冷氫裝置及加氫反應(yīng)器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種冷氫裝置及加氫反應(yīng)器，所述冷氫裝置包括能夠噴出冷氫的冷氫管組件(1)，所述冷氫管組件(1)下方設(shè)置有具有進(jìn)料孔(21)的冷氫盤(2)，所述冷氫盤(2)下方設(shè)置有具有噴射孔(31)的噴射盤(3)，所述冷氫盤(2)和所述噴射盤(3)之間設(shè)置有用以延緩從所述冷氫盤(2)出來的流體流向所述噴射盤(3)的緩沖結(jié)構(gòu)，從所述冷氫盤(2)流出的流體經(jīng)過所述緩沖結(jié)構(gòu)后再流向所述噴射盤(3)。本實(shí)用新型提供的冷氫裝置及加氫反應(yīng)器，能夠使得冷氫與來自上一床層的流體充分混合，保證物料降溫均勻。
【專利說明】
冷氫裝置及加氫反應(yīng)器
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及石油煉制及化工設(shè)備，具體地，涉及一種冷氫裝置及加氫反應(yīng)器。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，由于國(guó)內(nèi)市場(chǎng)對(duì)優(yōu)質(zhì)餾分油的需求不斷增加，環(huán)保要求日益嚴(yán)格，以及原油的重質(zhì)化、劣質(zhì)化，促使煉油廠急需擴(kuò)大加氫裝置的生產(chǎn)能力，而加氫裂化目前是唯一能夠由質(zhì)化餾分生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)輕質(zhì)餾分油的工藝。加氫反應(yīng)器是各類石油加工裝置中的關(guān)鍵設(shè)備之一O
[0003]反應(yīng)器內(nèi)部裝置性能的優(yōu)劣與催化劑性能一起決定了加氫工藝的先進(jìn)性。目前反應(yīng)器一般設(shè)置兩個(gè)以上的催化劑床層，加氫反應(yīng)是一個(gè)放熱反應(yīng)的過程。為了使來自上一床層的反應(yīng)物料及熱氫氣適當(dāng)降溫，以滿足下一床層反應(yīng)條件的要求，就要在兩催化劑床層間注入冷氫，冷氫與上一床層的反應(yīng)物料及熱氫氣充分混合，即用冷氫降低反應(yīng)物料溫度，使物料降溫后再進(jìn)入下層催化劑床層進(jìn)行反應(yīng)。
[0004]冷氫是通過冷氫裝置與上一床層的反應(yīng)物料進(jìn)行混合。但是，目前國(guó)內(nèi)設(shè)計(jì)的冷氫裝置存在冷氫和反應(yīng)物料混合不夠充分，從而物料降溫不均勻的現(xiàn)象，物料降溫不均勻會(huì)對(duì)后續(xù)反應(yīng)有持續(xù)的影響，可能會(huì)導(dǎo)致催化劑失效和存在安全隱患。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的是提供一種冷氫裝置及加氫反應(yīng)器，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中冷氫和反應(yīng)物料混合不充分、物料降溫不均勻的問題。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種冷氫裝置，所述冷氫裝置包括能夠噴出冷氫的冷氫管組件，所述冷氫管組件下方設(shè)置有具有進(jìn)料孔的冷氫盤，所述冷氫盤下方設(shè)置有具有噴射孔的噴射盤，所述冷氫盤和所述噴射盤之間設(shè)置有用以延緩從所述冷氫盤出來的流體流向所述噴射盤的緩沖結(jié)構(gòu)，從所述冷氫盤流出的流體經(jīng)過所述緩沖結(jié)構(gòu)后再流向所述噴射盤。
[0007]優(yōu)選地，從所述冷氫盤底面向下延伸有筒體，所述筒體的下端設(shè)置有具有出料孔的底盤，所述進(jìn)料孔設(shè)置在所述冷氫盤的對(duì)應(yīng)所述筒體的上端開口的部位，所述出料孔設(shè)置在所述底盤的對(duì)應(yīng)所述筒體的下端開口的部位;所述緩沖結(jié)構(gòu)包括所述冷氫盤、所述筒體及所述底盤圍設(shè)形成的混合室。
[0008]優(yōu)選地，所述混合室上形成有能夠使得從所述冷氫盤流出的流體在所述混合室中旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的旋流結(jié)構(gòu)。
