專利名稱：排氣捕集裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及排氣捕集裝置，特別是涉及可提高排氣捕集裝置的捕 集效率、減少析出成分向下游側(cè)流出的排氣捕集裝置的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
一般而言，作為半導(dǎo)體制造裝置使用用于在基板上形成薄膜、蝕 刻基板的各種氣體反應(yīng)裝置。通常，這些氣體反應(yīng)裝置具有氣體供給 部分、從該氣體供給部分供給氣體的密閉的氣體反應(yīng)室、與該氣體反 應(yīng)室連接的排氣路徑、和與該排氣路徑連接的真空泵等排氣裝置。
在這種氣體反應(yīng)裝置中，從氣體反應(yīng)室排出的氣體中析出反應(yīng)副 生成物，堆積在排氣路徑或排氣裝置內(nèi)，造成排氣路徑的閉塞或排氣 裝置的故障。因此，在排氣路徑中間配置排氣捕集裝置，捕集排出氣 體中的反應(yīng)副生成物(參照日本專利公開JP8-13169A， JP8-24503A， JP8-299784A)。在多數(shù)情況下，作為這種排氣捕集裝置，使用在殼體 內(nèi)部，以與排氣方向交叉的姿勢配置擋板或翅片等沖突板，使得可利 用與沖突板沖突的排出氣體冷卻，在沖突板的表面上堆積規(guī)定的析出 物而構(gòu)成的沖突型冷卻捕集裝置。在這種沖突型冷卻捕集裝置中，通 過使沖突板的形狀或配置方式最優(yōu)化，可高捕集效率，減少析出物向
、、、另:方面，也提出了沿著排氣路徑串聯(lián)地配置多個(gè)排氣捕集部分
而構(gòu)成的排氣捕集裝置(參照日本專利公開JP10-73078A， JP2000-256856A， JP2001畫131748A， JP2001畫329367A)。作為這種排氣 捕集裝置，通過使串聯(lián)配置的多個(gè)排氣捕集部分的冷卻溫度成為互不 相同的溫度，可提高捕集效率，分別由各個(gè)排氣捕氣部分捕集不同的 析出物(日本專利公開JP10-73078A, JP2001-256856A， JP 2001 -
329367A),并且，通過利用多個(gè)排氣捕集部分分散各自析出物堆積量， 可提高維護(hù)性(日本專利公開JP2001-131748A)。
在上述的沖突型冷卻捕集裝置中，由于從氣體導(dǎo)入口導(dǎo)入裝置內(nèi) 部的排出氣體，在排氣通路內(nèi)與沖突板接觸，急速地冷卻，反應(yīng)副生 成物從而大量地附著在氣體導(dǎo)入口附近，排氣通路的導(dǎo)通減小，不能 維持配置在上游的氣體反應(yīng)室的減壓狀態(tài)，在排氣通路的入口附近產(chǎn) 生閉塞，因此，排氣捕集裝置的維修頻率增大，這是一個(gè)問題點(diǎn)。
為了避免上述問題，必需提高排氣通路的冷卻溫度。但當(dāng)提高排 氣通路的溫度時(shí)，存在著在排氣捕集裝置內(nèi)不能充分捕集反應(yīng)副生成 物，反應(yīng)副生成物在配置于排氣捕集裝置的下游側(cè)的排氣裝置或除害 裝置內(nèi)析出，排氣裝置或除害裝置的維修周期縮短、會產(chǎn)生故障的問 題。
在日本專利公開JP2001-131748A中所述的捕集器裝置中，設(shè)置沿
著排出氣體的流動方向分多段配置的多個(gè)捕集器構(gòu)件；在將這些多個(gè) 捕集構(gòu)件分成多個(gè)組的情況下，除了位于排出氣體流動方向最下游側(cè) 的組以外，對各組中每個(gè)組獨(dú)立加熱的加熱單元；和控制該加熱單元 的發(fā)熱量的熱量控制部分。這樣，在反應(yīng)副生成物堆積在最下游側(cè)的 捕集器構(gòu)件中后，使反應(yīng)副生成物依次堆積在上游側(cè)的捕集器構(gòu)件中， 可防止多個(gè)捕集器構(gòu)件的析出物的堆積量的偏置。但是，在這種裝置 中，由于必需在時(shí)間上控制加熱單元，控制單元變得復(fù)雜，而且根據(jù) 排出氣體的成分，必需高度地管理其控制方式。另外，由于采用這種 結(jié)構(gòu)主要著眼于防止捕集器裝置內(nèi)的堆積量的偏置，在位于最下游側(cè) 的捕集器構(gòu)件的更下游側(cè)中，難以減少析出反應(yīng)副生成物的量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮上述問題而提出的，其目的是要提供不進(jìn)行復(fù)雜控 制，也可以抑制反應(yīng)副生成物等的析出物的堆積量的偏置，而且可以 可靠地減少析出成分向下游側(cè)流出的排氣捕集裝置。
根據(jù)本發(fā)明，提供了一種排氣捕集裝置，從通過氣體排氣路徑的 排出氣體中捕集析出物，其特征在于，
沿著所述排氣路徑串聯(lián)配置多個(gè)形成有使排出氣體通過其各自的
內(nèi)部的排氣通路的排氣捕集部分；
所述多個(gè)排氣捕集部分包含配置在排出氣體的流動方向的上游側(cè)
的第一排氣捕集部分、和配置在下游側(cè)的第二排氣捕集部分；
在所述第一排氣捕集部分上設(shè)置多個(gè)沖突板，所述多個(gè)沖突板配 置為遮斷沿著該排氣通路的軸線方向在該排氣通路中流動的排出氣體 的流動，而且，配置所述多個(gè)沖突板，使得在該排氣通路內(nèi)存在沿著 排氣通路的軸線方向連續(xù)延伸而不被配置在該排氣通路內(nèi)的任何沖突 板遮蔽的空間；
在所述第二排氣捕集部分上設(shè)置多個(gè)沖突板，所述多個(gè)沖突板配 置為遮斷沿著該排氣通路的軸線方向在該排氣通路中流動的排出氣體 的流動，而且，配置所述多個(gè)沖突板，使得在該排氣通路內(nèi)不存在沿 著排氣通路的軸線方向連續(xù)地延伸而不被配置在該排氣通路內(nèi)的任何 沖突板遮斷的空間。
