本申請(qǐng)總體上涉及與內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)一起使用的后處理系統(tǒng)的領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

0、背景

1、對(duì)于諸如柴油機(jī)的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，排氣中可能排放氮氧化物（nox）化合物，其通常用后處理系統(tǒng)（例如，排氣后處理系統(tǒng)）處理。為了減少nox排放物，可以實(shí)施選擇性催化還原（scr）過程以在催化劑和液體還原劑的協(xié)助下將nox化合物轉(zhuǎn)化為更中性的化合物，如雙原子氮、水或二氧化碳。處理通常包括用還原劑處理（例如，配給（dose）等）排氣。催化劑可被包括在排放系統(tǒng)的催化器室內(nèi)，例如交通工具或動(dòng)力產(chǎn)生單元的排放系統(tǒng)的催化器室。液體還原劑，例如無水氨、氨水、柴油機(jī)排氣處理液（def）或含水尿素，通常在被引入催化器室之前被引入到排氣流中。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

0、概述

1、本文描述的實(shí)施例總體上涉及用于在后處理系統(tǒng)中捕獲鉑排放物并使鉑排放物失活的系統(tǒng)和方法。

2、本公開的至少一個(gè)方面涉及一種后處理系統(tǒng)。后處理系統(tǒng)包括配給模塊。后處理系統(tǒng)包括流體地設(shè)置在配給模塊下游的選擇性催化還原（scr）單元。后處理系統(tǒng)包括將配給模塊流體連接到scr單元的導(dǎo)管。導(dǎo)管具有設(shè)置在其表面上的涂層。涂層暴露于通過導(dǎo)管的排出物和scr單元。涂層被構(gòu)造為捕獲通過導(dǎo)管的鉑并使該鉑失活。

3、在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括流體地設(shè)置在scr單元上游的分解室。分解室的內(nèi)表面的至少一部分具有設(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括混合器，該混合器流體地設(shè)置在scr單元的上游并且流體地設(shè)置在配給模塊的下游?；旌掀鞯闹辽僖徊糠志哂性O(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，scr單元的入口的至少一部分具有設(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，涂層包括銅、磷、鈉或二氧化硅中的至少一種。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括含鉑的柴油機(jī)氧化催化器（doc），并且涂層設(shè)置在doc下游的表面上。在一些實(shí)施例中，doc流體地設(shè)置在scr單元的上游。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括柴油機(jī)顆粒過濾器（dpf）。涂層設(shè)置在dpf上。在一些實(shí)施例中，dpf設(shè)置在doc和scr單元之間。

4、本公開的另一方面涉及一種后處理系統(tǒng)。后處理系統(tǒng)包括柴油機(jī)氧化催化器（doc）。doc含有鉑。后處理系統(tǒng)包括流體聯(lián)接到doc的導(dǎo)管。導(dǎo)管具有設(shè)置在其表面上的涂層。涂層暴露于通過導(dǎo)管的排出物和scr單元。涂層被構(gòu)造為捕獲通過導(dǎo)管的鉑并使該鉑失活。

5、在一些實(shí)施例中，導(dǎo)管包括設(shè)置的分解室。分解室的內(nèi)表面的至少一部分具有設(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括聯(lián)接到分解室的配給模塊。涂層設(shè)置在配給模塊的下游。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括流體聯(lián)接到導(dǎo)管的混合器?；旌掀鞯闹辽僖徊糠志哂性O(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，后處理系統(tǒng)包括流體聯(lián)接到導(dǎo)管的選擇性催化還原（scr）單元。scr單元的入口具有設(shè)置在其上的涂層。在一些實(shí)施例中，涂層設(shè)置在導(dǎo)管的在doc下游的表面上。

6、本公開的另一方面涉及一種系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括發(fā)動(dòng)機(jī)。該系統(tǒng)包括與發(fā)動(dòng)機(jī)處于排出物接收連通的后處理系統(tǒng)。后處理系統(tǒng)包括配給模塊。后處理系統(tǒng)包括流體地設(shè)置在配給模塊下游的選擇性催化還原（scr）單元。后處理系統(tǒng)包括將配給模塊流體連接到scr單元的導(dǎo)管。導(dǎo)管包括設(shè)置在其表面上的涂層。涂層暴露于通過導(dǎo)管的排出物和scr單元。涂層被構(gòu)造為捕獲通過導(dǎo)管的鉑并使該鉑失活。

7、在一些實(shí)施例中，系統(tǒng)包括流體地設(shè)置在scr單元上游的分解室。分解室的內(nèi)表面的至少一部分具有設(shè)置在其上的涂層。配給模塊聯(lián)接到分解室。在一些實(shí)施例中，涂層不均勻地設(shè)置在導(dǎo)管的表面上，使得在配給模塊附近的涂層的厚度不同于在scr單元附近的涂層的厚度。在一些實(shí)施例中，涂層均勻地設(shè)置在導(dǎo)管的表面上。在一些實(shí)施例中，該系統(tǒng)包括含鉑的柴油機(jī)氧化催化器（doc）。doc流體地設(shè)置在配給模塊的上游。導(dǎo)管將doc流體地連接到scr單元。涂層不均勻地設(shè)置在導(dǎo)管的表面上，使得doc附近的涂層的厚度不同于scr單元附近的涂層的厚度。

