本實(shí)用新型屬于等離子體技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種等離子體聚合涂層裝置。

背景技術(shù)：

等離子體聚合涂層是一種重要的表面處理方法。在等離子體聚合涂層過程中，將需要處理的基材放在真空室內(nèi)，在真空狀態(tài)下通入工藝氣體和氣態(tài)有機(jī)類單體，通過放電把有機(jī)類氣態(tài)單體等離子體化，使其產(chǎn)生各類活性種，由這些活性種之間或活性種與單體之間進(jìn)行加成反應(yīng)形成聚合物。在等離子體聚合涂層的工業(yè)應(yīng)用中，為了盡可能提高處理批量和降低處理成本，需要盡可能增大真空室的容積以便能夠同時(shí)容納更多的基材接受處理。但是現(xiàn)有技術(shù)的等離子體聚合涂層裝置采用方形的真空室，隨著真空室容積的增大，空間等離子體的均勻性變差，同一批處理的不同基材由于所處位置與電極、單體/載體氣體出口、真空排氣口等之間距離的差別增大，使批處理產(chǎn)品質(zhì)量均勻性變差，從而不能進(jìn)一步增大真空室容積實(shí)現(xiàn)提高處理效率和降低處理成本。目前等離子體聚合涂層加工需求和批量正日益增加，急需解決現(xiàn)有等離子體聚合涂層裝置和技術(shù)存在的容積小、批量小、效率低、成本高、批處理均勻性差的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種管狀大容積等離子體聚合涂層裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)存在的容積小、批量小、效率低、成本高、批處理均勻性差的問題。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下：

一種管狀大容積等離子體聚合涂層裝置，其特征在于：真空室為管狀，真空室的內(nèi)壁上安裝有電極和導(dǎo)軌，其中電極為柱面形，位于與真空室同軸的柱面上，電極分開為至少兩部分，留出的空隙安裝導(dǎo)軌，電極與導(dǎo)軌不接觸；治具安裝在導(dǎo)軌上，與真空室同軸，待處理的基材裝在治具內(nèi)，真空室的頂部沿軸向間隔設(shè)置載體氣體管路和單體蒸汽管路，真空室的底部沿軸向間隔設(shè)置真空排氣管路，真空室的兩端安裝真空室門。

所述的真空室的內(nèi)徑為30-80cm，長度為0.5-10m。

所述的電極與真空室內(nèi)壁之間的間隙為10-60mm。

所述的電極上布滿通孔，孔徑為2-30mm，孔間隔為2-30mm，電極的材質(zhì)為鋁或不銹鋼。

所述的每相鄰兩個(gè)載體氣體管路之間的間隔為30-80cm，所述每相鄰兩個(gè)單體蒸汽管路之間的間隔為30-80cm，所述每相鄰兩個(gè)真空排氣管路之間的間隔為30-80cm。

所述的治具為金屬或塑料制成的筒狀籠子。

本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)：

(1)本實(shí)用新型裝置真空室沿軸向伸長擴(kuò)大容積，徑向尺度小，空間等離子體分布均勻，同一批處理的不同基材所處位置與電極、單體/載體氣體出口、真空排氣口等之間距離的差別小，批處理產(chǎn)品質(zhì)量均勻性良好。