根據(jù)本發(fā)明，在配置在上游側(cè)的排氣捕集部分中，排出氣體的一 部分，由于特定的沖突板的配置方式，通過排氣通路而不會與沖突板 沖突，因此可抑制析出物的堆積量，避免排氣通路的導(dǎo)通降低或發(fā)生 閉塞狀態(tài)。另一方面，在配置在下游側(cè)的排氣捕集部分中，因?yàn)樘囟?的沖突板配置形式，全部排出氣體接受來自沖突板的影響，可提高基 于沖突板的從排出氣體中析出物的生成和堆積作用，減少析出成分流 出至裝置的下游側(cè)。因此，由于通過減少上游側(cè)的排氣捕集部分的析 出物的堆積量，增大下游側(cè)的排氣捕集部分的析出物的堆積量，可抑 制多個(gè)排氣捕集部分間的析出物的堆積量的偏置，可減少維修的頻度。 另外，由于抑制析出物的堆積量的編置，利用下游側(cè)的排氣捕集部分 沖突板的結(jié)構(gòu)，可減少析出成分流出至裝置的下游側(cè)，因此可以防止 配置在裝置下游側(cè)的排氣裝置或除害裝置的故障，減輕維修的勞動強(qiáng) 度。
優(yōu)選，上述多個(gè)排氣捕集部分，可以互相安裝和脫開地構(gòu)成。這 樣，根據(jù)排出氣體的成分或溫度等狀況，可以變更排氣捕集部分的數(shù) 目，在沖突板形狀或配置方式不同的排氣捕集部分中，交換排氣捕集 部分，因此可調(diào)整析出物的堆積狀態(tài)，減少維修頻度或削減析出成分 的流出，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的最優(yōu)化。
本發(fā)明還提供了， 一種排氣捕集裝置，從通過氣體的排氣路徑的 排出氣體中捕集析出物，其特征在于，
沿著所述排氣路徑串聯(lián)配置多個(gè)形成有使排出氣體通過其各自的 內(nèi)部的排氣通路的排氣捕集部分；
所述多個(gè)排氣捕集部分包含配置在排出氣體的流動方向的上游側(cè) 的第一排氣捕集部分、和配置在下游側(cè)的第二排氣捕集部分；
在所述第一和第二排氣捕集部分上分別設(shè)有沖突板；
所述第二排氣捕集部分的排氣通路的軸線和沖突板形成的角度， 比所述第一排氣捕集部分的排氣通路的軸線與沖突板形成的角度大。
根據(jù)本發(fā)明，由于沖突板對于上游側(cè)的排氣捕集部分的排氣通路 的軸線方向的傾斜角小，通過沖突板的存在，增大面臨與排出氣體接 觸的排氣通路的表面積，可以確保析出物的堆積作用。相反，該沖突 板可起不妨礙排出氣體流動強(qiáng)的整流的整流板的作用。另外，利用該 整流板可減輕排氣通路內(nèi)的析出物偏置度，可以抑制堆積量，因此可 避免排氣通路的導(dǎo)通降低或產(chǎn)生閉塞狀態(tài)。另一方面，由于沖突板對 于配置在下游側(cè)的排氣捕集部分的排氣通路的軸線方向的傾斜角大， 沖突板妨礙排出氣體的流動，因此可高效率堆積析出物。因此，由于 通過減少上游側(cè)的排氣捕集部分的析出物的堆積量，增大下游側(cè)的排 氣捕集部分的析出物的堆積量，可抑止多個(gè)排氣捕集部分間的析出物 的堆積量的偏置，可減少維修頻度。另外，由于抑制析出物堆積量偏 置，利用設(shè)在下游側(cè)的排氣捕集部分上的沖突板，減少析出成分流出 至裝置下游側(cè)，因此可防止配置在裝置下游側(cè)的排氣裝置或除害裝置 等的故障，減輕維修的勞動強(qiáng)度。上游的排氣捕集部分的沖突板與排 氣通路軸線方向平行配置也可以。
在這種情況下，優(yōu)選，所述第一和第二排氣捕集部分以一個(gè)巻繞 在另一個(gè)的外側(cè)上的方式配置，在所述第一排氣捕集部分和所述第二 排氣捕集部分之間，設(shè)有使排出氣體的流動方向反向的反轉(zhuǎn)通路部分。 這樣，可以緊湊地、 一體地構(gòu)成上游側(cè)和下游側(cè)的2個(gè)排氣捕集部分。
在這種情況下，優(yōu)選，所述反轉(zhuǎn)通路部分以遍及所述第一和第二 排氣捕集部分的整個(gè)周邊的方式與它們連接。這樣，因利用反轉(zhuǎn)通路 部分，排出氣體可從上游排氣捕集部分向下游側(cè)排氣捕集部分，在全
周上流通，因此可以確保增大反轉(zhuǎn)通路部分的通路截面積，同時(shí)，由 于減少配置在上游側(cè)的排氣捕集部分的下游側(cè)部分和配置在下游側(cè)的 排氣捕集部分上游側(cè)部分的排出氣體流動的偏移，可防止各部分的導(dǎo) 通的降低或排氣通路的閉塞。
在上述各發(fā)明中，優(yōu)選，配置所述沖突板，使得氣體螺旋狀地在 配置有該沖突板的排氣通路內(nèi)流動。這樣，因?yàn)榭稍谂艢馔分挟a(chǎn)生 排出氣體的回轉(zhuǎn)流，可以更促進(jìn)析出物的堆積，更減少析出成分向裝 置下游側(cè)流出。在這種情況下，回轉(zhuǎn)流可由呈螺旋狀配置多個(gè)沖突板 實(shí)現(xiàn)或由單一的螺旋狀沖突板實(shí)現(xiàn)。
另外，本發(fā)明還提供了一種氣體反應(yīng)裝置，其特征在于，具有
氣體供給部分、使從該氣體供給部分供給的氣體反應(yīng)的氣體反應(yīng) 室、所述氣體供給部分或所述氣體反應(yīng)室的排氣路徑、和配置在該排 氣路徑中途的上述任一項(xiàng)所述的排氣捕集裝置一種氣體反應(yīng)裝置。作 為這種氣體反應(yīng)裝置可舉出在配置在氣體反應(yīng)室內(nèi)的基板表面上進(jìn)行 成膜的氣體成膜裝置、蝕刻基板表面的氣體蝕刻裝置等，特別是，在 半導(dǎo)體制造過程中使用的各種半導(dǎo)體制造裝置中使用為優(yōu)選。
根據(jù)本發(fā)明，可得到實(shí)現(xiàn)了不進(jìn)行復(fù)雜的控制即可抑制反應(yīng)副生 成物等的析出物的堆積量的偏置，而且可以可靠地減少析出成分向下 游側(cè)流出的排氣捕集裝置的優(yōu)良的效果。


圖1為表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的排氣捕集裝置的全體結(jié)構(gòu)的側(cè)視
