本實用新型涉及顯示屏制造領(lǐng)域，具體涉及一種基板清洗裝置。

背景技術(shù)：

在平板顯示裝置中，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liguid Crystal Display，簡稱TFT-LCD)具有體積小、功耗低、制造成本相對較低和無輻射等特點，得到了廣泛的應(yīng)用。

有機電致發(fā)光顯示器(Organic Electro luminesence Display，簡稱OLED)具有超輕薄、全固態(tài)、主動發(fā)光、響應(yīng)速度快、高對比度、無視角限制、工作溫度范圍寬、低功耗、低成本、抗震能力強及可實現(xiàn)柔性顯示等諸多優(yōu)點，被廣泛應(yīng)用于人們的日常生產(chǎn)、生活中。

在諸如上述顯示面板的制造工藝中，涉及多種有機材料，特別是高分子材料，在制作時都有可能產(chǎn)生碎屑?xì)埩粼诨迳?，因此，清洗工藝是基板制作時不可或缺的環(huán)節(jié)，清洗是一種事前去除工藝中的基板污染或微粒(Particle)以提高產(chǎn)品良率的工藝技術(shù)，而且，通過對基板的有效清洗，可以提高膜層間的粘附力(adhesion)。

現(xiàn)有技術(shù)中，針對基板清洗方法都是利用一排噴嘴的方式，對基板表面進行清洗，這種噴嘴是通過泵對水箱內(nèi)的水通過加壓處理后從噴嘴口噴出，利用噴嘴(圓形或扇形)噴出的水霧達到清洗基板的目的，但是這種噴嘴一般容易堵塞，容易造成對基板清洗的盲區(qū)；同時一排噴嘴設(shè)計，無法保證每個噴嘴噴出的壓力與流量都是均一的，也同樣影響對基板的清洗能力。

目前解決方案為：設(shè)備維護人員定期對噴嘴進行維護保養(yǎng)，確定噴嘴是否有堵塞；實行點檢制度，每天確認(rèn)噴嘴是否有堵塞，但是也同時增加了工作人員的工作量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種基板清洗裝置，避免出現(xiàn)傳統(tǒng)噴嘴易堵塞的現(xiàn)象，提高清洗效率。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種基板清洗裝置，用于清洗放置于所述基板清洗裝置底部的基板，包括：混合裝置以及設(shè)置在所述混合裝置頂部并與所述混合裝置相連通的供給部，所述混合裝置的底部設(shè)置有線性開口。

可選的，所述混合裝置為液刀，所述線性開口為液刀刀口。

可選的，所述供給部包含有多個供給管，所述多個供給管均與所述混合裝置相連通。

可選的，所述多個供給管與所述混合裝置平行設(shè)置，每個所述供給管上開設(shè)有多個出口，所述混合裝置的頂部開設(shè)有多個入口，所述出口與入口一一對應(yīng)并連通。

可選的，所述多個出口在所述供給管上均勻分布，所述多個入口在所述混合裝置上均勻分布。

可選的，所述供給部還包括多個液體或氣體存儲裝置，分別與不同的供給管連通。

可選的，還包括設(shè)置于所述液體或氣體存儲裝置與所述供給管之間的閥門；還包括設(shè)置于所述液體存儲裝置與所述閥門之間的泵。

可選的，所述供給部包含有兩個供給管，其中一個供給管用于提供去離子水，另一個供給管用于提供壓縮空氣。

可選的，在所述線性開口上設(shè)置有調(diào)節(jié)機構(gòu)，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)用于調(diào)節(jié)所述線性開口的開口長度。

可選的，所述基板清洗裝置與基板的夾角在0度與90度之間；所述基板清洗裝置的噴射方向與所述基板的前進方向相反。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供的基板清洗裝置的有益效果如下：

1、本實用新型通過在混合裝置的底部上設(shè)置線性開口，混合裝置中的混合液可以通過線性開口噴射至基板，有效避免了現(xiàn)有技術(shù)中個別的噴嘴易堵塞的現(xiàn)象，避免了由于個別噴嘴堵塞產(chǎn)生的清洗漏點，提高了清洗的效率；并且無需頻繁的對線性開口進行維護保養(yǎng)，在一定程度上提高了設(shè)備的利用率，并節(jié)約了人力成本；

2、在混合裝置的頂部設(shè)置有與所述混合裝置相連通的供給部，所述供給部包含多個供給管，每個供給管分別與不同的液體或氣體存儲裝置連通，不同的液體或氣體分別經(jīng)由不同的供給管進入混合裝置進行混合后通過線性開口噴射至基板，保證了整個線性開口噴射壓力與噴射流量的均一性。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例提供的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為使本實用新型的內(nèi)容更加清楚易懂，以下結(jié)合說明書附圖，對本實用新型的內(nèi)容做進一步說明。當(dāng)然本實用新型并不局限于該具體實施例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知的一般替換也涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。

