進行反應生成硫酸銅溶液,進而提高硫酸銅溶液的濃度,以使電鍍槽內(nèi)硫酸銅溶液能夠更電離出銅離子以鍍到待鍍工件上,從而提高電鍍質(zhì)量。

進一步的,所述螺旋給料機包括料倉、設置在料倉下端出料口的送料管,所述送料管橫向設置且所述送料管內(nèi)設有螺紋桿,所述螺紋桿的一端由設置在送料管上的伺服電機驅(qū)動,另一端延伸出送料管的出口,所述送料管在出口的位置設有豎直向下延伸至溶解槽的輸入端的輸料管,所述輸料管上端設有進風口,所述輸料管在進風口的位置設有鼓風機。

通過采用上述技術(shù)方案,在真空上料機將銅粉從儲料桶內(nèi)抽出之后輸入到料倉,在需要提高溶解槽內(nèi)硫酸銅溶液的濃度時,其伺服電機開始工作從而驅(qū)動螺紋桿轉(zhuǎn)動,螺紋桿的轉(zhuǎn)動便能夠?qū)⒘蟼}底部的銅粉從送料管的出口,在重力的作用下而落下;同時,鼓風機工作產(chǎn)生的風從進風口輸入到輸料管內(nèi),從而將銅粉快速的吹下而與硫酸溶液反應。

進一步的,所述循環(huán)管上連接有液體泵,所述溢流槽的底部連接有濃度感應器,所述溶解槽上設置有用于控制液體泵的PLC控制器,所述濃度感應器與PLC控制器電連接。

通過采用上述技術(shù)方案,在濃度感應器感應到溢流槽內(nèi)的硫酸銅溶液的濃度偏低時,將信號反饋至PLC控制器,然后由PLC控制器控制液體泵開始工作,從而將濃度偏低的溢流槽內(nèi)的硫酸銅溶液輸送至前序的溢流槽中繼續(xù)與銅粉進行反應,進而使得最終從進液管輸出的硫酸銅溶液的濃度較高,以提高電鍍質(zhì)量。

進一步的,所述溢流槽的底部設置有排渣管,所述排渣管上設置有截止閥,所述排渣管遠離溢流槽的一端設置有廢液清空站。

通過采用上述技術(shù)方案,在溢流槽經(jīng)過長期的使用之后,其銅粉與硫酸反應制成硫酸銅溶液,在加入罐體內(nèi)的銅粉會有一些與硫酸不相溶的雜質(zhì)摻雜在里面,罐體在多次制作硫酸銅溶液的過程中,雜質(zhì)會堆積的越來越多,排渣管可以將罐體內(nèi)的雜質(zhì)排出,有利于將罐體內(nèi)的雜質(zhì)排出,減小了罐體內(nèi)的雜質(zhì)殘留,截止閥可以在不需要排渣的時候,使硫酸銅溶液不會從排渣管內(nèi)流出的現(xiàn)象。

進一步的,所述分隔板一、分隔板二上位于間隙的一端均轉(zhuǎn)動連接有若干扇體,相鄰所述扇體的扇葉的扭轉(zhuǎn)方向相反。

通過采用上述技術(shù)方案,當硫酸銅溶液通過溢流槽時,其硫酸銅溶液會帶動扇體轉(zhuǎn)動,扇體的轉(zhuǎn)動會使硫酸銅溶液進行攪動,進而使硫酸銅溶液混合的較均勻;由于扇葉的扭轉(zhuǎn)方向相反,則硫酸銅溶液經(jīng)過相鄰的扇葉后的流向是相反的,使得相鄰的分流槽流出的硫酸銅溶液的流向方向相反,當硫酸銅溶液流過溢流槽時,相鄰的溢流槽流出的硫酸銅溶液會發(fā)生碰撞而攪合到一起,使氧化銅和硫酸銅溶液混合的更加均勻。

