本發(fā)明屬于藥物研磨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種滾軸型藥物研磨裝置。
背景技術(shù)：
在西藥加工過(guò)程中，有時(shí)需要對(duì)西藥進(jìn)行研磨，傳統(tǒng)技術(shù)(如中國(guó)專(zhuān)利cn204219401u)的研磨器主要是由電動(dòng)機(jī)、研磨桿、研磨球、導(dǎo)氣管和密封塊組成，其主要是通過(guò)研磨球配合裝置殼體的內(nèi)壁實(shí)現(xiàn)研磨，然后再通過(guò)導(dǎo)氣管對(duì)粘附在壁面上的粉末吹下，其會(huì)影響研磨的效率，同時(shí)也不能及時(shí)清理壁面的粉末，不便于回收，從而會(huì)造成藥物的浪費(fèi)，故而適用性和實(shí)用性受到限制。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的是提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置合理且使用穩(wěn)定性好的滾軸型藥物研磨裝置。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是一種滾軸型藥物研磨裝置，包括設(shè)有研磨腔的裝置殼體，在所述裝置殼體的側(cè)壁頂部固定有進(jìn)料斗，在所述裝置殼體的底壁上設(shè)有出料通口，在所述裝置殼體內(nèi)設(shè)有兩個(gè)豎向軸桿，在所述裝置殼體的頂壁固定有兩個(gè)升降座，在所述升降座上設(shè)有豎向滑槽，所述述裝置殼體的頂面設(shè)有兩個(gè)研磨電機(jī)座，在所述研磨電機(jī)座上固定有研磨電機(jī)，在所述研磨電機(jī)座的側(cè)面固定有升降滑塊，所述升降滑塊處于豎向滑槽內(nèi)且在所述升降滑塊與所述豎向滑槽的頂壁之間有升降氣缸，兩個(gè)豎向軸桿分別與研磨電機(jī)相連接且穿過(guò)裝置殼體的頂壁伸入研磨腔內(nèi)，在所述裝置殼體的頂壁上設(shè)有導(dǎo)氣管，所述兩個(gè)豎向軸桿的表面相接觸同時(shí)分別接觸在研磨腔壁上，在所述裝置殼體的底部設(shè)有集料結(jié)構(gòu)。
所述集料結(jié)構(gòu)包括集料箱，在所述集料箱的進(jìn)料口與出料通口之間有傾斜引料板，所述傾斜引料板的頂端通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸連接在出料通口處且所述傾斜引流板的底端伸入所述集料箱內(nèi)。
在所述集料箱的外壁上固定有振動(dòng)座，所述振動(dòng)座處于傾斜導(dǎo)料板的正下方，在所述振動(dòng)座的頂部固定有振動(dòng)電機(jī)，所述振動(dòng)電機(jī)通過(guò)連接桿抵壓在傾斜導(dǎo)料板的底面中心。
所述研磨腔的內(nèi)壁為倒圓臺(tái)形設(shè)置，所述研磨腔的底部寬度與兩個(gè)豎向軸桿的直徑總和相同且研磨腔的頂端寬度為底部寬度的1.5倍。
在所述豎向軸桿的表面和研磨腔的內(nèi)壁均設(shè)有研磨紋槽。
在所述研磨腔的頂壁設(shè)有刮掃板，在所述刮掃板的頂面與研磨腔的頂壁之間有氣缸，在所述刮掃板上有兩個(gè)軸孔，所述豎向軸桿穿過(guò)所述軸孔設(shè)置，所述導(dǎo)氣管的出風(fēng)口處于刮掃板上。
在所述刮掃板的外環(huán)邊上和軸孔內(nèi)內(nèi)圓面上均固定有塑料掃須。
在所述豎向軸桿與所述裝置殼體的頂壁之間有密封橡膠圈。
在所述裝置殼體上有電源接頭和進(jìn)氣管，在所述進(jìn)氣管與氣缸、進(jìn)氣管與升降氣缸之間均設(shè)有控制氣閥。
在所述導(dǎo)氣管上有控制開(kāi)關(guān)，在出料通口內(nèi)設(shè)有控制閘板。
本發(fā)明具有積極的效果：本發(fā)明的結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，使用方便，可以根據(jù)需要使兩個(gè)豎向軸桿同時(shí)或單個(gè)升降，通過(guò)兩個(gè)豎向軸桿之間及豎向軸桿與研磨腔壁之間完成對(duì)藥物的研磨，一定程度上可提高研磨的效率，同時(shí)也可以避免粉末堆積在一起，從而提高研磨的質(zhì)量，同時(shí)設(shè)置有集料結(jié)構(gòu)，可有效的完成粉末的收集，使用穩(wěn)定性好且適用性強(qiáng)，實(shí)用性好。