其次，本實用新型利用示意圖進行了詳細(xì)的表述，在詳述本實用新型實例時，為了便于說明，示意圖不依照一般比例局部放大，不應(yīng)對此作為本實用新型的限定。

本實用新型的核心思想在于，本實用新型通過在混合裝置的底部上設(shè)置線性開口，混合裝置中的混合液可以通過線性開口噴射至基板，有效避免了現(xiàn)有技術(shù)中個別的噴嘴易堵塞的現(xiàn)象，避免了由于個別噴嘴堵塞產(chǎn)生的清洗漏點，提高了清洗的效率；并且無需頻繁的對線性開口進行維護保養(yǎng)，在一定程度上提高了設(shè)備的利用率，并節(jié)約了人力成本；在混合裝置的頂部設(shè)置有與所述混合裝置相連通的供給部，所述供給部包含多個供給管，每個供給管分別與不同的液體或氣體存儲裝置連通，不同的液體或氣體分別經(jīng)由不同的供給管進入混合裝置進行混合后通過線性開口噴射至基板，保證了整個線性開口噴射壓力與噴射流量的均一性。

本實用新型提供一種基板清洗裝置，用于清洗放置于所述基板清洗裝置底部的基板，包括：混合裝置以及設(shè)置在所述混合裝置頂部并與所述混合裝置相連通的供給部，所述混合裝置的底部設(shè)置有線性開口；所述供給部向所述混合裝置提供不同的液體或氣體，在所述混合裝置中進行混合后，通過所述混合裝置底部上設(shè)置的線性開口噴射至基板上，對基板進行清洗，所述線性開口的設(shè)置，有效避免了現(xiàn)有技術(shù)中個別的傳統(tǒng)噴嘴易堵塞的現(xiàn)象，避免了由于個別噴嘴堵塞產(chǎn)生的清洗漏點，提高了清洗的效率；并且無需頻繁的對線性噴嘴進行維護保養(yǎng)，在一定程度上提高了設(shè)備的利用率，并節(jié)約了人力成本。

請參考圖1所示，其為本實用新型一實施例提供的基板清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實用新型提供一種基板清洗裝置，用于清洗放置于所述基板清洗裝置下方的基板40，所述基板清洗裝置包括：混合裝置10以及設(shè)置在所述混合裝置10頂部并與所述混合裝置10相連通的供給部30，在所述混合裝置10的底部設(shè)置有線性開口20。

本實施例中，所述混合裝置10為液刀，所述線性開口20為液刀刀口。在其他實施例中，所述混合裝置10也可以采用其他的結(jié)構(gòu)，例如，所述混合裝置10為一圓錐體，所述線性開口20設(shè)置于所述圓錐體的底部，或者所述混合裝置10為一圓柱體，所述線性開口20設(shè)置于所述圓柱體的底部，或者所述混合裝置10為一多邊體，例如可以是正方體、長方體，其中所述正方體或長方體的一側(cè)邊朝向底部，即朝向待清洗的基板40，在該側(cè)邊上設(shè)置線性開口20。在本實施例中，不對所述混合裝置10的結(jié)構(gòu)進行限制，本實施例僅給出較佳的選擇。

所述供給部30包含多個供給管，所述多個供給管均與所述混合裝置相連通，所述多個供給管與所述混合裝置平行設(shè)置，每個所述供給管上開設(shè)有多個出口，所述混合裝置10的頂部開設(shè)有多個入口，所述出口與入口一一對應(yīng)并連通，并且所述多個出口在所述供給管上均勻設(shè)置，所述多個入口在所述混合裝置上均勻設(shè)置。所述供給部30還包括多個液體或氣體存儲裝置，每個所述供給管分別與不同的液體或氣體存儲裝置連通，不同的液體或氣體分別進入不同的供給管，通過供給管上的出口均勻的進入混合裝置，在所述混合裝置內(nèi)混合后通過線性開口噴射至基板，保證了線性開口噴射壓力與噴射流量的均一性。并且，在所述液體或氣體存儲裝置與所述供給管之間設(shè)置有閥門，用于控制進入所述供給管中的液體或氣體的流量，從而控制所述混合裝置10中不同的液體或氣體的含量，達到最佳的清洗效果。在所述液體存儲裝置與所述閥門之間設(shè)置有泵，用于抽取所述液體存儲裝置中的液體進入所述供給管。

具體的，請參照圖1，在本實施例中，所述供給部30包含有兩個供給管，第一供給管31與第二供給管32，所述第一供給管31用于提供去離子水(DIW)，所述第二供給管32用于提供壓縮空氣(CDA)，在其他實施例中，所述供給部30可以包含三個或三個以上的供給管，然后根據(jù)實際的情況選擇需要使用的供給管。