圖2為圖1所示的排氣捕集裝置的第一捕集部件的縱截面圖3為表示翅片(fm)在圖1所示的排氣捕集裝置的第一捕集部件的 內(nèi)筒上的配置的部分截面圖4為圖1所示的第一捕集部件的橫截面圖5為表示圖l所示的第二捕集部件的圖；(a)為縱截面圖，(b) 為橫截面圖6為表示圖l所示的第三捕集部件的圖；(a)為縱截面圖，(b) 為橫截面圖7為表示本發(fā)明的氣體反應(yīng)裝置的全體結(jié)構(gòu)的管路圖。
符號說明100排氣捕集裝置，110第一捕集部件，120第二捕集 部件，130第三捕集部件，IIX、 IIZ、 12X、 13X排氣通路，IIY反轉(zhuǎn) 通路部分，113外筒，114內(nèi)筒，114a、 114b、 114c、 115整流板(沖 突板)，116、 124、 134沖突板。
具體實(shí)施例方式
以下與圖示例中一起，說明本發(fā)明的實(shí)施例。圖1為表示本實(shí)施 例的排氣捕集裝置100的全體結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。該排氣捕集裝置100具 有沿著排氣路徑串聯(lián)配置的第一捕集部件IIO、第二捕集部件120、和 第三捕集部件130。第一捕集部件IIO、第二捕集部分120和第三捕集 部件130通過框架101結(jié)合為一體。因此，如果解除捕集部件和框架 101的結(jié)合，可以分離各個(gè)捕集部件。第一捕集部件110的氣體導(dǎo)入口 與閥102的下游側(cè)連接。閥102可以是蝶型閥。第一捕集部件110的 氣體導(dǎo)出口，通過U字形的排氣管103，與第二捕集部件120的氣體 導(dǎo)入口連接。第二捕集部件120的氣體導(dǎo)出口，通過連接法蘭104，與 第三捕集部件130的氣體導(dǎo)入口連接。在第三捕集部件130的下游側(cè) 設(shè)有閥105。閥105也可以為蝶型閥。
圖2為表示第一捕集部件110的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的縱截面圖，圖3為表 示第一捕集部件110的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的部分截面圖，圖4為第一捕集部件 IIO的橫截面圖。圖2表示沿著圖4的A-B線的截面，圖3表示沿著 圖4A'-B線的外筒的截面和內(nèi)筒的側(cè)面。
第一捕集部分110為具有外筒113和內(nèi)筒114的二層筒的結(jié)構(gòu)。 外筒113的兩端部與端板111和112連接，構(gòu)成兩端閉塞的圓筒狀的殼 體。在靠近外筒113的端板111的部分上形成氣體導(dǎo)入口 IIOA。在外 筒113和內(nèi)筒114之間形成具有環(huán)形截面的排氣通路IIX。在外筒113 的內(nèi)周面中，在離開氣體導(dǎo)入口 IIOA，靠近端板112的部分，而且與 內(nèi)筒114相對的部分上，可以設(shè)置環(huán)狀的沖突板或翅片(圖中沒有示 出)。外筒113具有越過端板112的內(nèi)筒114的端部、在軸線方向延長 的部分，在該部分上形成的內(nèi)部空間成為與排氣通路11X的下游連接 的反轉(zhuǎn)通路部分IIY。反轉(zhuǎn)通路部分IIY具有接受由上游的排氣通路
11X捕集的反應(yīng)副生成物剝離的產(chǎn)物的功能。如圖所示，在位于反轉(zhuǎn)
通路部分11Y的周圍的外筒113的壁體內(nèi)，形成冷媒通路113s，水等 冷媒可在其中流通。在反轉(zhuǎn)通路部分11Y中，也可設(shè)有環(huán)狀沖突板或 翅片(圖中沒有示出)。
內(nèi)筒114不由端板112支承，而由端板lll支承。內(nèi)筒114的端板 lll側(cè)的開口，通過貫通端板lll的孔，與氣體導(dǎo)出口 110B連通。內(nèi) 筒114的端板112側(cè)的開口，通過反轉(zhuǎn)通路部分IIY，與端板112相對。 在內(nèi)筒114的壁體的內(nèi)部設(shè)有冷媒通路114s。在內(nèi)筒114的外面，配 置沿著排氣通路11X的排出氣體的流動方向(圖2和圖3的向下方向) 即內(nèi)筒114的軸線方向(它也為排氣通路11X的軸線方向)延伸的整 流板114a、 114b、 114c、 114d。應(yīng)當(dāng)注意，整流板優(yōu)選沿著內(nèi)筒114 的軸線方向(即排氣通路llX的軸線和整流板114a、 114b、 114c、 114d 所成的角度為0度)延伸，但配置整流板的平面和內(nèi)筒114的軸線不 垂直也可以。因此，配置整流板的平面與內(nèi)筒114的軸線形成規(guī)定的 角度也可以。這樣，在設(shè)置相對內(nèi)筒114的軸線傾斜的整流板的情況 下，上述規(guī)定的角度小較好，具體地是45。以下優(yōu)選。另外，配置整 流板的面為曲面也可。應(yīng)當(dāng)注意，在本申請的說明書的實(shí)施例說明中， 作為表現(xiàn)對排氣通路內(nèi)的排出氣體流動有影響的板狀體，使用"整流 板"和"沖突板"二種不同的用語，兩者只由板狀體相對配置有該板 狀體的排氣通路的軸線形成角度來區(qū)別。因此，兩者之間沒有明顯的 區(qū)別。"整流板"可以理解為與排氣通路的軸線形成0或小的角度的"沖 突板"。
如圖3所示，這些整流板中，位于最接近氣體導(dǎo)入口 110A位置的 整流板114a，在不面向內(nèi)筒114的氣體導(dǎo)入口 110A的部分上延伸。位 于比整流板114a離氣體導(dǎo)入口 110A遠(yuǎn)的位置上的整流板114b延伸至 比整流板114a更接近端板111的位置。位于比整流板114b離氣體導(dǎo)入 口 IIOA更遠(yuǎn)的位置上的整流板114c，延伸至比整流板114b更靠近端 板111的位置。而且，配置在離氣體導(dǎo)入口 IIOA最遠(yuǎn)位置、即氣體導(dǎo) 入口 IIOA的相反一側(cè)的位置的整流板114d延伸至比整流板114c更靠 近端板lll的位置。這樣，在氣體導(dǎo)入口 IIOA附近的規(guī)定范圍內(nèi)，不 設(shè)置整流板，這樣，整流板不妨礙從氣體導(dǎo)入口 IIOA導(dǎo)入的排出氣體