[0009]優(yōu)選地，所述進(jìn)料孔和所述出料孔上下錯(cuò)開布置形成能夠使得所述混合室中的流體旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的所述旋流結(jié)構(gòu)。
[0010]優(yōu)選地，所述進(jìn)料孔和/或所述出料孔為長(zhǎng)形孔。
[0011]優(yōu)選地，所述進(jìn)料孔的邊緣上設(shè)置有向下延伸的第一側(cè)板，所述第一側(cè)板的下端連接有擋住部分所述出料孔的底板;和/或，
[0012]圍繞所述出料孔設(shè)置有向上延伸的第二側(cè)板，所述第二側(cè)板的上端覆蓋有頂板，其中所述第二側(cè)板上設(shè)置有多個(gè)延伸至所述底盤的開孔。
[0013]優(yōu)選地，所述冷氫盤和所述噴射盤分別由多塊板體拼接形成。
[00? 4]優(yōu)選地，所述噴射盤通過多個(gè)連接件固定在所述底盤上。
[0015]優(yōu)選地，所述冷氫管組件包括橫向布置的管路，所述管路上設(shè)置有多個(gè)橫向朝向的排氣孔。
[0016]優(yōu)選地，所述冷氫管組件的橫向布置的所述管路包括用于輸入冷氫的輸入管路及與所述輸入管路連通的設(shè)置在所述冷氫盤上方的環(huán)形管路，在所述環(huán)形管路的環(huán)形結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)設(shè)置有與所述環(huán)形管路連通的支管路；
[0017]所述環(huán)形管路和所述支管路的兩側(cè)分別設(shè)置有間隔布置的多個(gè)所述排氣孔。
[0018]優(yōu)選地，所述冷氫管組件的管路底部設(shè)置有排污孔。
[0019]本實(shí)用新型還提供一種加氫反應(yīng)器，所述加氫反應(yīng)器包括反應(yīng)器殼體，所述反應(yīng)器殼體內(nèi)設(shè)置有如上所述的冷氫裝置，所述冷氫裝置的所述冷氫盤和所述噴射盤固定在所述反應(yīng)器殼體的內(nèi)壁上。
[0020]本實(shí)用新型提供的冷氫裝置及加氫反應(yīng)器，通過在冷氫盤和噴射盤之間設(shè)置緩沖結(jié)構(gòu)，從冷氫盤流出的流體(即冷氫以及上一反應(yīng)床層的反應(yīng)產(chǎn)物和熱氫氣)經(jīng)過緩沖結(jié)構(gòu)后再流向噴射盤，可延長(zhǎng)所述流體從冷氫盤流至噴射盤的時(shí)間，這樣冷氫與來自上一床層的反應(yīng)產(chǎn)物和熱氫氣具有充足的時(shí)間混合，使得自上一床層的反應(yīng)產(chǎn)物及熱氫氣能夠被均勻降溫，以滿足下一床層反應(yīng)條件的要求。
[0021]本實(shí)用新型的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的【具體實(shí)施方式】部分予以詳細(xì)說明。
【附圖說明】
[0022]附圖是用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本實(shí)用新型，但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在附圖中:
[0023]圖1為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施方式中冷氫裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2為從圖1中的冷氫管組件上方看的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為從圖1中的冷氫盤上方看的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為從圖1中的噴射盤上方看的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖5為圖1中A處放大圖。
[0028]附圖標(biāo)記說明:
[0029]1-冷氫管組件；11-輸入管路；
[0030]12-環(huán)形管路；13-支管路；
[0031]14-接頭；15-支撐件；
[0032]16-U形螺栓；17-連接法蘭；
[0033]18-排污孔；2-冷氫盤；