進一步的,靠近所述進液管的分隔板一與分隔板二之間設有過濾板,與所述過濾板相鄰且位于過濾板遠離進液管的一側(cè)的分隔板一的上端設有緩沖板,靠近所述進液管的分隔板二上開設有凹槽,所述緩沖板傾斜向下設置并延伸至凹槽內(nèi),且所述緩沖板與凹槽的槽底之間有空隙。

通過采用上述技術(shù)方案,過濾板位于靠近進液管的分隔板一和分隔板二之間,且分隔板一靠近出口設置,則分隔板一可以阻擋硫酸銅溶液直接從熔銅管中流出,而是先通過分隔板一與溶解槽的間隙,然后由于分隔板一的阻擋,硫酸銅溶液和銅粉不會直接到達溶解槽的輸出端,而是會經(jīng)過分隔板一和分隔板二之間的過濾板,在這個過程中,硫酸銅溶液中的一些雜質(zhì)顆粒會被過濾板濾除,之后再經(jīng)過分隔板一與罐體之間的間隙到達輸出端,則經(jīng)過輸出端的硫酸銅溶液純度會較高,進而使電鍍槽內(nèi)的硫酸銅溶液比較純凈,溶液從分隔板一的間隙處落下時,會與溶解槽的槽底的溶液發(fā)生強烈的撞擊,從而產(chǎn)生較多的泡沫,而泡沫張力較大,經(jīng)過長期的積累,泡沫會進入到過濾板內(nèi),從而影響過濾板的過濾效果,設有緩沖板用于減緩硫酸銅溶液與罐體內(nèi)的溶液撞擊,硫酸銅溶液會順著緩沖板而運動至分隔板二上的凹槽內(nèi),溶液會先在凹槽內(nèi)進行緩沖,然后順著凹槽慢慢流下,使溶液不會直接與分隔板二的表面進行撞擊,從而能使溶液沿著第二擋板緩慢的流下,減緩了泡沫的產(chǎn)生,從而能夠使過濾板較效率的對溶液進行過濾。

進一步的,所述凹槽為圓弧槽,所述凹槽的下側(cè)壁與分隔板二圓弧過度。

通過采用上述技術(shù)方案,把凹槽設為圓弧槽,硫酸銅溶液通過緩沖板進入到圓弧槽內(nèi)后,會由于沖力而沿著圓弧槽的槽壁較均勻的擴散,從而較大程度的緩沖了溶液的沖擊力。

進一步的,所述凹槽的下側(cè)壁上設置有阻流板,所述阻流板遠離凹槽的槽底傾斜向上設置。

通過采用上述技術(shù)方案,設有阻流板可以減緩溶液的流速,讓直面上的溶液經(jīng)過阻流板慢慢溢流出去,對溶液進行緩沖,使溶液能夠較順利的沿著第一擋板下滑。

進一步的,所述溶解槽靠近出液管的一端設置有加酸桶,所述加酸桶的下端與溶解槽連通,所述加酸桶的下端鉸接有用于封閉加酸桶的阻擋板,所述阻擋板朝向加酸桶內(nèi)側(cè)的一端鉸接有驅(qū)動桿,所述驅(qū)動桿遠離阻擋板的一端設置有固定桿,所述加酸桶的上端內(nèi)側(cè)設置有供固定桿嵌入的插槽。

通過采用上述技術(shù)方案,操作者將銅粉從輸入端加入到溶解槽的內(nèi)部,銅粉與硫酸反應制成硫酸銅溶液,硫酸銅溶液從輸出端排出到電鍍槽內(nèi),銅粉與硫酸溶液相溶反應生成硫酸銅溶液的時候,由于硫酸的量不夠從而影響了硫酸銅的溶液的濃度,操作者可以更具硫酸銅濃度的偏差,通過加酸桶加入硫酸,可以有效的提高硫酸銅溶液的濃度,在不需要加酸的時候,阻擋板將加酸桶底部封閉,減小了溶解槽內(nèi)硫酸的出現(xiàn)揮發(fā)的情況,在需要進行加酸工作的時候,通過驅(qū)動桿將阻流板打開實現(xiàn)加酸工作。