的流動。
如圖4所示，越接近氣體導(dǎo)入口 110A的整流板，向排氣通路11X 伸出的量越小。即整流板114a的伸出量比整流板114b的伸出量小， 整流板114b的伸出量比整流板114c的伸出量小，整流板114c的伸出量 比整流板114d的伸出量小。由于這樣，從氣體導(dǎo)入口 110A導(dǎo)入的排 出氣體，容易在排氣通路11X的全體截面上擴(kuò)展，因此可防止堆積物 集中在排氣通路11X的特定部位(例如氣體導(dǎo)入口 110A附近部分)上， 閉塞該排氣通路。
另外，在整流板114a、 114b、 114c上，在與內(nèi)筒114的外周面之 間設(shè)有隙縫114ax、 114bx、 114cx。這些隙縫，在各個(gè)整流板的長度方 向上，空出間隔并設(shè)置多個(gè)。在例示的實(shí)施例中，在整流板U4d上不 形成隙縫，但在整流板114d上形成隙縫也可以。通過設(shè)置隙縫114ax、 114bx、 114cx，可使排出氣體的一部分通過整流板114a、 114b、 114c， 這樣，由于排出氣體可在排氣通路11X的內(nèi)部均等地流動，可以高效 率地捕集反應(yīng)副生成物。
在例示的實(shí)施例中，在內(nèi)筒114的外周面上的各一條母線上設(shè)置 一個(gè)一個(gè)連續(xù)的整流板(114a、 114b、 114c、 114d)，但不是僅限于此。 例如，沿著各一條母線(即沿著內(nèi)筒114的軸線方向)，以一定間隔配 置多個(gè)短的整流板也可以。另外，在內(nèi)筒114的外周面上，成鋸齒形 配置多個(gè)短整流板也可。然而，優(yōu)選為，這些短的整流板分別沿著內(nèi) 筒114的軸線方向延伸。
在內(nèi)筒114的內(nèi)側(cè)上形成排氣通路11Z。該排氣通路IIZ從在端板 112側(cè)反轉(zhuǎn)通路部分IIY上開口的位置至面臨氣體導(dǎo)出口 110B的位置 成直線狀延伸。與該排氣通路11Z的軸線方向(圖2和圖3的上下方 向)形成規(guī)定角度(圖示例中為90。)的多個(gè)沖突板116配置在排氣 通路11Z中。如圖2和圖4所示，各個(gè)沖突板116的形狀為只遮蔽排 氣通路11Z的截面的一部分。在排氣通路11Z的軸線方向看的情況下， 某一個(gè)沖突板116遮蔽的區(qū)域的至少一部分，與和該沖突板116與排 氣通路11Z的軸線方向相鄰的沖突板116遮蔽的區(qū)域不同。在例示的 實(shí)施例，多個(gè)沖突板116圍繞著排氣通路11Z的軸線錯(cuò)開角度位置， 并呈螺旋狀配置，這樣，在排氣通路11Z內(nèi)產(chǎn)生排出氣體回轉(zhuǎn)流。在
圖示的例子中，相鄰的沖突板116的角度位置偏移90。。這些多個(gè)沖 突板116由相同形狀的板狀體構(gòu)成，安裝在內(nèi)筒114的內(nèi)周面上。優(yōu) 選，沖突板116配置在與排氣通路11Z的軸線垂直的平面上。然而， 配置沖突板116的平面和排氣通路11Z的軸線所形成角度，比配置上 述整流板114a、 114b、 114c、 114d的平面和排氣通路IIX的軸線所成 角度大即可，優(yōu)選比45°大。另外，配置沖突板116的面為曲面也可 以。
在排氣通路11Z內(nèi)配置多個(gè)沖突板116，使沿著排氣通路11Z的軸 線方向連續(xù)延伸而不被配置在排氣通路11Z內(nèi)的任何沖突板116遮蔽 的空間在排氣通路11Z內(nèi)存在。該空間在圖4中，可認(rèn)為是用符號11Zt 表示的截面為矩形或正方形的區(qū)域。在圖示的實(shí)施例中，空間llZt直 線地延伸，導(dǎo)入排氣通路11Z內(nèi)的排出氣體的至少一部分，可不受沖 突板116的妨礙，在排氣通路11Z內(nèi)直線通過?？臻g11Zt在排氣通路 11Z的中央部延伸。通過設(shè)置空間11Zt，可抑制排氣通路11Z的集中 的捕集，可由排氣捕集裝置100的排氣通路11Z下游側(cè)的部分分擔(dān)捕 集。
在本實(shí)施例中，在外筒113和內(nèi)筒114之間形成的排氣通路IIX， 和在內(nèi)筒114的內(nèi)部形成的排氣通路IIZ，通過反轉(zhuǎn)通路部分11Y連 通。特別是，反轉(zhuǎn)通路部分IIY可在遍及其周方向的全域使排氣通路 IIX和排氣通路IIZ連通。反轉(zhuǎn)通路部分11Y由比內(nèi)筒114的端部更 向軸向方向延長的外筒113的延長部分的內(nèi)部形成的空間構(gòu)成。在面 向反轉(zhuǎn)通路部分11Y的外筒113的內(nèi)周面上，設(shè)置整流板也可以。
如圖2所示，在內(nèi)筒114的壁體內(nèi)部構(gòu)成的冷媒通路114s通過管 路114t，與在端板111的內(nèi)部形成的導(dǎo)入流路llla連通。該管路114t 從導(dǎo)入流路llla延伸至冷媒通路114s的內(nèi)部。另外，冷媒通路114s 與在端板lll的內(nèi)部形成的導(dǎo)出流路lllb連通。導(dǎo)入流路llla與圖1 所示的冷媒導(dǎo)入口 110x連接，導(dǎo)出流路lllb與圖1所示的冷媒導(dǎo)出 口 110y連接。另夕卜，配置在外筒113的反轉(zhuǎn)通路11Y的外側(cè)的冷媒通 路113s與圖l所示的冷媒導(dǎo)入口 110z和冷媒導(dǎo)出口 110u連接。利用 該結(jié)構(gòu)，由于冷媒通過管路114t導(dǎo)入冷媒通路114s的下部，該冷媒向 著冷媒通路114s的上部流動，因此可抑制冷媒通路114s內(nèi)的冷媒的對
