1.一種單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置，其特征在于：該超聲清洗裝置包括清洗槽和與清洗槽相匹配的卡塞盒，所述清洗槽靠近上表面設(shè)置擱架，擱架將清洗槽分割成大小相等、彼此相鄰的隔槽，隔槽下方彼此連通，所述卡塞盒形狀與隔槽相匹配并可置于該隔槽內(nèi)，卡塞盒內(nèi)設(shè)置有隔層，卡塞盒底部鏤空。
2.如權(quán)利要求1所述的單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置，其特征在于：所述擱架將清洗槽分割成1-5行，2-8列隔槽。
3.如權(quán)利要求1所述的單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置，其特征在于：所述隔槽一對(duì)邊分別設(shè)置卡口，所述卡塞盒兩邊設(shè)置有與所述卡口相匹配的凸起。
4.如權(quán)利要求1所述的單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置，其特征在于：所述卡塞盒內(nèi)設(shè)置5-25個(gè)隔層。