本實(shí)用新型涉及熒光粉制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種熒光粉自動研磨裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有熒光粉處理裝置大多采用磨球與熒光粉的研磨作用來實(shí)現(xiàn)熒光粉粒度要求，但對于個別熒光粉品種，球磨作用在滿足粒度要求同時會導(dǎo)致熒光粉亮度明顯降低，對熒光粉品質(zhì)造成不可逆轉(zhuǎn)影響，工業(yè)化生產(chǎn)存在潛在風(fēng)險。因此需要一種能夠提供新的研磨方式的裝置，為客戶提供不同顆粒形貌的產(chǎn)品。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述問題，本實(shí)用新型提供了一種熒光粉自動研磨裝置，該裝置能提供一種新的研磨方式，通過上下研磨石的間距調(diào)整可以控制研磨粉體的粒徑，液位計和控制盤的使用，可以使本裝置達(dá)到自動加、停料，自動研磨的功能。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種熒光粉自動研磨裝置，包括入料管、上儲存箱、研磨系統(tǒng)、下儲存箱和出料口，所述入料管與上儲存箱連接，所述上儲存箱與研磨系統(tǒng)連接，所述研磨系統(tǒng)下方設(shè)有下儲存箱，所述下儲存箱與出料口連接，所述上儲存箱用于儲存熒光粉原漿，所述研磨系統(tǒng)將熒光粉原漿進(jìn)行研磨，所述下儲存箱將研磨好的熒光粉漿儲存。

進(jìn)一步地，所述上儲存箱包括高位液位計、低位液位計和研磨啟動液位計，所述高位液位計設(shè)置于上儲存箱上部，低位液位計設(shè)置于上儲存箱中部，研磨啟動液位計設(shè)置于上儲存箱底部，所述低位液位計用于傳遞信號給研磨啟動液位計，開啟入料管將熒光粉原漿注入；所述高位液位計用于傳遞信號給研磨啟動液位計，關(guān)閉入料管停止注入熒光粉原漿，所述研磨啟動液位計用于接收低位液位計和高位液位計信號，控制入料管的開啟與關(guān)閉。

進(jìn)一步地，所述研磨系統(tǒng)包括上研磨石、下研磨石、研磨電機(jī)和間距調(diào)節(jié)電機(jī)，所述上研磨石與上儲存箱連接，與下研磨石之間有一定間距，所述下研磨石與研磨電機(jī)連接，所述間距調(diào)節(jié)電機(jī)與下研磨石連接，所述研磨電機(jī)控制下研磨石的轉(zhuǎn)速，所述間距調(diào)節(jié)電機(jī)用于調(diào)節(jié)下研磨石與上研磨石之間的距離。

進(jìn)一步地，所述上研磨石與下研磨石為材質(zhì)氧化鋁陶瓷制成的研磨石。

進(jìn)一步地，所述研磨電機(jī)可調(diào)節(jié)下研磨石轉(zhuǎn)速最高為1000rmp。

進(jìn)一步地，所述間距調(diào)節(jié)電機(jī)調(diào)節(jié)的下研磨石間距為50um～1000um。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果在于：通過上下磨石的間距調(diào)整可以控制研磨粉體的粒徑。液位計和控制盤的使用，可以使本裝置達(dá)到自動加、停料，自動研磨的功能。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種熒光粉自動研磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

在圖1中包括：1、入料管 2、上儲存箱 3、高位液位計

4、低位液位計 5、研磨啟動液位計

6、下儲存箱 7、上研磨石

8、下研磨石 9、研磨電機(jī)

10、間距調(diào)節(jié)電機(jī) 11、出料口

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型所述的一種熒光粉自動研磨裝置作進(jìn)一步說明。

圖1展示了一種熒光粉自動研磨裝置，包括入料管1、上儲存箱2、研磨系統(tǒng)、下儲存箱6和出料口11，所述入料管1與上儲存箱2連接，所述上儲存箱2與研磨系統(tǒng)轉(zhuǎn)動連接，所述研磨系統(tǒng)下方設(shè)有下儲存箱6，所述下儲存箱6與出料口11連接，所述上儲存箱2用于儲存熒光粉原漿，所述研磨系統(tǒng)將熒光粉原漿進(jìn)行研磨，所述下儲存箱6用于將研磨好的熒光粉漿儲存。

所述研磨系統(tǒng)包括上研磨石7、下研磨石8、研磨電機(jī)9和間距調(diào)節(jié)電機(jī)10，所述上研磨石7與上儲存箱2連接，與下研磨石8之間有一定間距，所述下研磨石8與研磨電機(jī)9連接，所述間距調(diào)節(jié)電機(jī)10與下研磨石8連接，根據(jù)研磨情況，微調(diào)下研磨石8與上研磨石7間距和下研磨石8轉(zhuǎn)速，以達(dá)到研磨要求，研磨好的熒光粉漿儲存在下儲存箱6中，通過出料口11排出。

本實(shí)施例中，先將機(jī)器啟動，通過間距調(diào)節(jié)電機(jī)10調(diào)節(jié)下研磨石8與上研磨石7之間的間距(從50um～1000um)，通過研磨電機(jī)9設(shè)定下研磨石8的轉(zhuǎn)速(轉(zhuǎn)速最高可達(dá)1000rmp)，所述低位液位計4開始提供信號給研磨啟動液位計5，所述研磨啟動液位計5接收信號，開啟入料管1將熒光粉原漿注入上儲存箱2，當(dāng)上儲存箱2內(nèi)熒光粉原漿高度達(dá)到高位液位計3，所述高位液位計3將信號傳遞給研磨啟動液位計5，研磨啟動液位計5接收信號，關(guān)閉入料管1，停止注入熒光粉原漿，當(dāng)研磨啟動液位計5感應(yīng)到熒光粉原漿時同時將信號傳遞給研磨系統(tǒng)，開始研磨。

綜上所述，本實(shí)用新型通過上下磨石的間距調(diào)整可以控制研磨粉體的粒徑。液位計和控制盤的使用，可以使本裝置達(dá)到自動加、停料，自動研磨的功能。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。