進一步的,每個所述溢流槽內(nèi)均設置有曝氣裝置,所述曝氣裝置包括位于溢流槽內(nèi)的曝氣機、與曝氣機連通的曝氣管,所述曝氣管遠離曝氣機的一端依次連接有安全閥、壓力泵和旋風機。

通過采用上述技術(shù)方案,旋風機產(chǎn)生的風通過曝氣管輸入到曝氣機內(nèi),由曝氣機輸入到溶解槽內(nèi)的硫酸銅溶液中形成氣泡,進而使硫酸銅溶液受氣泡的作用而使銅粉與硫酸溶液反應更加的完全,進而充分利用銅粉而快速的提高硫酸銅溶液的濃度,當需要調(diào)節(jié)進氣量時,可通過壓力泵來進行調(diào)節(jié),并且通過安全閥來控制曝氣管開啟和合并的狀態(tài)。

綜上所述,本發(fā)明具有以下有益效果:

通過螺旋給料機實現(xiàn)對銅粉的精確加料,進而更加準確的控制硫酸銅溶液的濃度;

分隔板一、分隔板二的設置使得硫酸銅溶液進行折流,一方面可以增大銅粉和硫酸溶液在溶解槽內(nèi)的反應時間,另一方面可以使銅粉和硫酸溶液更加均勻的混合,從而使銅粉和硫酸溶液較充分的反應;

攪拌器的設置使硫酸銅溶液混合的更加均勻,加快反應時間;

溶解槽上的進液管與出液管的設置使得溶解槽內(nèi)的硫酸銅溶液與電鍍槽能夠進行循環(huán),從而不斷的將高濃度的硫酸銅溶液補充到電鍍槽中以提高電鍍槽中硫酸銅溶液的濃度,進而提高電鍍質(zhì)量;

由PLC控制器與濃度感應器配合來驅(qū)動液體泵來將低濃度的硫酸銅溶液輸送至前序的溢流槽,進而將低濃度的硫酸銅溶液再次進行添加銅粉以提高硫酸銅溶液濃度。

附圖說明

圖1是實施例1中用于體現(xiàn)銅粉輸料裝置、攪拌過濾裝置、溶液循環(huán)裝置、溶液內(nèi)循環(huán)裝置之間的連接關(guān)系示意圖;

圖2是實施例1中用于體現(xiàn)真空上料機、螺旋給料機、溶解槽之間連接關(guān)系示意圖;

圖3是實施例1中用于體現(xiàn)螺旋給料機內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4是實施例1中用于體現(xiàn)溶解槽與電鍍槽之間的連接關(guān)系示意圖;

圖5是實施例1中用于體現(xiàn)溶解槽內(nèi)部的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6是圖5中A部的放大圖;

圖7是實施例1中用于體現(xiàn)緩沖板與凹槽之間的位置關(guān)系示意圖;

圖8是圖7中B部的放大圖;

圖9是實施例1中用于體現(xiàn)溶液內(nèi)循環(huán)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖10是實施例1中用于體現(xiàn)加酸桶的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖11是圖10中C部的放大圖;

圖12是實施例2中用于體現(xiàn)曝氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中,1、儲料桶;11、真空上料機;12、螺旋給料機;121、料倉;122、送料管;1221、螺紋桿;1222、伺服電機;1223、輸料管;12231、進風口;1224、鼓風機;2、溶解槽;21、輸入端; 22、輸出端;23、分隔板一;231、扇體;232、扇葉;233、緩沖板;24、分隔板二;241、凹槽;242、阻流板;25、溢流槽;251、排渣管;252、截止閥;253、廢液清空站;26、攪拌器;27、出液管;271、磁力泵一;28、進液管;281、磁力泵二;3、循環(huán)管;31、球閥;32、液體泵;33、濃度感應器;34、PLC控制器;4、過濾板;5、加酸桶;51、阻擋板;52、驅(qū)動桿;53、固定桿;54、插槽;6、曝氣機;61、曝氣管;62、安全閥;63、壓力泵;64、旋風機;65、排氣管;7、電鍍槽。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。

