專利名稱：盤式反應(yīng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種盤式反應(yīng)器。
背景技術(shù)：
目前，在國(guó)內(nèi)制備甘氨酸或在其他有機(jī)反應(yīng)中大多都是采用間歇式的反應(yīng)手段鼓 泡式方法來完成反應(yīng)過程，此反應(yīng)過程中耗能高、生產(chǎn)周期長(zhǎng)、成本高、產(chǎn)品的收率和純度 較低、反應(yīng)不穩(wěn)定等問題。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種反應(yīng)效率高、成本低且降低能耗的盤 式反應(yīng)器。本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案本實(shí)用新型包括反應(yīng)器殼體以及設(shè)置在反應(yīng)器殼體上的進(jìn)氣口、進(jìn)料口，其特征 在于與所述的進(jìn)氣口與進(jìn)氣管相連通，所述進(jìn)氣管穿透盤式反應(yīng)裝置且與設(shè)置在盤式反應(yīng) 裝置上的氣孔相連通，所述的反應(yīng)器殼體下端設(shè)置有出料口。本實(shí)用新型盤式反應(yīng)裝置為3-8個(gè)。本實(shí)用新型反應(yīng)器殼體上設(shè)置有導(dǎo)熱入水口以及導(dǎo)熱出水口，所述的導(dǎo)熱入水口 以及導(dǎo)熱出水口通過設(shè)置在反應(yīng)器殼體內(nèi)的環(huán)形導(dǎo)熱管相連通。本實(shí)用新型的積極效果如下本實(shí)用新型在反應(yīng)器內(nèi)在不同高度分三層設(shè)置有盤式反應(yīng)裝置，氣體通過帶有多 個(gè)氣孔分布的盤式反應(yīng)裝置形成很多束柱狀氣流噴出，與液體反應(yīng)物接觸，形成大面積連 續(xù)氣液反應(yīng)，增加了氣液接觸表面積，提高了反應(yīng)速度和產(chǎn)品轉(zhuǎn)化率，且降低了能耗，提高 了產(chǎn)品純度。

附圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。附圖2為本實(shí)用新型外觀圖。在附圖中1反應(yīng)器殼體、2進(jìn)氣口、3進(jìn)料口、4導(dǎo)熱入水口、5環(huán)形導(dǎo)熱管、6導(dǎo)熱 出水口、7環(huán)形導(dǎo)熱管8、盤式反應(yīng)裝置、9氣孔、10出料口。
具體實(shí)施方式
如附圖1、2為本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，本實(shí)用新型包括反應(yīng)器殼體1以及設(shè)置 在反應(yīng)器殼體1上的進(jìn)氣口 2、進(jìn)料口 3，其特征在于與所述的進(jìn)氣口 2與進(jìn)氣管5相連通， 所述進(jìn)氣管5穿透三組盤式反應(yīng)裝置8且與設(shè)置在盤式反應(yīng)裝置8上的氣孔9相連通，所 述的反應(yīng)器殼體1下端設(shè)置有出料口 10。本實(shí)用新型在反應(yīng)器殼體1內(nèi)形成柱狀氣流霧狀 網(wǎng)，氣泡微小，與液體成逆流流動(dòng)，形成連續(xù)噴霧反應(yīng)，增加了氣液接觸表面積，提高了轉(zhuǎn)化率，且降低了能耗，提高了產(chǎn)品純度，最終能夠達(dá)到連續(xù)穩(wěn)定的生產(chǎn)高純度的一氯乙酸等有 機(jī)產(chǎn)品的目的。本實(shí)用新型在反應(yīng)器內(nèi)在不同高度分三層設(shè)置有盤式反應(yīng)裝置8，盤式反應(yīng) 裝置8有多個(gè)氣孔，孔徑0. 2-1毫米，孔間距3—5厘米，盤的上下兩面均開有氣孔.氣體通 過帶有多個(gè)氣孔9分布的盤式反應(yīng)裝置8形成柱狀氣流霧后與反應(yīng)物呈狀網(wǎng)接觸，形成連 續(xù)噴霧反應(yīng)，增加了氣液接觸表面積，提高了轉(zhuǎn)化率，且降低了能耗，提高了產(chǎn)品純度。氣體(例如氨氣)從進(jìn)氣口 5進(jìn)入，通過管道進(jìn)入盤式反應(yīng)裝置8，氣體從盤式反應(yīng) 裝置8的氣孔9噴出，和反應(yīng)器殼體1中的液體(例如氯乙酸)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成產(chǎn)物(例 如甘氨酸)，由于設(shè)置有多個(gè)氣孔9，產(chǎn)生的氣泡小，所以氣液接觸面積大，反應(yīng)速度快，由于 設(shè)置有多個(gè)盤式反應(yīng)裝置8，所以反應(yīng)空間大，溫度分布均勻，不會(huì)引起局部溫度過高。本實(shí)用新型所述的反應(yīng)器殼體1上設(shè)置有導(dǎo)熱入水口 4以及導(dǎo)熱出水口 6，所述的 導(dǎo)熱入水口 4以及導(dǎo)熱出水口 6通過設(shè)置在反應(yīng)器殼體1內(nèi)的環(huán)形導(dǎo)熱管冷卻7相連通， 通過導(dǎo)熱冷卻管對(duì)反應(yīng)器內(nèi)液體加熱或冷卻。
權(quán)利要求1.一種盤式反應(yīng)器，其包括反應(yīng)器殼體(1)以及設(shè)置在反應(yīng)器殼體(1)上的進(jìn)氣口 (2)、進(jìn)料口(3)，其特征在于與所述的進(jìn)氣口(2)與進(jìn)氣管(5)相連通，所述進(jìn)氣管(5)穿 透盤式反應(yīng)裝置(8)且與設(shè)置在盤式反應(yīng)裝置(8)上的氣孔(9)相連通，所述的反應(yīng)器殼體 (1)下端設(shè)置有出料口(10)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤式反應(yīng)器，其特征在于所述的盤式反應(yīng)裝置(8)為3-8個(gè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤式反應(yīng)器，其特征在于所述的反應(yīng)器殼體(1)上設(shè)置有導(dǎo) 熱入水口(4)以及導(dǎo)熱出水口(6)，所述的導(dǎo)熱入水口(4)以及導(dǎo)熱出水口(6)通過設(shè)置在 反應(yīng)器殼體(1)內(nèi)的環(huán)形導(dǎo)熱管(7)相連通。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種盤式反應(yīng)器。本實(shí)用新型包括反應(yīng)器殼體以及設(shè)置在反應(yīng)器殼體上的進(jìn)氣口、進(jìn)料口，其特征在于與所述的進(jìn)氣口與進(jìn)氣管相連通，所述進(jìn)氣管穿透盤式反應(yīng)裝置且與設(shè)置在盤式反應(yīng)裝置上的氣孔相連通，所述的反應(yīng)器殼體下端設(shè)置有出料口。本實(shí)用新型在反應(yīng)器內(nèi)在不同高度分三層設(shè)置有盤式反應(yīng)裝置，氣體通過帶有多個(gè)氣孔分布的盤式反應(yīng)裝置形成很多束柱狀氣流噴出，與液體反應(yīng)物接觸，形成大面積連續(xù)氣液反應(yīng)，增加了氣液接觸表面積，提高了反應(yīng)速度和產(chǎn)品轉(zhuǎn)化率，且降低了能耗，提高了產(chǎn)品純度。
文檔編號(hào)B01J19/24GK201906609SQ20102063012
公開日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2010年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月29日
發(fā)明者張星辰, 李曉東 申請(qǐng)人:張星辰