技術(shù)編號：12812740
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于等離子體技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種等離子體聚合涂層裝置。背景技術(shù)等離子體聚合涂層是一種重要的表面處理方法。在等離子體聚合涂層過程中，將需要處理的基材放在真空室內(nèi)，在真空狀態(tài)下通入工藝氣體和氣態(tài)有機(jī)類單體，通過放電把有機(jī)類氣態(tài)單體等離子體化，使其產(chǎn)生各類活性種，由這些活性種之間或活性種與單體之間進(jìn)行加成反應(yīng)形成聚合物。在等離子體聚合涂層的工業(yè)應(yīng)用中，為了盡可能提高處理批量和降低處理成本，需要盡可能增大真空室的容積以便能夠同時容納更多的基材接受處理。但是現(xiàn)有技術(shù)的等離子體聚合涂層裝置采用方形...
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