本實(shí)用新型涉及單晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置。
背景技術(shù):
單晶硅片從晶棒上切割下來(lái)后,表面會(huì)聚集很多臟污,在進(jìn)入下道工序之前必須對(duì)硅片外表面進(jìn)行清洗處理,由于硅片厚度薄,數(shù)量大,若將其直接放置在普通清洗槽中勢(shì)必會(huì)造成堆積,以致不能對(duì)硅片表面進(jìn)行有效的清洗,清洗效果達(dá)不到規(guī)定的要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于克服現(xiàn)有的技術(shù)缺陷,提供一種單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置。
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題采用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):
一種單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置,包括清洗槽和與清洗槽相匹配的卡塞盒,所述清洗槽靠近上表面設(shè)置擱架,擱架將清洗槽分割成一個(gè)個(gè)大小相等、彼此相鄰的隔槽,隔槽下方彼此連通,水可以在隔槽底部自由流動(dòng),以便于利用超聲清洗并將臟污排出清洗槽。利用擱架將清洗槽分割成1-5行,2-8列隔槽,增大該清洗槽清洗容量。
所述隔槽一對(duì)邊分別設(shè)置卡口,所述卡塞盒形狀與隔槽相匹配并可置于該隔槽內(nèi),在卡塞盒兩邊設(shè)置有凸起,當(dāng)將卡塞盒放置于隔槽內(nèi)時(shí)通過(guò)凸起與卡口的配合將卡塞盒懸置于隔槽內(nèi)??ㄈ袃?nèi)設(shè)置有隔層,硅片置于該隔層內(nèi),可以設(shè)置5-25個(gè)隔層,卡塞盒底部鏤空,便于清洗硅片時(shí)水在卡塞盒內(nèi)流動(dòng),同時(shí)將臟污從底部帶走。
使用該超聲清洗槽對(duì)硅片進(jìn)行清洗時(shí),先將硅片置于卡塞盒內(nèi)的隔層中,將卡塞盒置于清洗槽內(nèi)的隔槽中,然后啟動(dòng)超聲裝置進(jìn)行清洗,為達(dá)到最佳的清洗效果,清洗用水最好淹沒(méi)卡塞盒頂部。
本實(shí)用新型的有益效果為:通過(guò)將普通清洗槽分割成一個(gè)個(gè)彼此連通的隔槽,裝有硅片的卡塞盒置于該隔槽內(nèi),從而能夠?qū)γ恳黄杵髅孢M(jìn)行全方位清洗,不會(huì)因?yàn)楣杵逊e而造成清洗死角。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型俯視圖;
圖2為裝置硅片的卡塞盒俯視圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解,下面結(jié)合具體圖示,進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。
如圖1、2所示,一種單晶硅片專(zhuān)用超聲清洗裝置,包括清洗槽1和與清洗槽1相匹配的卡塞盒5,清洗槽1靠近上表面設(shè)置擱架2,擱架2將清洗槽1分割成一個(gè)個(gè)大小相等、彼此相鄰的隔槽3,隔槽3下方彼此連通,水可以在隔槽3底部自由流動(dòng),以便于利用超聲清洗并將臟污排出清洗槽1。利用擱架2將清洗槽1分割成1-5行,2-8列隔槽,增大該清洗槽清洗容量。
在隔槽3一對(duì)邊分別設(shè)置卡口4,卡塞盒5形狀與隔槽3相匹配并可置于隔槽3內(nèi),在卡塞盒5兩邊設(shè)置有凸起7,當(dāng)將卡塞盒5放置于隔槽3內(nèi)時(shí)通過(guò)凸起7與卡口4的配合將卡塞盒5懸置于隔槽3內(nèi)。卡塞盒5內(nèi)設(shè)置有隔層6,硅片置于該隔層6內(nèi),可以設(shè)置5-25個(gè)隔層6,卡塞盒5底部鏤空,便于清洗硅片時(shí)水在卡塞盒5內(nèi)流動(dòng),同時(shí)將臟污從底部帶走。
使用該超聲清洗槽對(duì)硅片進(jìn)行清洗時(shí),先將硅片置于卡塞盒5內(nèi)的隔層6中,將卡塞盒5置于清洗槽1內(nèi)的隔槽3中,然后啟動(dòng)超聲裝置進(jìn)行清洗,為達(dá)到最佳的清洗效果,清洗用水最好淹沒(méi)卡塞盒5頂部。
以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下,本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等效物界定。