流，可以高效率地進(jìn)行冷卻。
如上所述，在第一捕集部件110中，設(shè)置具有在外筒113和內(nèi)筒
114之間形成的排氣通路11X的一個(gè)排氣捕集部分、和具有在內(nèi)筒114
的內(nèi)部形成的排氣通路11Z的另一個(gè)排氣捕集部分。即排氣通路11X
配置為巻繞在排氣通路IIZ的周圍。另外，在排氣通路11X中，以沿 著排出氣體流動方向的姿勢，配置整流板114a、 114b、 114c、 114d。 另外，在排氣通路11X的下游側(cè)構(gòu)成通過反轉(zhuǎn)通路部分IIY連接的排 氣通路IIZ，在該排氣通路IIZ上配置防止排出氣體流動的沖突板116。 排氣通路11X的排出氣體的流動方向與排氣通路11Z的排出氣體的流 動方向相反。
其次，參照圖5，說明第二捕集部件120的結(jié)構(gòu)。該第二捕集部件 120具有具有面臨氣體導(dǎo)入口 120A的開口的端板121、具有面臨氣 體導(dǎo)出口 120B的開口的端板122、和兩端部與端板121和122連接的 外壁123。在該外壁123的內(nèi)部構(gòu)成冷媒通路123s。該冷媒通路123s 與圖1所示的冷媒導(dǎo)入口 120x和冷媒導(dǎo)出口 120y連接。
在第二捕集部件120的內(nèi)部，在氣體導(dǎo)入口 120A和氣體導(dǎo)出口 120B之間形成排氣通路12X。排氣通路12X成直線狀構(gòu)成。排氣通路 12X構(gòu)成為螺旋狀或曲線狀也可以。在該排氣通路12X上配置只遮蔽 其通路截面的一部分的沖突板124。如圖5 (b)所示，各個(gè)沖突板124 具有只遮蔽排氣通路12X的截面的一部分的形狀。在排氣通路12X的 軸線方向看的情況下，某一個(gè)沖突板124遮蔽的區(qū)域的至少一部分與 該沖突板124和排氣通路12X的軸線方向相鄰的沖突板124遮蔽的區(qū) 域不同。在例示的實(shí)施例中，多個(gè)沖突板124在排氣通路12X的軸線 周圍，使角度位置錯(cuò)開，并且成螺旋狀配置。在圖示的例子中，相鄰 的沖突板124的角度位置偏移120° 。這些多個(gè)沖突板124由相同形狀 的板狀體構(gòu)成，安裝在外壁123的內(nèi)周面上。優(yōu)選，沖突板124配置 在與排氣通路12X的軸線垂直的平面上。然而，配置沖突板124的平 面和排氣通路12X的軸線形成的角度，比配置上述的整流板114a、 114b、 114c、 114d的平面和排氣通路llX的軸線形成的角度大即可， 優(yōu)選比45°大。配置沖突板124的面為曲面也可以。
在排氣通路12X內(nèi)，配置多個(gè)沖突板124，使得在排氣通路12X
內(nèi)存在沿著排氣通路12X的軸線方向連續(xù)延伸向小被仕何配置在萍?xì)?通路12X內(nèi)的沖突板124遮蔽的空間。該空間可以看是在圖5 (b)中， 用符號12Xt表示的截面為三角形，特別是正三角形的區(qū)域。在圖示的 實(shí)施例中，空間12Xt直線地延伸，導(dǎo)入排氣通路12X內(nèi)的排出氣體的 至少一部分，不受沖突板124的妨礙，可以直線地在排氣通路12X內(nèi) 通過?？臻g12Xt在排氣通路12X的中央部延伸。通過設(shè)置空間2Xt， 可以抑制排氣通路12X的集中捕集，使排氣捕集裝置100的排氣通路 12X下游側(cè)的部分分擔(dān)捕食捕集。
其次，參照圖6，說明第三捕集部件130的結(jié)構(gòu)。該第三捕集部件 130包括具有面臨氣體導(dǎo)入口 130A的開口的端板131、具有面臨氣 體導(dǎo)出口 130B的開口的端板132、和兩端部與端板131和132連接的 外壁133。在該外壁133的內(nèi)部構(gòu)成冷媒通路133s。該冷媒通路133s 與圖1所示的冷媒導(dǎo)入口 130x和冷媒導(dǎo)出口 130y連接。
在第三捕集部件130的內(nèi)部，在氣體導(dǎo)入口 130A和氣體導(dǎo)出口 130B之間形成排氣通路13X。排氣通路13X成直線狀構(gòu)成。排氣通路 13X構(gòu)成螺旋狀或曲線狀也可以。在該排氣通路13X上配置只遮蔽其 通路截面的一部分的沖突板134。如圖6 (b)所示，各個(gè)沖突板134 具有只遮蔽排氣通路13X的截面的一部分的形狀。在排氣通路13X的 軸線方向看的情況下，某一個(gè)沖突板134遮蔽的區(qū)域的至少一部分與 該沖突板134和排氣通路13X的軸線方向相鄰的沖突板134遮蔽的區(qū) 域不同。在例示的實(shí)施例中，多個(gè)沖突板134，在排氣通路13X的軸 線周圍，使角度位置錯(cuò)開，并且成螺旋狀配置。在圖示的例子中，相 鄰的沖突板134的角度位置偏移120° 。這些多個(gè)沖突板134由相同形 狀的板狀體構(gòu)成，安裝在外壁133的內(nèi)周面上。優(yōu)選，沖突板134配 置在與排氣通路13X的軸線垂直平面上。然而，配置沖突板134的平 面和排氣通路13X的軸線形成的角度，比配置上述的整流板114a、 114b、 114c、 114d的平面和排氣通路IIX的軸線形成的角度大即可， 優(yōu)選比45°大。配置沖突板134的面為曲面也可以。
在該排氣通路13X內(nèi)不存在如在上述的第一捕集部件110和第二 捕集部件120中存在的"沿著排氣通路的軸線方向連續(xù)延伸而不被任 何沖突板遮蔽的空間11Zt、 12Xt"的空間。換句話說，在排氣通路13X中，沿著排氣通路13X的軸線方向延伸的任何線都與評哭奴134父義。 因此，導(dǎo)入排氣通路13X內(nèi)的排出氣體，即使是一部分，也不可能不 受沖突板134的妨礙地在排氣通路13X內(nèi)通過，沖突板134使全部排 出的氣體偏向，并進(jìn)入排氣通路13X內(nèi)。