附圖說(shuō)明
為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，其中：
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
(實(shí)施例1)
圖1顯示了本發(fā)明的一種具體實(shí)施方式，其中圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
見(jiàn)圖1，一種滾軸型藥物研磨裝置，包括設(shè)有研磨腔1的裝置殼體2，在所述裝置殼體2的側(cè)壁頂部固定有進(jìn)料斗3，在所述裝置殼體2的底壁上設(shè)有出料通口4，在所述裝置殼體2內(nèi)設(shè)有兩個(gè)豎向軸桿5，在所述裝置殼體2的頂壁固定有兩個(gè)升降座6，在所述升降座上設(shè)有豎向滑槽7，所述述裝置殼體的頂面設(shè)有兩個(gè)研磨電機(jī)座8，在所述研磨電機(jī)座上固定有研磨電機(jī)9，在所述研磨電機(jī)座的側(cè)面固定有升降滑塊10，所述升降滑塊處于豎向滑槽內(nèi)且在所述升降滑塊與所述豎向滑槽的頂壁之間有升降氣缸11，兩個(gè)豎向軸桿分別與研磨電機(jī)相連接且穿過(guò)裝置殼體的頂壁伸入研磨腔內(nèi)，在所述裝置殼體的頂壁上設(shè)有導(dǎo)氣管12，所述兩個(gè)豎向軸桿的表面相接觸同時(shí)分別接觸在研磨腔壁上，在所述裝置殼體的底部設(shè)有集料結(jié)構(gòu)13。
所述集料結(jié)構(gòu)13包括集料箱131，在所述集料箱131的進(jìn)料口與出料通口4之間有傾斜引料板132，所述傾斜引料板的頂端通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸133連接在出料通口處且所述傾斜引流板的底端伸入所述集料箱內(nèi)。
在所述集料箱131的外壁上固定有振動(dòng)座134，所述振動(dòng)座處于傾斜導(dǎo)料板的正下方，在所述振動(dòng)座的頂部固定有振動(dòng)電機(jī)135，所述振動(dòng)電機(jī)通過(guò)連接桿136抵壓在傾斜導(dǎo)料板的底面中心。
所述研磨腔1的內(nèi)壁為倒圓臺(tái)形設(shè)置，所述研磨腔的底部寬度與兩個(gè)豎向軸桿的直徑總和相同且研磨腔的頂端寬度為底部寬度的1.5倍。
在所述豎向軸桿的表面和研磨腔的內(nèi)壁均設(shè)有研磨紋槽14。
在所述研磨腔的頂壁設(shè)有刮掃板15，在所述刮掃板的頂面與研磨腔的頂壁之間有氣缸16，在所述刮掃板上有兩個(gè)軸孔17，所述豎向軸桿穿過(guò)所述軸孔設(shè)置，所述導(dǎo)氣管的出風(fēng)口處于刮掃板上。
在所述刮掃板的外環(huán)邊上和軸孔內(nèi)內(nèi)圓面上均固定有塑料掃須18。
在所述豎向軸桿與所述裝置殼體的頂壁之間有密封橡膠圈19。
在所述裝置殼體上有電源接頭20和進(jìn)氣管21，在所述進(jìn)氣管與氣缸、進(jìn)氣管與升降氣缸之間均設(shè)有控制氣閥22。
在所述導(dǎo)氣管上有控制開(kāi)關(guān)23，在出料通口內(nèi)設(shè)有控制閘板24。
本發(fā)明的結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，使用方便，可以根據(jù)需要使兩個(gè)豎向軸桿同時(shí)或單個(gè)升降，通過(guò)兩個(gè)豎向軸桿之間及豎向軸桿與研磨腔壁之間完成對(duì)藥物的研磨，一定程度上可提高研磨的效率，同時(shí)也可以避免粉末堆積在一起，從而提高研磨的質(zhì)量，同時(shí)設(shè)置有集料結(jié)構(gòu)，可有效的完成粉末的收集，使用穩(wěn)定性好且適用性強(qiáng)，實(shí)用性好。
顯然，本發(fā)明的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本發(fā)明所作的舉例，而并非是對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而這些屬于本發(fā)明的實(shí)質(zhì)精神所引伸出的顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。