[0034]21-進(jìn)料孔；22-第一側(cè)板；
[0035]23-底板；24-蓋板；
[0036]25-環(huán)形板；3-噴射盤；
[0037]31-噴射孔；32-墊板；
[0038]4-混合室；5-筒體；
[0039]6-底盤；61-出料孔；
[0040]62-第二側(cè)板；63-頂板；
[0041]64-開孔；7-連接件；
[0042]8-環(huán)形支撐；9-支撐梁；
[0043]10-反應(yīng)器殼體。
【具體實(shí)施方式】
[0044]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限制本實(shí)用新型。
[0045]在本實(shí)用新型的描述中，術(shù)語“上”、“下”等指示方位或位置關(guān)系的詞是基于各結(jié)構(gòu)部件應(yīng)用在冷氫反應(yīng)器中時(shí)的方位或位置。
[0046]本實(shí)用新型提供一種冷氫裝置，如圖1所示，該冷氫裝置包括能夠噴出冷氫的冷氫管組件I，所述冷氫管組件I下方設(shè)置有具有進(jìn)料孔21的冷氫盤2，冷氫盤2下方設(shè)置有具有噴射孔31 (圖4)的噴射盤3，其中，所述冷氫盤2和所述噴射盤3之間設(shè)置有用以延緩從冷氫盤2出來的流體流向噴射盤3的緩沖結(jié)構(gòu)，從冷氫盤2流出的流體(該流體為從冷氫管組件I噴出的冷氫以及來自上一反應(yīng)床層的反應(yīng)物料和熱氫氣)經(jīng)過所述緩沖結(jié)構(gòu)后再流向所述噴射盤3。
[0047]本實(shí)用新型提供的冷氫裝置通過設(shè)置緩沖結(jié)構(gòu)，從冷氫盤2流出的流體(即冷氫以及上一反應(yīng)床層的反應(yīng)物料和熱氫氣)經(jīng)過緩沖結(jié)構(gòu)后再流向噴射盤3，然后從噴射盤3向下噴出，可延長(zhǎng)所述流體從冷氫盤2流至噴射盤3的時(shí)間，這樣冷氫與來自上一床層的反應(yīng)物料和熱氫氣具有充足的時(shí)間混合，使得自上一床層的反應(yīng)產(chǎn)物及熱氫氣能夠被充分地均勻降溫，以滿足下一床層反應(yīng)條件的要求。
[0048]在本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式中，如圖1所示，從冷氫盤2底面向下延伸有筒體5，筒體5的下端設(shè)置有具有出料孔61底盤6，所述進(jìn)料孔21設(shè)置在冷氫盤2的對(duì)應(yīng)所述筒體5的上端開口的部位，所述出料孔61設(shè)置在底盤6的對(duì)應(yīng)所述筒體5的下端開口的部位，所述緩沖結(jié)構(gòu)包括所述冷氫盤2、筒體5及底盤6所圍設(shè)形成的混合室4。
[0049]優(yōu)選地，所述混合室4上形成有能夠使得從所述冷氫盤2流出的流體在所述混合室4中旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的旋流結(jié)構(gòu)，所述流體在經(jīng)過混合室4中時(shí)，在混合室4中旋轉(zhuǎn)流動(dòng)，不僅可延長(zhǎng)流體在混合室4中停留的時(shí)間，而且可使得混合室4中的氣液更充分地混合。
[0050]本實(shí)施方式中，所述筒體5的上端開口處的所述進(jìn)料孔21和所述筒體5的下端開口處的所述出料孔61上下錯(cuò)開布置形成能夠使得所述混合室4中的流體旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的所述旋流結(jié)構(gòu)?？梢岳斫?，設(shè)置進(jìn)料孔21和出料孔61錯(cuò)開布置，從進(jìn)料孔21進(jìn)入到混合室4的流體需旋轉(zhuǎn)流動(dòng)才能進(jìn)入到出料孔61，由此實(shí)現(xiàn)流體在混合室4中的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)，所述流體通過旋轉(zhuǎn)流動(dòng)達(dá)到延長(zhǎng)流動(dòng)時(shí)間以及充分混合的目的，從而使得流體更有效地進(jìn)行熱交換。