在排氣捕集裝置100中，第一捕集部件110、第二捕集部分120和 第三捕集部件130沿著排氣路徑順次配置，詳細(xì)地說，設(shè)在第一捕集 部件110的排氣通路11X上的排氣捕集部件、設(shè)在第一捕集部件110 的排氣通路11Z上的排氣捕集部件、設(shè)在第二捕集部件120的排氣通 路12X上的排氣捕集部分、和設(shè)在第三捕集部件130的排氣通路13X 上的排氣捕集部件，沿著排氣路徑順次配置。
在本實(shí)施例中，通過使水等冷媒在上述各個(gè)捕集部件中流通，冷 卻內(nèi)部，通過冷卻高溫的排出氣體，可以拆去和捕集固形物(反應(yīng)副 生成物等)。具體地是，從配置在排氣捕集裝置的最下游側(cè)的第三捕集 部件130的冷媒導(dǎo)入口 130x，將冷媒供給至冷媒通路133s,并從冷媒 導(dǎo)出口 130y導(dǎo)出，將該導(dǎo)出的冷媒從配置在第三捕集部件130的上游 側(cè)的第二捕集部件120的冷媒導(dǎo)入口 120x，供給至冷媒通路123s，再 從冷媒導(dǎo)出口 120y導(dǎo)出，再將導(dǎo)出的冷媒從配置在排氣捕集裝置的最 上游側(cè)的第一捕集部件110內(nèi)的冷媒導(dǎo)入口 110x，供給至冷媒通路114s 內(nèi)，從冷媒導(dǎo)出口 110y導(dǎo)出，將該導(dǎo)出的冷媒，從冷媒導(dǎo)入口 110z 供給至第一捕集部件110內(nèi)的冷媒通路113s內(nèi)，并從冷媒導(dǎo)出口 110u 導(dǎo)出。
這樣，通過串聯(lián)連接設(shè)在排氣捕集裝置100的捕集部件110、 120、 130上的冷媒通路113s、 114s、 123s、 133s，使冷媒從配置在排出氣體 流動方向的下游側(cè)的冷媒通路，向著依次配置在上游側(cè)的冷媒通路流 通，由此，可使配置在排出氣體的流動方向的上游側(cè)的冷媒通路的冷 卻溫度相對較高，配置在下游側(cè)的冷媒通路的冷卻溫度相對較低。因 此，由于排出氣體沿著排氣路徑進(jìn)入下游側(cè)，因而逐漸冷卻至低的溫 度，可使析出物的堆積量在多個(gè)排氣捕集部中分散，這樣，由于可緩 和析出物堆積量的偏置，可以減小排氣捕集裝置100的維修頻度。另 外，在上述實(shí)施例中，通過冷卻流入排氣捕集裝置100中的未反應(yīng)的 氣體，可促進(jìn)析出反應(yīng)，但根據(jù)氣體的種類，通過加熱未反應(yīng)氣體，
也可促進(jìn)析出反應(yīng)。在這種情況下，使在捕集部件110、 120、 130的 冷媒體通路113s、 114s、 123s、 133s中被加熱的媒體流動也可以。在 這種情況下，通過從排出氣體的流動方向的下游側(cè)的冷媒通路(媒體 通路)，使加熱后的媒體依次向上游側(cè)的冷媒通路(媒體通路)流通， 可以緩和析出物的堆積量的偏置。
另外，在本實(shí)施例中，設(shè)在第一捕集部件110上的內(nèi)外二個(gè)排氣 捕集部分中，在構(gòu)成排氣捕集部分的排氣通路11Z上，設(shè)置沿著排氣 通路11Z的軸線方向連續(xù)延伸而不被沖突板116遮蔽的空間11Zt，還 在構(gòu)成配置在下游側(cè)的第二捕集部件120的排氣捕集部分的排氣通路 12X中，設(shè)置沿著排氣通路12X的軸線方向連續(xù)延伸而不被沖突板124 遮蔽的空間12Xt。沖突板134配置在排氣捕集部分上，該排氣捕集部 分設(shè)在配置在最下游側(cè)的第三捕集部件130中，不存在上述空間11Zt、 12Xt那樣的空間。
因此，在配置在上游側(cè)的二個(gè)排氣捕集部分的排氣通路11Z、 12X 中，由于排出氣體的一部分通過空間11Zt、 12Xt，不被沖突板116、 124 遮蔽地通過，因此從排出氣體析出的固形物的堆積量減少；另一方面， 在配置在最下游側(cè)的排氣捕集部分的排氣通路13X中，排出氣體與沖 突板134充分空間接觸，可以可靠地捕集在此析出的固形物。因此， 固形物的堆積集中在上游側(cè)，由于可以抑制在上游側(cè)導(dǎo)通的降低或產(chǎn) 生排氣通路的閉塞，因此可減少維修的頻度，同時(shí)，由于可以在下游 側(cè)的排氣捕集部分中可靠地捕集析出物，因此可防止析出成分向排氣 捕集裝置100的下游側(cè)流出。
在本實(shí)施例中，在設(shè)在第一捕集部件110上的二個(gè)排氣捕集部分 中構(gòu)成上游側(cè)的排氣捕集部分的排氣通路11X中，以不妨礙排出氣體 流動的姿勢，配置整流板114a、 114b、 114c、 114d。利用該整流板增 大排氣通路11X的內(nèi)表面積，從排出氣體中析出的固形物可分散堆積 在該增大面積的內(nèi)表面上。另外，由于這些整流板以不使排出氣體的 流動混亂的姿勢配置，因此可以抑止固形物一部分集中堆積在排氣路 徑11X內(nèi)，可以減少排氣導(dǎo)通的降低或排氣路徑的閉塞等。另一方面， 在構(gòu)成第一捕集部件110的下游側(cè)的排氣捕集部分的排氣通路11Z中， 沖突板116以妨礙排出氣體的流動、使其偏向的方式配置。這樣，可
以更可靠地提高排氣通路iiz的固形物的捕集效卒。
因此，可以減少析出物的堆積量僅在第一捕集部件110中的偏置， 可以削減維修頻度，還可以減小析出的成分向第一捕集部件110的下 游側(cè)流出。
特別是，在第一捕集部件110中，在上游側(cè)的排氣通路IIX和下 游側(cè)的排氣通路11Z之間構(gòu)成反轉(zhuǎn)通路部分IIY。為了防止該反轉(zhuǎn)通 路部分11Y閉塞，反轉(zhuǎn)通路部分11Y的流通截面積比上游側(cè)的排氣通 路IIX和下游側(cè)的排氣通路11Z的流通截面積大。這是由于在反轉(zhuǎn)通 路部分11Y中，排出氣體的流動方向反向，排出氣體幾乎都與反轉(zhuǎn)通 路部分11Y的內(nèi)面沖突，捕集量增大的原故。在該反轉(zhuǎn)通路部分11Y 中，設(shè)置捕集固形物的翅片也可以。