其中相同的零部件用相同的附圖標記表示。需要說明的是,下面描述中使用的詞語“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向,詞語“底面”和“頂面”、“內(nèi)”和“外”分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。

實施例1:一種用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng),如圖1所示,包括銅粉輸料裝置、攪拌過濾裝置、溶液循環(huán)裝置、溶液內(nèi)循環(huán)裝置。

如圖5和6所示,攪拌過濾裝置包括溶解槽2,溶解槽2的左端為輸入端21,右端為輸出端 22,在溶解槽2內(nèi)設置有若干個分隔板一23,這些分隔板一23將溶解槽2分隔成若干個溢流槽25,在其分隔板一23的下端以及兩側(cè)均與溶解槽2連接,其分隔板一23的上端與溶解槽2的上端之間留有5cm的間隙;在相鄰的兩個分隔板一23之間設置有分隔板二24,該分隔板二24與溶解槽2的上端固定連接,并且分隔板二24與溶解槽2的槽底之間留有5cm的間隙。在分隔板一23的上端、分隔板二24的下端均轉(zhuǎn)動連接有若干扇體231(如圖6所示),并且相鄰兩個扇體231上的扇葉232的扭轉(zhuǎn)方向為相反的,其目的是能夠使硫酸銅溶液從扇體231上流過時,能夠帶動扇體231轉(zhuǎn)動,并且相鄰之間的扇體231的轉(zhuǎn)動方向相反,進而使硫酸銅溶液的流動方向相反,使硫酸銅溶液混合的更加的均勻。在溶解槽2輸入端21的溢流槽25上固定連接有一個攪拌器26。

如圖7和8所示,在溶解槽2的輸出端 22與靠近輸出端 22的分隔板一23之間還設置有一塊分隔板二24,該分隔板二24的下部設置有一過濾板4,該過濾板4設置在分隔板二24靠近輸出端 22的一側(cè),過濾板4完全遮蓋分隔板二24與溶解槽2槽底之間的間隙;在該分隔板二24遠離過濾板4的一側(cè)設置有凹槽241,在與該分隔板二24相鄰的分隔板一23上端固定連接有一緩沖板233,該緩沖板233向輸出端 22方向向下傾斜延伸至凹槽241內(nèi),并且緩沖板233與凹槽241之間留有供硫酸銅溶液流通的空隙,該凹槽241的截面形狀為圓弧形,即凹槽241為圓弧槽,在凹槽241的下側(cè)壁與分隔板二24之間圓弧過度。在凹槽241的下側(cè)壁上設置有一塊阻流板242,該阻流板242位于緩沖板233的下方。

如圖9和11所示,在溶解槽2位于輸入端21的一端還設置有加酸桶5,該加酸桶5的下端與溶解槽2連通,并且在加酸桶5的底部鉸接有一片用于封閉加酸桶5底部的阻擋板51,在阻擋板51封閉加酸桶5的底部時,其阻擋板51朝上的一側(cè)鉸接有一根驅(qū)動桿52,該驅(qū)動桿52遠離遠離阻擋板51的一端鉸接有固定桿53,為了能夠?qū)潭U53固定,在加酸桶5內(nèi)側(cè)靠近上端的地方設置有供固定桿53插入的插槽54。

