一種增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種鎂合金表面耐腐蝕及具有功能性防護(hù)層的制備方法，具體講是涉及增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其屬于屬于表面處理【技術(shù)領(lǐng)域】；首先將鎂合金基體放置在底部設(shè)有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液中加有磁性粉體，使其均勻覆蓋磁性粉體，再采用微弧氧化的方法在鎂合金表面復(fù)合的陶瓷膜，可在鎂合金表面形成均勻覆蓋的磁性粉體復(fù)合微弧氧化陶瓷膜，該復(fù)合膜層可以減少微弧氧化膜層表面的微孔和裂紋，提高鎂合金的耐蝕性；使微弧氧化膜具有磁性功能。通過(guò)電解槽外側(cè)底部的磁鐵，使得磁性粉體在磁力的作用下，通過(guò)微弧氧化熔融放電通道進(jìn)入氧化膜的內(nèi)部，增加粉體在微弧氧化膜的復(fù)合量，使其更多的體現(xiàn)磁性粉體的電磁波吸收、屏蔽功能，增加其應(yīng)用領(lǐng)域。
【專利說(shuō)明】一種增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種鎂合金表面耐腐蝕及具有功能性防護(hù)層的制備方法，具體講是涉及增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其屬于屬于表面處理【技術(shù)領(lǐng)域】。
技術(shù)背景
[0002]鎂合金以其低密度、高的比強(qiáng)度和比剛度、優(yōu)良的機(jī)械加工性能和鑄造性、良好的阻尼減震性、高的熱導(dǎo)率、高的尺寸穩(wěn)定性、優(yōu)良的電磁屏蔽性能以及可回收利用等優(yōu)良的特性被認(rèn)為是二十一世紀(jì)最具有開(kāi)發(fā)和應(yīng)用潛力的綠色材料。但鎂合金低的耐蝕性限制了其應(yīng)用。
[0003]微弧氧化是一種直接在Al、Mg、T1、Ta、Nb、Zr等有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù)。該技術(shù)是最近二十年來(lái)在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的。目前，微弧氧化膜層主要以增強(qiáng)輕金屬耐腐蝕性為目的，氧化膜的表面都存在大量放電微孔，腐蝕介質(zhì)可以通過(guò)這些微孔進(jìn)入膜層腐蝕基體，為提高其耐腐蝕性能，采用引入添加劑(抑弧劑、納米粉體、稀土等)進(jìn)入電解液可提高氧化膜的耐腐蝕性能?，F(xiàn)有粉體復(fù)合微弧氧化膜的制備，粉體復(fù)合量少，作用不明顯


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，該方法是首先將鎂合金基體放置在外側(cè)底部設(shè)有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液中加有磁性粉體，使其均勻覆蓋磁性粉體，再采用微弧氧化的方法在鎂合金表面獲得更多磁性粉體復(fù)合的陶瓷膜，以提高鎂合金的耐蝕性并使其具有磁性功能。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為一種增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:其包括如下步驟:
[0006](I)鎂合金經(jīng)除油后，表面用去離子水清洗干凈并吹干；
[0007](2)將清洗后的鎂合金放入外側(cè)底部具有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液內(nèi)加有磁性粉體攪拌電解液，使磁性粉體均勻的覆蓋在鎂合金基體的表面；磁性粉體粉體的加入量在3?5g/L ；
[0008](3)將均勻覆蓋磁性粉體的鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理，處理時(shí)間為1530min，微弧氧化電解液為:20g/L硅酸鈉，10g/L氟化鈉；
[0009](4)清洗:將微弧氧化處理后的鎂合金用去離子水清洗；
[0010](5)干燥:將清洗的鎂合金吹干，得到磁性粉體含量高的磁性粉體復(fù)合微弧氧化陶瓷膜。
[0011]所述磁性粉體為納米或微米級(jí)磁性粉體或非磁性粉體表面包覆磁性金屬。
[0012]所述納米級(jí)磁性粉體為鐵氧體、金屬鐵、鈷或鎳粉。
[0013]所述非磁性粉體表面包覆磁性金屬為Ni包覆陶瓷粉體或Ni包覆非磁性金屬粉體。
[0014]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:首先將鎂合金基體放置在底部設(shè)有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液中加有磁性粉體，使其均勻覆蓋磁性粉體，再采用微弧氧化的方法在鎂合金表面復(fù)合的陶瓷膜，可在鎂合金表面形成均勻覆蓋的磁性粉體復(fù)合微弧氧化陶瓷膜，該復(fù)合膜層可以減少微弧氧化膜層表面的微孔和裂紋，提高鎂合金的耐蝕性；使微弧氧化膜具有磁性功能。通過(guò)電解槽外側(cè)底部的磁鐵，使得磁性粉體在磁力的作用下，通過(guò)微弧氧化熔融放電通道進(jìn)入氧化膜的內(nèi)部，增加粉體在微弧氧化膜的復(fù)合量，使其更多的體現(xiàn)磁性粉體的電磁波吸收、屏蔽功能，增加其應(yīng)用領(lǐng)域。

【具體實(shí)施方式】
[0015]以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述。
[0016](I)鎂合金經(jīng)除油后，表面用去離子水清洗干凈并吹干；
[0017](2)將清洗后的鎂合金放入底部加有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液內(nèi)加有磁性粉體(金屬鎳粉)，攪拌電解液，使磁性粉體均勻的覆蓋在鎂合金基體的表面；
[0018](3)將均勻覆蓋磁性粉體的鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理，處理時(shí)間為1530min，微弧氧化電解液為:20g/L硅酸鈉，10g/L氟化鈉；
[0019](4)清洗:將微弧氧化處理后的鎂合金用去離子水清洗；
[0020](5)干燥:將清洗的鎂合金吹干，得到磁性粉體含量高的磁性粉體復(fù)合微弧氧化陶瓷膜。
【權(quán)利要求】
1.一種增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:其包括如下步驟: (1)鎂合金經(jīng)除油后，表面用去離子水清洗干凈并吹干； (2)將清洗后的鎂合金放入外側(cè)底部具有磁鐵的電解槽中，電解槽內(nèi)的電解液內(nèi)加有磁性粉體攪拌電解液，使磁性粉體均勻的覆蓋在鎂合金基體的表面；磁性粉體粉體的加入量在3?5^/1 ； (3)將均勻覆蓋磁性粉體的鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理，處理時(shí)間為1530111111，微弧氧化電解液為:208/1硅酸鈉，10^/1氟化鈉； (4)清洗:將微弧氧化處理后的鎂合金用去離子水清洗； (5)干燥:將清洗的鎂合金吹干，得到磁性粉體含量高的磁性粉體復(fù)合微弧氧化陶瓷膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述磁性粉體為納米級(jí)磁性粉體或非磁性粉體表面包覆磁性金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述納米級(jí)磁性粉體為鐵氧體、金屬鐵、鈷或鎳粉。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的增加磁性粉體在鎂合金微弧氧化膜中含量的方法，其特征在于:所述非磁性粉體表面包覆磁性金屬為附包覆陶瓷粉體或附包覆非磁性金屬粉體。
【文檔編號(hào)】C25D15/00GK104313665SQ201410627707
【公開(kāi)日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年11月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月10日
【發(fā)明者】邵忠財(cái), 孔冰, 張弘 申請(qǐng)人:沈陽(yáng)理工大學(xué)