溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，屬于金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極作為溶液中微弧等離子體處理系統(tǒng)的主要部分，必須通過合理的設(shè)計(jì)方案和加工方法，保證足夠的精度。專利CN104084700A公開了小電流擺動(dòng)電弧陰極霧化氧化膜清理方法，該方法是利用反接電弧的陰極霧化作用去除鋁、鎂等合金表面的氧化膜，是采用反極性小電流產(chǎn)生的陰極霧化作用結(jié)合電弧的移動(dòng)或擺動(dòng)對(duì)待處理區(qū)的氧化膜進(jìn)行清理。專利CN103806016A公開了一種陰極鋼棒的清理方法及裝置，該方法通過呈門字形設(shè)在陰極鋼棒上方和左右兩側(cè)的鋼刷對(duì)陰極鋼棒的三面進(jìn)行清理；清理過程中，鋼刷的位置基本固定不動(dòng)，鋼刷在電機(jī)的帶動(dòng)下高速旋轉(zhuǎn)，陰極鋼棒放置在機(jī)架的一組支撐軸上，壓缸沿陰極鋼棒的軸向推動(dòng)陰極鋼棒通過三個(gè)高速旋轉(zhuǎn)的鋼刷之間的門字形間隙，通過高速旋轉(zhuǎn)鋼刷將陰極鋼棒表面的氧化皮及鐵銹去除。上述兩項(xiàng)專利敘述了去除鋁、鎂等合金和鋼棒表面的氧化膜的方法和裝置，但不足之處在于沒有涉及到最難去除的不銹鋼管表面氧化皮的方法和結(jié)構(gòu)。因此，目前還沒有溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮的陰極裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]目的:為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供一種溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，用于去除不銹鋼管氧化皮，能保證去除過程的連續(xù)性和重復(fù)性，為不銹鋼管氧化皮均勻去除提供機(jī)械和電場(chǎng)保證，避免了化學(xué)處理復(fù)雜的工序和對(duì)環(huán)境的污染，對(duì)所處理基材影響小。
[0004]技術(shù)方案:為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置為中心開設(shè)有圓形通孔的圓環(huán)柱體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)水孔、環(huán)形水道和排噴水孔；陰極裝置的外壁開設(shè)進(jìn)水孔，陰極裝置的內(nèi)壁開設(shè)有與進(jìn)水孔位置相對(duì)應(yīng)環(huán)形均勻布置的噴水孔，進(jìn)水孔與噴水孔之間通過陰極裝置內(nèi)部開設(shè)的環(huán)形水道相連通。
[0005]所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置圓形通孔的直徑與不銹鋼管外徑相對(duì)應(yīng)。
[0006]所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置的材質(zhì)為鈰鎢、鑭鎢、鋯鎢、釔鎢中的一種。
[0007]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述進(jìn)水孔的開孔方向與陰極裝置的外壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。
[0008]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述噴水孔的開孔方向與陰極裝置的內(nèi)壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。
[0009]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述噴水孔的進(jìn)水口大于出水口，噴水孔為內(nèi)部直徑呈逐漸變小的圓錐臺(tái)形結(jié)構(gòu)。
[0010]有益效果:本發(fā)明提供的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，用于去除不銹鋼管氧化皮，能保證去除過程的連續(xù)性和重復(fù)性，為不銹鋼管氧化皮均勻去除提供機(jī)械和電場(chǎng)保證，避免了化學(xué)處理復(fù)雜的工序和對(duì)環(huán)境的污染，對(duì)所處理基材影響小。
【附圖說明】
[0011]圖1至圖3為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖中:圓形通孔1、進(jìn)水孔2、環(huán)形水道3、排噴水孔4。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作更進(jìn)一步的說明。