所述第一供給管31與第二供給管32與所述混合裝置10平行設(shè)置，所述第一供給管31上開設(shè)有多個第一出口311，所述第二供給管32上開設(shè)有多個第二出口321，所述混合裝置10的頂部開設(shè)有多個入口11，所述第一出口311、第二出口321與所述入口11一一對應(yīng)并連通，例如，圖1中位于所述混合裝置10頂部左側(cè)的入口11與所述第一出口311連通，位于所述混合裝置10頂部右側(cè)的入口11與所述第二出口321連通，需要說明的是，在圖1中，所述混合裝置10頂部左側(cè)的入口11與所述第一出口311相連通，所述混合裝置10頂部右側(cè)的入口11與所述第二出口321相連通，在其他實施例中，與所述第一出口311相連通的入口11以及與所述第二出口321相連通的入口11可以在所述混合裝置10的頂部交叉排列，或者可以采取其他的排列方式。優(yōu)選的，所述第一出口311在所述第一供給管31上均勻分布，所述第二出口321在所述第二供給管32上均勻分布，所述入口11在所述混合裝置10上均勻分布。

本實施例中，所述供給部30還包括一液體存儲裝置33與一氣體存儲裝置34，所述第一供給管31與所述液體存儲裝置33相連通，所述第二供給管32與所述氣體存儲裝置34相連通，所述液體存儲裝置33用于向所述第一供給管31提供去離子水，所述氣體存儲裝置34用于向所述第二供給管32提供壓縮空氣。在所述液體存儲裝置33與所述第一供給管31之間設(shè)置有第一閥門312，用于控制所述第一供給管31中的去離子水的流量；在所述氣體存儲裝置34與所述第二供給管32之間設(shè)置有第二閥門322，用于控制所述第二供給管32中壓縮空氣的流量，通過第一閥門312與第二閥門322的設(shè)置，控制混合裝置10中去離子水與壓縮空氣的含量。另外，在所述液體存儲裝置33與所述第一閥門之間設(shè)置有泵331，將所述液體存儲裝置33中的去離子水抽取到所述第一供給管31中。

在所述線性開口20上設(shè)置調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)(圖中未示出)，用于調(diào)節(jié)所述線性開口20的開口長度，從而適應(yīng)不同尺寸的基板40，減小所述基板清洗裝置的更換頻率。所述調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)可以是具有彈性的材料，可以沿所述線性開口的方向伸縮，通過所述調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)的壓縮與伸長來改變所述線性開口20的開口長度，或者所述調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)可以由若干個長度相同的活塞組成，所述活塞的寬度與所述線性開口的寬度相同，并且所述活塞的一側(cè)與所述線性開口的一側(cè)固定連接，所述活塞可以沿固定軸轉(zhuǎn)動，不需要的時候可以轉(zhuǎn)動至所述線性開口的外側(cè)壁上，使用時轉(zhuǎn)動活塞嵌入所述線性開口20，通過多個活塞的轉(zhuǎn)動實現(xiàn)所述線性開口20的開口長度的變化。

另外，在使用所述基板清洗裝置進行基板清洗時，所述基板清洗裝置與基板40的夾角在0度與90度之間，例如40度、50度、60度、70度、80度、85度，優(yōu)選的，所述基板清洗裝置與基板40的夾角為80度。所述基板清洗裝置的噴射方向與所述基板40的前進方向相反，從而在保證清洗效果的基礎(chǔ)上節(jié)省清洗時間。

綜上所述，本實用新型提供的基板清洗裝置，通過在混合裝置的底部上設(shè)置線性開口，混合裝置中的混合液可以通過線性開口噴射至基板，有效避免了現(xiàn)有技術(shù)中個別的噴嘴易堵塞的現(xiàn)象，避免了由于個別噴嘴堵塞產(chǎn)生的清洗漏點，提高了清洗的效率；并且無需頻繁的對線性開口進行維護保養(yǎng)，在一定程度上提高了設(shè)備的利用率，并節(jié)約了人力成本；在混合裝置的頂部設(shè)置有與所述混合裝置相連通的供給部，所述供給部包含多個供給管，每個供給管分別與不同的液體或氣體存儲裝置連通，不同的液體或氣體分別經(jīng)由不同的供給管進入混合裝置進行混合后通過線性開口噴射至基板，保證了整個線性開口噴射壓力與噴射流量的均一性。

上述描述僅是對本實用新型較佳實施例的描述，并非對本實用新型范圍的任何限定，本實用新型領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)上述揭示內(nèi)容做的任何變更、修飾，均屬于權(quán)利要求書的保護范圍。