如上所述，由于本實(shí)施例的第一捕集部件110中，通過反轉(zhuǎn)通路 部分IIY連通的排氣通路IIX和排氣通路IIZ形成為內(nèi)外二層，使排 氣通路IIX和排氣通路11Z內(nèi)的排出氣體的流動方向相反，可以確保 各排氣通路的流通截面積，使全體緊湊地構(gòu)成。
在本實(shí)施例中，具有排出通路11X的排氣捕集部分、具有排氣通 路11Z的排氣捕集部分、具有排氣通路12X的排氣捕集部分、以及具 有排氣通路13X的排氣捕集部分串聯(lián)配置，但以與它不同的方式串聯(lián) 配置多個(gè)排氣捕集部分也可以。例如，在上述結(jié)構(gòu)中，將第二捕集部 件(具有排氣通路12X的排氣捕集部分)和第三捕集部件(具有排氣 通路13X的排氣捕集部分)中的任何一個(gè)作成與另一個(gè)結(jié)構(gòu)相同的結(jié) 構(gòu)也可以。另外，只利用第一捕集部件和第二捕集部件構(gòu)成排氣捕集 裝置100也可以，或者只用第一捕集部件和第三捕集部件構(gòu)成也可以。 只利用具有排氣通路11Z的排氣捕集部分和具有排氣通路12X的排氣 集部分中的任何一個(gè)，與具有排氣通路13X的排氣捕集部分構(gòu)成排氣 捕集裝置也可以。另外，利用具有排氣通路11X的排氣捕集部分，與 具有排氣通路11Z的排氣捕集部分、具有排氣通路12X的排氣捕集部 分和具有排氣通路13X的排氣捕集部分中任何一個(gè)構(gòu)成排氣捕集裝置 100也可以。
其次，說明具有上述排氣捕集裝置100的氣體反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)。 圖7為表示本實(shí)施例的氣體反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)例子的概略結(jié)構(gòu)圖。在該
氣體反應(yīng)裝置中設(shè)有氣體供給部分1、氣體反應(yīng)至2、排氣瓶集裝置100
和3、以及排氣裝置4。氣體供給部分1中設(shè)有原料容器1A、 1B、 1C 和收容有機(jī)溶媒等溶媒的溶媒容器1D，其中該原料容器1A、 1B、 1C 在液體原料(例如Pb、 Zr、 Ti等)的金屬有機(jī)化合物(有機(jī)金屬)為 液體的情況下，收容其本身或者用有機(jī)溶媒等溶媒將其稀釋后的原料， 或者在有機(jī)化合物為固體的情況下，用有機(jī)溶媒等溶解后的原料等。
在這些原料容器1A 1C和溶媒容器1D中導(dǎo)入用于供給N2、 He、 Ar等不活性氣體以外的加壓氣體的加壓管lax、 lbx、 lcx、 ldx，另夕卜， 導(dǎo)出用于導(dǎo)出液體原料或溶媒的導(dǎo)出管lay、 lby、 lcy、 ldy。導(dǎo)出管 lay ldy分別通過流量控制器laz、 lbz、 lcz、 ldz與合流管lp連接。 該合流管lp與氣化器lE連接。
當(dāng)將加壓氣體供給至上述加壓管lax-ldx時(shí)，液體原料或溶媒從各 原料容器1A-1D壓出至導(dǎo)出管lay-ldy，利用流量控制器laz-ldz調(diào)整 流量，供給至合流管lp內(nèi)。N2、 He、 Ar等不活性氣體以外的載體氣 體供給合流管lp，這些載體氣體和上述液體原料或溶媒成為氣液混合 狀態(tài)，供給至氣體器1E。通過在氣化器1E中使在加熱后的氣體室內(nèi) 液體原料噴霧，在該氣體室內(nèi)，液體原料氣化，生成原料氣體。原料 氣體通過原料氣體的氣化供給管lq，送至氣體反應(yīng)室2中。
另外，在氣體供給部分1中設(shè)置與上述原料氣體供給管lq不同的 氣體反應(yīng)室2連接的反應(yīng)氣體供給管lr，和相對上述原料氣體供給管 lq在氣體反應(yīng)室2前面合流的載體氣體供給管ls。利用該反應(yīng)氣體供 給管lr，供給與由上述原料氣體供給管lq供給的原料氣體反應(yīng)，發(fā)生 規(guī)定反應(yīng)的反應(yīng)氣體(02、 NH4、 Cl2等)。
在氣體反應(yīng)室2的具有加熱器等的加熱單元、或放電部分等放電 單元這種能量施加單元的氣密腔內(nèi)，配置氣體導(dǎo)入部分(例如具有噴 頭那樣的多個(gè)氣體導(dǎo)入孔)2a、與該氣體導(dǎo)入部分2a相對的配置的基 座2b。在基座2b上放置由半導(dǎo)體基板等構(gòu)成的基板W。在該實(shí)施例 中，從氣體導(dǎo)入部分2a導(dǎo)入的原料氣體和反應(yīng)氣體，在氣密的腔內(nèi)， 得到由上述能量施加單元施加的能量而適當(dāng)?shù)胤磻?yīng)，在基板W的表面 上形成規(guī)定的薄膜。例如，在基板W上形成PZT薄膜的情況下，通常， 基板溫度為500-700。C左右，從氣體反應(yīng)室2排出的排出氣體的溫度為20(TC左右。
排氣管2p與氣密腔連接，該排氣管2p還與上述排氣捕集裝置100 連接。排氣捕集裝置100與排氣管100p連接，該排氣管100p與由真 空泵等構(gòu)成的排氣裝置4連接。另外，上述原料氣體供給管lq在導(dǎo)入 氣體反應(yīng)室2中以前，與旁通管2q連接，該旁通管2q與排氣捕集裝 置3連接。排氣捕集裝置3通過旁通管3q與上述排氣管100p連接。