[0051]具體的，如圖3所示，冷氫盤2上具體設(shè)置有兩個(gè)進(jìn)料孔21，兩個(gè)進(jìn)料孔21在冷氫盤2的相對(duì)于中心對(duì)稱的位置上;底盤6上也設(shè)置有兩個(gè)出料孔61，分別位于底盤6的與進(jìn)料孔21相錯(cuò)開的位置上，這樣從進(jìn)料孔21進(jìn)入的流體旋轉(zhuǎn)流動(dòng)后從出料孔61流出。其中所述進(jìn)料孔21和/或出料孔61優(yōu)選為長(zhǎng)形孔。
[0052]本實(shí)施方式中，優(yōu)選地，如圖3和圖5所示，冷氫盤2的進(jìn)料孔21的邊緣設(shè)置有向下延伸的第一側(cè)板22，第一側(cè)板22的下端連接有擋住部分所述出料孔21的底板23。
[0053]優(yōu)選地，圍繞底盤6的出料孔61設(shè)置有向上延伸的第二側(cè)板62，所述第二側(cè)板62的上端覆蓋有頂板63，其中第二側(cè)板62上設(shè)置有多個(gè)延伸至所述底盤6的開孔64。
[0054]冷氫盤2上的流體進(jìn)入進(jìn)料孔21后，部分流體撞擊底板23后從開口處流向底盤6，部分流體再撞擊出料孔61上的頂板63，再流向底盤6上，然后從第二側(cè)板62上的開孔64流至底盤6下方的噴射盤3。進(jìn)料孔21上的第一側(cè)板22和底板23以及出料孔61上的第二側(cè)板62和頂板63的設(shè)置使得氣液混合流體在混合室4中沖撞混合，并且在混合室4中混合的時(shí)間進(jìn)一步延長(zhǎng)，流體的混合得到進(jìn)一步的強(qiáng)化，從而冷氫的冷卻效果更好。
[0055]在此需說明的是，本實(shí)用新型提供的冷氫裝置中的緩沖結(jié)構(gòu)并不限于本實(shí)施方式中的混合室4，在冷氫盤2和噴射盤3之間設(shè)置的任何能夠阻止從冷氫盤2流出的流體直接流向噴射盤3的結(jié)構(gòu)均可。如在冷氫盤2和噴射盤3之間僅設(shè)置具有開孔的板體，也能夠延緩流體流向噴射盤3的時(shí)間。
[0056]另外還需說明的是，能夠使得混合室4中的流體旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的旋流結(jié)構(gòu)并不限于本實(shí)施方式中的上下錯(cuò)開布置的進(jìn)料孔21和出料孔61，如在混合室4中設(shè)置螺旋的流道的方式也可使得流體在混合室4中旋轉(zhuǎn)流動(dòng)。
[0057]本實(shí)施方式中，如圖3所示，冷氫盤2由多塊板體拼接形成，每塊板體的大小設(shè)置為均能從反應(yīng)器入口進(jìn)出。具體的，冷氫盤2包括位于所述筒體5上端開口的蓋板24及圍繞所述蓋板24固定的環(huán)形板25，進(jìn)料孔21設(shè)置在所述蓋板24上。其中蓋板24和環(huán)形板25進(jìn)一步由兩塊或多塊板體拼接形成。在該冷氫盤2的各板體拼接處的下面設(shè)置有支撐板體的支撐梁9(支撐梁9可由鋼板焊接而成)，且各板體可通過緊固件與支撐梁9固定連接，為防止泄露，在支撐梁9與各板體連接處可設(shè)置密封墊片。在該冷氫裝置安裝于反應(yīng)器內(nèi)時(shí)，可在反應(yīng)器的內(nèi)壁上設(shè)置環(huán)形支撐8，環(huán)形支撐8可采用不銹鋼板并通過焊接的方式固定在反應(yīng)器內(nèi)壁上。冷氫盤2可通過緊固件或卡子固定在環(huán)形支撐8上，冷氫盤2與環(huán)形支撐8連接處可設(shè)置密封墊片。
[0058]噴射盤3也可由多塊板體拼接形成，如圖4所示，每塊板體的大小設(shè)置為均能從反應(yīng)器入口進(jìn)出。各板體之間可通過墊板32和緊固件連接。噴射盤3的周邊可設(shè)置多個(gè)連接件7，多個(gè)連接件7固定在底盤6上。
[0059]噴射盤3上設(shè)置有多個(gè)噴射孔31，噴射孔31在盤面上可按三角形排列均勻分布，流體從多個(gè)噴射孔31向下噴出，噴出的流體再流至下面的再分配器上進(jìn)行再分配。
[0060]本實(shí)施方式中，如圖1和圖2所示，所述冷氫管組件I包括橫向布置的管路(其中所述橫向指大致平行于冷卻盤2的方向)，冷氫在橫向管路中布置均勻;所述管路上設(shè)置有多個(gè)橫向朝向的排氣孔，也就是說排氣孔朝向大致平行于冷卻盤2的方向，排氣孔橫向朝向可使得來自上一床層的反應(yīng)物及熱氫氣在下落的過程中與所述排氣孔排出的冷氫較好地接觸，以交換更多的熱量。