如圖2和3所示,銅粉輸料裝置包括設置在溶解槽2輸入端21的螺旋給料機12、真空上料機11和儲料桶1,其中螺旋給料機12包括設置在溶解槽2上的料倉121,在料倉121的下端出料口的位置設置有水平設置的送料管122,在送料管122內(nèi)穿設有螺紋桿1221,該螺紋桿1221為螺紋輸送桿,螺紋桿1221與送料管122的內(nèi)壁適配,在送料管122上設置有伺服電機1222,該伺服電機1222與螺紋桿1221同軸固定連接,在送料管122遠離伺服電機1222的一端為出口,該出口的位置設置有豎直向下延伸到溶解槽2的輸入端21的輸料管1223,在輸料管1223的上端設置有進風口12231,在輸料管1223上位于進風口12231的位置設置有鼓風機1224,鼓風機1224的出風端與進風口12231連通并使鼓風機1224的出風端豎直朝下。

如圖4和7所示,溶液循環(huán)裝置包括設置在溶解槽2輸入端21的進液管28和位于溶解槽2輸出端 22的出液管27,其進液管28和出液管27均與電鍍槽7連通;在出液管27上設置有磁力泵一271;在進液管28上設置有磁力泵二281。

如圖1和9所示,溶液內(nèi)循環(huán)裝置包括設在每個溢流槽25底部的循環(huán)管3,每根循環(huán)管3均相互連通,并且在每根循環(huán)管3上均設置有球閥31和液體泵32,在每個溢流槽25的底部設置有濃度感應器33,在溶解槽2的外壁上設置有PLC控制器34,該PLC控制器34為S7-200,濃度感應器33與PLC控制器34電連接,并且PLC控制器34與伺服電機1222電連接。

如圖1所示,在每個溢流槽25的底部還設置有排渣管251,每根排渣管251的另一端均連接至廢液清空站253,由廢液清空站253統(tǒng)計對廢液進行收集處理。在溶解槽2的頂部還設置有排氣管65。

具體實施過程:首先通過真空上料機11將儲料桶1中的氧化銅銅粉通過負壓作用將其吸入到料倉121中存儲;將電鍍槽7內(nèi)的電鍍液,即硫酸銅溶液通過進液管28在磁力泵二281的作用下輸入到溶解槽2的輸入端21;當輸入端21的溢流槽25內(nèi)的濃度感應器33檢測到溢流槽25內(nèi)的電鍍液的濃度降低時,其濃度感應器33將信號反饋至PLC控制器34,PLC控制器34將電信號傳遞至伺服電機1222,進而驅(qū)動伺服電機1222開始工作,同時還驅(qū)動鼓風機1224開始工作,其伺服電機1222的轉(zhuǎn)動帶動螺紋桿1221轉(zhuǎn)動,螺紋桿1221轉(zhuǎn)動便能夠?qū)⒘蟼}121底部的銅粉在送料管122內(nèi)向出口方向推動,并進一步的推入到輸料管1223內(nèi),由于輸料管1223上端的鼓風機1224的工作而產(chǎn)生的風能夠從進風口12231進入到輸料管1223內(nèi),從而將銅粉快速的向下吹動,使銅粉不易粘附在輸料管1223的管壁上,進而使加入的銅粉的量更加的準確,銅粉從輸料管1223落下之后便從溶解槽2的輸入端21進入到溶解槽2內(nèi)與電鍍液反應,此時,攪拌器26開始工作,從而使電鍍液與銅粉接觸更加的完全,使銅粉能夠快速的分散在混合液中,與電鍍液快速反應生成硫酸銅以提高硫酸銅溶液的濃度,當輸入端21所在的溢流槽25內(nèi)的電鍍液慢慢增加之后,其電鍍液會從分隔板二24的下端經(jīng)過,流動的電鍍液便會驅(qū)動扇體231轉(zhuǎn)動,并且相鄰的扇體231的轉(zhuǎn)動方向相反,使得相鄰的電鍍液能夠相互混合更加的均勻;隨著電鍍液的不斷增多,其電鍍液達到第一塊分隔板一23的高度時,電鍍液會溢流過分隔板一23進入到另一個溢流槽25內(nèi),電鍍液在經(jīng)過分隔板一23上端時,流動的電鍍液便會驅(qū)動扇體231轉(zhuǎn)動,并且相鄰的扇體231的轉(zhuǎn)動方向相反,使得相鄰的電鍍液能夠相互混合更加的均勻;而這樣依次使電鍍液以上下折流的方式從輸入端21向輸出端22流動,使得電鍍液即硫酸銅溶液變得更加的純凈,并延長了銅粉的反應時間,使銅粉能夠更加充分的被利用而生成硫酸銅溶液;當硫酸銅溶液流到緩沖板233上時,其硫酸銅溶液順著緩沖板233向凹槽241方向移動,然后硫酸銅溶液會流入到凹槽241內(nèi)并向下流動,之后便受到阻流板242的作用而從阻流板242的上端溢出并順著凹槽241的下側(cè)壁流到分隔板二24的下端,有效的減少了泡沫的產(chǎn)生,然后硫酸銅溶液經(jīng)過過濾板4過濾,將硫酸銅內(nèi)的雜質(zhì)去除掉,使得硫酸銅溶液更加的純凈,然后硫酸銅溶液從出液管27在磁力泵一271的作用下流出進入到電鍍槽7內(nèi)用于電鍍工作。