氣體反應(yīng)室2利用排氣裝置4，通過上述排氣管2p，排氣捕集裝 置100和排氣管100p減壓，保持為規(guī)定壓力。當(dāng)在氣體反應(yīng)室2內(nèi)部， 發(fā)生上述反應(yīng)時(shí)，在途中由排氣捕集裝置100捕集反應(yīng)副生成物后， 排出的氣體排出至排氣裝置4。從上述氣體供給部分1由原料氣體供給 管lq供給的原料氣體，在當(dāng)初氣體組成穩(wěn)定前和氣體反應(yīng)室2的準(zhǔn)備 完成前，或氣體反應(yīng)室2的反應(yīng)結(jié)束后，經(jīng)過旁通管2q、排氣捕集裝 置3和旁通管3q，排出至排氣裝置4。這時(shí)，在旁通管中流動的氣體， 為不經(jīng)由氣體反應(yīng)室2的原料氣體，利用排氣捕集裝置3，捕集從原料 氣體的析出物。
在圖7中表示將本發(fā)明的排氣捕集裝置100與氣體反應(yīng)室2的排 氣路徑連接的例子。但如上述的排氣捕集裝置3那樣，利用排氣捕集 裝置100作為在與上述氣體供給部分1連接的排氣路徑(旁通管路) 中間，捕集原料氣體用的排氣捕集裝置也可以。
另外，本發(fā)明的排氣捕集裝置和氣體反應(yīng)裝置不是僅限于上述圖 示的例子，在不偏離本發(fā)明的精神的范圍內(nèi)，可進(jìn)行各種變更。例如， 在上述實(shí)施例的排氣捕集裝置100中，構(gòu)成各個(gè)排氣捕集部分的通路 的軸線為直線狀，但為曲線狀也可以，或是折曲也可以。
另外，在上述排氣通路中，都設(shè)置多個(gè)沖突板，但不這樣，而是 設(shè)置螺旋軸線與排氣通路的軸線方向一致的一體型的螺旋狀的沖突板 (螺旋型沖突板)也可以。在這種情況下，在該螺旋狀沖突板的內(nèi)周 部或外周部與排氣通路的壁體之間設(shè)有間隙，可在排氣通路內(nèi)設(shè)置與 上述空間11Zt、 12Xt相同的空間。
另外，上述空間llZt、 12Xt都是在排氣通路的中心構(gòu)成的，但在 排氣通路的外周部構(gòu)成也可以，通過在沖突板上形成通孔構(gòu)成也可以。
另外，上述氣體反應(yīng)裝置，以在基板上形成薄膜的成膜裝置的情
況為例說明，但作為該成膜系統(tǒng)可舉出在使TiCl4和NH3反應(yīng)形成
TiN膜時(shí)，生成NH4C1作反應(yīng)副生物的情況；使SiH4或SiH2Cl2與NH3 反應(yīng)形成SiN膜時(shí)，生成NH4C1作為反應(yīng)副生成物的情況；使WF6和 NH3反應(yīng)，形成WN膜時(shí)，生成NH4F作為反應(yīng)副生物的情況；使TaCl4 和NH3反應(yīng)形成TaN膜時(shí)，生成NEUC1作為反應(yīng)副生成物的情況，此 外，形成金屬氧化膜的情況等。另外，作捕集物不僅限于上述的反應(yīng) 副生成物，捕集不起反應(yīng)的剩余的反應(yīng)氣體也可以。另外，在這種半 導(dǎo)體裝置的成膜裝置以外的干蝕劑裝置等其他氣體反應(yīng)裝置或LCD用 的裝置，同樣可使用本發(fā)明。
權(quán)利要求
1.一種排氣捕集裝置，從通過氣體的排氣路徑的排出氣體中捕集析出物，其特征在于，沿著所述排氣路徑串聯(lián)配置多個(gè)形成有使排出氣體通過其各自的內(nèi)部的排氣通路的排氣捕集部分；所述多個(gè)排氣捕集部分包含配置在排出氣體的流動方向的上游側(cè)的第一排氣捕集部分、和配置在下游側(cè)的第二排氣捕集部分；在所述第一和第二排氣捕集部分上分別設(shè)有沖突板；所述第二排氣捕集部分的排氣通路的軸線和沖突板形成的角度，比所述第一排氣捕集部分的排氣通路的軸線與沖突板形成的角度大。
2. 如權(quán)利要求1所述的排氣捕集裝置，其特征在于， 所述第一和第二排氣捕集部分以一個(gè)巻繞在另一個(gè)的外側(cè)上的方式配置，在所述第一排氣捕集部分和所述第二排氣捕集部分之間，設(shè) 有使排出氣體的流動方向反向的反轉(zhuǎn)通路部分。
3. 如權(quán)利要求2所述的排氣捕集裝置，其特征在于， 所述反轉(zhuǎn)通路部分以遍及所述第一和第二排氣捕集部分的整個(gè)周邊的方式將它們連接。
4. 如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的排氣捕集裝置，其特征在于， 配置所述沖突板，使得氣體螺旋狀地在配置有該沖突板的排氣通路內(nèi)流動。
5. —種氣體反應(yīng)裝置，其特征在于，具有氣體供給部分、使從該氣體供給部分供給的氣體反應(yīng)的氣體反應(yīng) 室、所述氣體供給部分或所述氣體反應(yīng)室的排氣路徑、和配置在該排 氣路徑中途的權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的排氣捕集裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種排氣捕集裝置，在捕集通過氣體排氣路徑的排出氣體中的析出物的排氣捕集裝置(100)中，沿著排氣路徑串聯(lián)配置多個(gè)排氣捕集部件(110、120、130)，其構(gòu)成使排出氣體在內(nèi)部通過的排氣通路。在各個(gè)捕集部件內(nèi)的排氣捕集部分上設(shè)置多個(gè)沖突板。上游側(cè)的捕集部件(110、120)的排氣捕集部分的沖突板，配置為在該排氣通路內(nèi)存在沿著排氣通路的軸線方向連續(xù)地延伸而不被配置在該排氣通路內(nèi)的沖突板遮斷的空間。下游側(cè)的排氣捕集部件(130)內(nèi)的排氣捕集部分的沖突板配置為不存在該空間。由此，可不進(jìn)行復(fù)雜的控制而抑制反應(yīng)副生物等的析出物堆積量的偏置，還可以可靠減少析出成分向排氣捕集裝置的下游側(cè)流出。
文檔編號B01D8/00GK101371958SQ20081012726
公開日2009年2月25日 申請日期2005年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月12日
發(fā)明者辻德彥 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社