[0061]優(yōu)選地，所述冷氫管組件I包括用于輸入冷氫的輸入管路11及與所述輸入管路11連通的設(shè)置在所述冷氫盤2上方的環(huán)形管路12，在環(huán)形管路12的環(huán)形結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)設(shè)置有與所述環(huán)形管路12連通的支管路13。其中，支管路13可為如圖2中所示的十字交叉結(jié)構(gòu)，也可為環(huán)形管路12的環(huán)形結(jié)構(gòu)內(nèi)側(cè)設(shè)置的單根管路或多根并行管路。
[0062]所述環(huán)形管12和所述支管路13的兩側(cè)分別設(shè)置有間隔布置的多個(gè)所述排氣孔。
[0063]另外，由于冷氫管組件I上的排氣孔橫向設(shè)置，冷氫管組件的管路中的雜質(zhì)難以排除，為此冷氫管組件I的管路底部設(shè)置有排污孔18。
[0064]為方便冷氫管組件I能夠進(jìn)入反應(yīng)器內(nèi)進(jìn)行安裝，冷氫管組件I可由多段管路組成，每段管路的大小設(shè)置為可從反應(yīng)器的人孔進(jìn)出。如圖2中，環(huán)形管路12與支管路13均包括有多段管路，環(huán)形管路12的各段管路以及支管路13的各段管路之間可通過連接法蘭17連接，而環(huán)形管路12與支管路13可通過焊接的方式連接，輸入管路11通過接頭14與外部的輸入冷氫的管路連接，輸入管路11可從反應(yīng)器內(nèi)部抽出。
[0065]冷氫管組件I的安裝如圖1和圖2所示，環(huán)形管路12下方有多個(gè)支撐件15，環(huán)形管路12可通過U形螺栓16固定在支撐件15上，多個(gè)支撐件15下端支撐在冷氫盤2上以保證冷氫管的水平，冷氫在管路內(nèi)能夠均勻分布。
[0066]本實(shí)用新型還提供一種加氫反應(yīng)器，該加氫反應(yīng)器包括反應(yīng)器殼體10，反應(yīng)器殼體10內(nèi)設(shè)置有如上所述的冷氫裝置，所述冷氫裝置的所述冷氫盤2和所述噴射盤3固定在反應(yīng)器殼體10的內(nèi)壁上。
[0067]本實(shí)用新型提供的加氫反應(yīng)器，采用如上所述的冷氫裝置可使得輸入的冷氫與來自上一床層的流體充分混合，從而進(jìn)行充分的熱交換，使物料降溫均勻，利于下面床層的反應(yīng)。
[0068]以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本實(shí)用新型并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型，這些簡(jiǎn)單變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0069]另外需要說明的是，在上述【具體實(shí)施方式】中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合，為了避免不必要的重復(fù)，本實(shí)用新型對(duì)各種可能的組合方式不再另行說明。
[0070]此外，本實(shí)用新型的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本實(shí)用新型的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本實(shí)用新型所公開的內(nèi)容。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種冷氫裝置，所述冷氫裝置包括能夠噴出冷氫的冷氫管組件(I)，所述冷氫管組件(1)下方設(shè)置有具有進(jìn)料孔(21)的冷氫盤(2)，所述冷氫盤(2)下方設(shè)置有具有噴射孔(31)的噴射盤(3)，其特征在于，所述冷氫盤(2)和所述噴射盤(3)之間設(shè)置有用以延緩從所述冷氫盤(2)出來的流體流向所述噴射盤(3)的緩沖結(jié)構(gòu)，從所述冷氫盤(2)流出的流體經(jīng)過所述緩沖結(jié)構(gòu)后再流向所述噴射盤(3)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷氫裝置，其特征在于，從所述冷氫盤(2)底面向下延伸有筒體(5)，所述筒體(5)的下端設(shè)置有具有出料孔(61)的底盤(6)，所述進(jìn)料孔(21)設