當溢流槽25內(nèi)的硫酸銅溶液濃度小于設定值時,其濃度感應器33將信號傳遞至PLC控制器34,然后由PLC控制器34控制液體泵32開始工作并打開球閥31,將濃度較低的溢流槽25內(nèi)的硫酸銅溶液通過循環(huán)管3輸入到輸入端21的溢流槽25內(nèi),使得濃度較低的硫酸銅溶液能夠再次與銅粉反應以提高硫酸銅溶液的濃度。

當溶解槽2內(nèi)的硫酸溶液減少時,將固定桿53從插槽54中拔出,并向下移動,從而通過驅(qū)動桿52來驅(qū)動阻擋板51向下翻轉(zhuǎn),進而使加酸桶5內(nèi)的硫酸溶液能夠加入到溶解槽2的輸入端21,進而使得硫酸溶液能充分的與銅粉反應。

隨著長期的使用,在每個溢流槽25內(nèi)都會沉淀一些雜質(zhì)沉淀物,將截止閥252打開,將這些沉淀物通過溢流槽25底部的排渣管251沖離溢流槽25,并且通過排渣管251將這些沉淀物匯入到廢液清空站253進行集中處理,防止沉淀物直接排放而對環(huán)境造成污染。

實施例2:一種用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統(tǒng),與實施例1的不同之處在于,如圖12所示,在每個溢流槽25內(nèi)均設置有曝氣裝置,該曝氣裝置包括曝氣機6和曝氣管61,曝氣管61與溶解槽2的頂部固定連接,曝氣管61的下端與曝氣機6連通,另一端依次連接有安全閥62、壓力泵63和旋風機64。

通過旋風機64工作產(chǎn)生風,由壓力泵63來調(diào)節(jié)風壓,然后打開安全閥62,其高壓氣體經(jīng)過安全閥62、曝氣管61至曝氣機6,再由曝氣機6輸出到硫酸銅溶液與硫酸溶液的混合液中,使得銅粉與混合液混合的更加均勻,進而增大銅粉的接觸面積,提高反應速率,進而充分利用銅粉而快速的提高硫酸銅溶液的濃度,當需要調(diào)節(jié)進氣量時,可通過壓力泵63來進行調(diào)節(jié),并且通過安全閥62來控制曝氣管61開啟和合并的狀態(tài)。

本具體實施例僅僅是對本發(fā)明的解釋,其并不是對本發(fā)明的限制,本領域技術(shù)人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對本實施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻的修改,但只要在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護。

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