[0013]如圖1至圖3所示，溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，陰極裝置為中心開設(shè)有圓形通孔I的圓環(huán)柱體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)水孔2、環(huán)形水道3和排噴水孔4 ;陰極裝置的外壁開設(shè)二個(gè)進(jìn)水孔2，陰極裝置的內(nèi)壁開設(shè)有雙排與進(jìn)水孔位置相對(duì)應(yīng)環(huán)形均勻布置的噴水孔4，進(jìn)水孔2與噴水孔4之間通過陰極裝置內(nèi)部開設(shè)的環(huán)形水道3相連通。
[0014]所述陰極裝置圓形通孔的直徑與不銹鋼管外徑相對(duì)應(yīng)。陰極裝置圓形通孔的直徑根據(jù)不銹鋼管外徑?jīng)Q定，兩者之間距離以產(chǎn)生微弧放電為最大。其外徑根據(jù)處理的工藝作比例調(diào)整。該陰極裝置通過進(jìn)水口注入一定壓力的處理溶液，經(jīng)環(huán)形水道注入雙排噴水孔，經(jīng)過壓力的作用，處理溶液呈霧狀噴出。以不銹鋼管為陽(yáng)極，陰極裝置為陰極，加電壓到一定值后，不銹鋼管和陰極裝置之間產(chǎn)生微弧放電，實(shí)現(xiàn)不銹鋼管氧化皮的去除。處理溶液的霧狀噴出有外加壓力來保證。不銹鋼管和陰極裝置產(chǎn)生電弧放電有外加電壓來保證。
[0015]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置的材質(zhì)為鈰鎢、鑭鎢、鋯鎢、釔鎢中的一種。
[0016]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述進(jìn)水孔2的開孔方向與陰極裝置的外壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。
[0017]作為優(yōu)選方案，所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述噴水孔4的開孔方向與陰極裝置的內(nèi)壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。作為更優(yōu)選，所述噴水孔4的進(jìn)水口大于出水口，噴水孔為內(nèi)部直徑呈逐漸變小的圓錐臺(tái)形結(jié)構(gòu)。
[0018]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出:對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置為中心開設(shè)有圓形通孔的圓環(huán)柱體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)水孔、環(huán)形水道和排噴水孔；陰極裝置的外壁開設(shè)進(jìn)水孔，陰極裝置的內(nèi)壁開設(shè)有與進(jìn)水孔位置相對(duì)應(yīng)環(huán)形均勻布置的噴水孔，進(jìn)水孔與噴水孔之間通過陰極裝置內(nèi)部開設(shè)的環(huán)形水道相連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置圓形通孔的直徑與不銹鋼管外徑相對(duì)應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述陰極裝置的材質(zhì)為鈰鎢、鑭鎢、鋯鎢、釔鎢中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述進(jìn)水孔的開孔方向與陰極裝置的外壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述噴水孔的開孔方向與陰極裝置的內(nèi)壁相垂直，朝向陰極裝置的中心軸方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，其特征在于:所述噴水孔的進(jìn)水口大于出水口，噴水孔為內(nèi)部直徑呈逐漸變小的圓錐臺(tái)形結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，陰極裝置為中心開設(shè)有圓形通孔的圓環(huán)柱體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)水孔、環(huán)形水道和排噴水孔；陰極裝置的外壁開設(shè)進(jìn)水孔，陰極裝置的內(nèi)壁開設(shè)有與進(jìn)水孔位置相對(duì)應(yīng)環(huán)形均勻布置的噴水孔，進(jìn)水孔與噴水孔之間通過陰極裝置內(nèi)部開設(shè)的環(huán)形水道相連通。本發(fā)明提供的溶液中微弧等離子體去除不銹鋼管氧化皮陰極裝置，能保證去除過程的連續(xù)性和重復(fù)性，為不銹鋼管氧化皮均勻去除提供機(jī)械和電場(chǎng)保證，避免了化學(xué)處理復(fù)雜的工序和對(duì)環(huán)境的污染，對(duì)所處理基材影響小。
【IPC分類】C23G5-00
【公開號(hào)】CN104746095
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510165685
【發(fā)明人】蔣永鋒, 包曄峰
【申請(qǐng)人】河海大學(xué)常州校區(qū)
【公開日】2015年7月1日
【申請(qǐng)日】2015年4月9日