8、本公開的另一方面涉及一種處理后處理系統(tǒng)的方法。該方法包括：通過控制器確定后處理系統(tǒng)的選擇性催化還原（scr）單元在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器的下游。該方法還包括確定柴油機(jī)顆粒過濾器是否在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器和scr單元之間。該方法還包括響應(yīng)于確定柴油機(jī)顆粒過濾器不在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器和scr單元之間而選擇性地對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加氣流處理和熱處理。該方法還包括響應(yīng)于確定柴油機(jī)顆粒過濾器在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器和scr單元之間而選擇性地對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加熱處理。

9、在一些實(shí)施例中，該方法包括：響應(yīng)于確定柴油機(jī)顆粒過濾器不在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器與scr單元之間，由控制器確定鐵scr是否是scr單元的第一scr元件；響應(yīng)于確定鐵scr不是第一scr元件，由控制器對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加氣流處理和弱熱處理（mild?thermal?treatment）；以及響應(yīng)于確定鐵scr是第一scr元件，由控制器對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加氣流處理和強(qiáng)熱處理。

10、在一些實(shí)施例中，該方法包括響應(yīng)于確定柴油機(jī)顆粒過濾器在一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器和scr單元之間，由控制器確定鐵scr是否是scr單元的第一scr元件；響應(yīng)于確定鐵scr不是第一scr元件，由控制器對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加弱熱處理；以及響應(yīng)于確定鐵scr是第一scr元件，由控制器對(duì)一個(gè)或更多個(gè)含鉑催化器施加強(qiáng)熱處理。

11、本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，本概述僅是說明性的，并不旨在以任何方式進(jìn)行限制。如僅由權(quán)利要求限定的本文所述的設(shè)備和/或過程的其他方面、發(fā)明特征和優(yōu)點(diǎn)將在本文闡述的詳細(xì)描述中并結(jié)合附圖變得明顯。

技術(shù)特征：

1.一種后處理系統(tǒng)，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理系統(tǒng)，還包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理系統(tǒng)，還包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理系統(tǒng)，其中所述scr單元的入口的至少一部分具有設(shè)置在其上的所述涂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理系統(tǒng)，其中所述涂層包括銅、磷、鈉或二氧化硅中的至少一種。

6.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的后處理系統(tǒng)，還包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的后處理系統(tǒng)，其中所述doc流體地設(shè)置在所述scr單元的上游。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的后處理系統(tǒng)，還包括柴油機(jī)顆粒過濾器（dpf），其中所述涂層設(shè)置在所述dpf上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的后處理系統(tǒng)，其中所述dpf設(shè)置在所述doc和所述scr單元之間。

10.一種后處理系統(tǒng)，包括：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的后處理系統(tǒng)，其中所述導(dǎo)管包括設(shè)置的分解室，所述分解室的內(nèi)表面的至少一部分具有設(shè)置在其上的所述涂層。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的后處理系統(tǒng)，還包括聯(lián)接到所述分解室的配給模塊，其中所述涂層設(shè)置在所述配給模塊的下游。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的后處理系統(tǒng)，還包括流體聯(lián)接到所述導(dǎo)管的混合器，所述混合器的至少一部分具有設(shè)置在其上的所述涂層。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的后處理系統(tǒng)，還包括流體聯(lián)接到所述導(dǎo)管的選擇性催化還原（scr）單元，其中所述scr單元的入口具有設(shè)置在其上的所述涂層。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的后處理系統(tǒng)，其中所述涂層設(shè)置在所述導(dǎo)管的在所述doc下游的表面上。

16.?一種系統(tǒng)，包括：

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，還包括流體地設(shè)置在所述scr單元上游的分解室，所述分解室的內(nèi)表面的至少一部分具有設(shè)置在其上的所述涂層；

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述涂層非均勻地設(shè)置在所述導(dǎo)管的所述表面上，使得所述涂層在所述配給模塊附近的厚度不同于所述涂層在所述scr單元附近的厚度。

19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述涂層均勻地設(shè)置在所述導(dǎo)管的所述表面上。

20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，還包括含有鉑的柴油機(jī)氧化催化器（doc），所述doc流體地設(shè)置在所述配給模塊的上游；

21.一種處理后處理系統(tǒng)的方法，所述方法包括：

22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，還包括：

23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，還包括：

技術(shù)總結(jié)
一種后處理系統(tǒng)包括配給模塊。該后處理系統(tǒng)包括流體地設(shè)置在配給模塊下游的選擇性催化還原單元。該后處理系統(tǒng)包括將配給模塊流體連接到選擇性催化還原單元的導(dǎo)管。導(dǎo)管具有設(shè)置在其表面上的涂層。涂層暴露于通過導(dǎo)管的排出物和選擇性催化還原單元。涂層被構(gòu)造為捕獲通過導(dǎo)管的鉑并使該鉑失活。

技術(shù)研發(fā)人員：迪倫·斯科特·特蘭達(dá)爾,克里什那·卡瑪薩姆德拉姆,拉約曼德·達(dá)伯霍瓦拉,希里什·S·龐德
受保護(hù)的技術(shù)使用者：康明斯公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19