(2)真空室容積的增大不影響等離子體的分布和基材所處等離子體環(huán)境，易于增大真空室容積、加大處理批量、提高處理效率、降低處理成本。

(3)真空室的容積大，等離子體的均勻性良好，處理批量大、效率高、成本低，批處理產(chǎn)品質(zhì)量均勻性良好。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、真空室，2、電極，3、導(dǎo)軌，4、治具，5、基材，6、載體氣體管路，7、單體蒸汽管路，8、真空排氣管路，9、真空室門。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例詳細(xì)說明本實(shí)用新型，但本實(shí)用新型并不局限于具體實(shí)施例。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種管狀大容積等離子體聚合涂層裝置，真空室1為管狀，真空室1的內(nèi)徑為30cm，長度為10m，真空室1的內(nèi)壁上安裝有電極2和導(dǎo)軌3，所述的電極2與真空室1內(nèi)壁之間的間隙為10mm，其中電極2為柱面形，位于與真空室1同軸的柱面上，電極2分開為左右兩部分，留出中間的空隙安裝導(dǎo)軌3，電極2與導(dǎo)軌3不接觸，所述的電極上布滿通孔，孔徑為2mm，孔間隔為2mm，電極的材質(zhì)為鋁或不銹鋼；治具4安裝在導(dǎo)軌3上，與真空室1同軸，待處理的基材5裝在治具4內(nèi)，所述的治具4為金屬或塑料制成的筒狀籠子，真空室1的頂部沿軸向間隔設(shè)置載體氣體管路6和單體蒸汽管路7，載體氣體管路連接到載體氣體源，單體蒸汽管路連接到單體蒸汽源，所述的每相鄰兩個(gè)載體氣體管路6之間的間隔為80cm，所述每相鄰兩個(gè)單體蒸汽管路7之間的間隔為80cm，真空室1的底部沿軸向間隔設(shè)置真空排氣管路8，真空排氣管路連接到真空泵，所述每相鄰兩個(gè)真空排氣管路8之間的間隔為80cm，真空室1的兩端安裝真空室門9，供治具送入和取出。

實(shí)施例2

一種管狀大容積等離子體聚合涂層裝置，真空室1為管狀，真空室1的內(nèi)徑為80cm，長度為0.5m，真空室1的內(nèi)壁上安裝有電極2和導(dǎo)軌3，所述的電極2與真空室1內(nèi)壁之間的間隙為60mm，其中電極2為柱面形，位于與真空室1同軸的柱面上，電極2分開為三部分，留出的空隙安裝導(dǎo)軌3，電極2與導(dǎo)軌3不接觸，所述的電極上布滿通孔，孔徑為30mm，孔間隔為30mm，電極的材質(zhì)為鋁或不銹鋼；治具4安裝在導(dǎo)軌3上，與真空室1同軸，待處理的基材5裝在治具4內(nèi)，所述的治具4為金屬或塑料制成的筒狀籠子，真空室1的頂部沿軸向間隔設(shè)置載體氣體管路6和單體蒸汽管路7，所述的每相鄰兩個(gè)載體氣體管路6之間的間隔為30cm，所述每相鄰兩個(gè)單體蒸汽管路7之間的間隔為30cm，真空室1的底部沿軸向間隔設(shè)置真空排氣管路8，所述每相鄰兩個(gè)真空排氣管路8之間的間隔為30cm，真空室1的兩端安裝真空室門9，供治具送入和取出。

實(shí)施例3

一種管狀大容積等離子體聚合涂層裝置，真空室1為管狀，真空室1的內(nèi)徑為50cm，長度為5m，真空室1的內(nèi)壁上安裝有電極2和導(dǎo)軌3，所述的電極2與真空室1內(nèi)壁之間的間隙為30mm，其中電極2為柱面形，位于與真空室1同軸的柱面上，電極2分開為六部分，留出中間的空隙安裝導(dǎo)軌3，電極2與導(dǎo)軌3不接觸，所述的電極上布滿通孔，孔徑為15mm，孔間隔為15mm，電極的材質(zhì)為鋁或不銹鋼；治具4安裝在導(dǎo)軌3上，與真空室1同軸，待處理的基材5裝在治具4內(nèi)，所述的治具4為金屬或塑料制成的筒狀籠子，真空室1的頂部沿軸向間隔設(shè)置載體氣體管路6和單體蒸汽管路7，所述的每相鄰兩個(gè)載體氣體管路6之間的間隔為50cm，所述每相鄰兩個(gè)單體蒸汽管路7之間的間隔為50cm，真空室1的底部沿軸向間隔設(shè)置真空排氣管路8，所述每相鄰兩個(gè)真空排氣管路8之間的間隔為50cm，真空室1的兩端安裝真空室門9，供治具送入和取出。