(shè)置在所述冷氫盤(2)的對(duì)應(yīng)所述筒體(5)的上端開口的部位，所述出料孔(61)設(shè)置在所述底盤(6)的對(duì)應(yīng)所述筒體(5)的下端開口的部位;所述緩沖結(jié)構(gòu)包括所述冷氫盤(2)、所述筒體(5)及所述底盤(6)圍設(shè)形成的混合室(4)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷氫裝置，其特征在于，所述混合室(4)上形成有能夠使得從所述冷氫盤(2)流出的流體在所述混合室(4)中旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的旋流結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷氫裝置，其特征在于，所述進(jìn)料孔(21)和所述出料孔(61)上下錯(cuò)開布置形成能夠使得所述混合室(4)中的流體旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的所述旋流結(jié)構(gòu)。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷氫裝置，其特征在于，所述進(jìn)料孔(21)和/或所述出料孔(61)為長(zhǎng)形孔。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷氫裝置，其特征在于，所述進(jìn)料孔(21)的邊緣上設(shè)置有向下延伸的第一側(cè)板(22)，所述第一側(cè)板(22)的下端連接有擋住部分所述出料孔(21)的底板(23);和/或， 圍繞所述出料孔(61)設(shè)置有向上延伸的第二側(cè)板(62)，所述第二側(cè)板(62)的上端覆蓋有頂板(63)，其中所述第二側(cè)板(62)上設(shè)置有多個(gè)延伸至所述底盤(6)的開孔(64)。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷氫裝置，其特征在于，所述冷氫盤(2)和所述噴射盤(3)分別由多塊板體拼接形成。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷氫裝置，其特征在于，所述噴射盤(3)通過多個(gè)連接件(7)固定在所述底盤(6)上。9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任意一項(xiàng)所述的冷氫裝置，其特征在于，所述冷氫管組件(I)包括橫向布置的管路，所述管路上設(shè)置有多個(gè)橫向朝向的排氣孔。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的冷氫裝置，其特征在于，所述冷氫管組件(I)的橫向布置的所述管路包括用于輸入冷氫的輸入管路(11)及與所述輸入管路(11)連通的設(shè)置在所述冷氫盤(2)上方的環(huán)形管路(12)，在所述環(huán)形管路(12)的環(huán)形結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)設(shè)置有與所述環(huán)形管路(12)連通的支管路(13); 所述環(huán)形管路(12)和所述支管路(13)的兩側(cè)分別設(shè)置有間隔布置的多個(gè)所述排氣孔。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的冷氫裝置，其特征在于，所述冷氫管組件(I)的管路底部設(shè)置有排污孔(18)。12.—種加氫反應(yīng)器，其特征在于，所述加氫反應(yīng)器包括反應(yīng)器殼體(10)，所述反應(yīng)器殼體(10)內(nèi)設(shè)置有權(quán)利要求1-11中任意一項(xiàng)所述的冷氫裝置，所述冷氫裝置的所述冷氫盤(2)和所述噴射盤(3)固定在所述反應(yīng)器殼體(1)的內(nèi)壁上。
【文檔編號(hào)】C10G47/36GK205420294SQ201620212547
【公開日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2016年3月18日
【發(fā)明人】曲良龍
【申請(qǐng)人】北京安耐吉能源工程技術(shù)有限公司