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射出機真空裝置的制作方法

文檔序號:4435878閱讀:186來源:國知局
專利名稱:射出機真空裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種射出機的真空裝置,特別是涉及一種能以蓋體在 射出機內(nèi)形成負壓加工區(qū)域的射出機真空裝置。
背景技術(shù)
一般射出機由于缺乏在工作區(qū)域形成負壓環(huán)境的設(shè)計,因此在射出加 工時,無法以負壓的手段增加塑料的流動性,不能藉此降低缺陷的產(chǎn)生,亦 不能藉此提升成品的品質(zhì)。
雖然射出機缺乏將工作區(qū)域抽真空的構(gòu)造,但在加硫機上已有類似作 用的設(shè)計,前述類似的設(shè)計是在加硫機的注料道周圍套設(shè)一可升降的活動 罩,藉由活動罩的升降作用,在加硫機合模時,以活動罩配合罩蓋在下模座 形成可抽成真空的工作區(qū)域。
前述加硫機雖然有抽真空的構(gòu)造,但由于注料道的長度受限于活動罩 升降的行程,必須設(shè)為較長的長度,但如此的構(gòu)造若直接轉(zhuǎn)用在射出機,則 勢必增加塑料注料時流動的長度,影響塑料的流動性并且容易出現(xiàn)產(chǎn)生缺
陷的問題。
由此可見,上述現(xiàn)有的射出機缺乏真空裝置,但轉(zhuǎn)用加石克機的相關(guān)構(gòu) 造又容易造成注料時流動性不足,在結(jié)構(gòu)與使用上顯然仍存在有不便與缺 陷,而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題,相關(guān)廠商莫不費盡 心思來謀求解決之道,但長久以來一直未見適用的設(shè)計被發(fā)展完成,而一 般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題,此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的 問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的射出機真空裝置,實屬當前重要研發(fā) 課題之一,亦成為當前業(yè)界極需改進的目標。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型主要目的在于,克服現(xiàn)有射出機缺乏真空裝置,但轉(zhuǎn)用加硫 機的相關(guān)構(gòu)造又容易造成注料時流動性不足的缺陷,而提供一種新型結(jié)構(gòu) 的射出機真空裝置,所要解決的技術(shù)問題是使其以雙罩體的設(shè)計形成獨立 的蓋合構(gòu)造,在射出機形成可抽氣成為負壓環(huán)境的工作區(qū)域,藉此提升射出 成形的品質(zhì),非常適于實用。
本實用新型的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下的技術(shù)方案來實現(xiàn)
的。依據(jù)本實用新型提出的一種射出機真空裝置,其包括 一射出機體,該射出機體是設(shè)有一頂座,在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道;以及一罩蓋構(gòu) 造,該罩蓋構(gòu)造是設(shè)有一固定罩,該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面,并且環(huán) 繞于該注料道的周圍,在該固定罩的周圍以可上、下滑動形態(tài)套設(shè)一活動 罩,在該活動罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
本實用新型的目的以及解決其技術(shù)問題還可以采用以下的技術(shù)措施來 進一步實現(xiàn)。
前述的射出機真空裝置,其中所述的射出機體在所述頂座的下方設(shè)有 一底座,在該頂座以及該底座的周圍之間,以矩陣形態(tài)結(jié)合四個支撐柱,又 在該底座上設(shè)有一可升降的下模座,該下模座的四個角分別以可滑動形態(tài) 套設(shè)于四個支撐柱。
前述的射出機真空裝置,其中所述的頂座其中 一側(cè)面中間的上半部凹 i殳一凹部,對應(yīng)該凹部的下方在該頂座形成一穿置部,該穿置部是位于該 側(cè)相鄰的兩支撐柱之間,在該穿置部的中間及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一 壓缸穿置孔及兩導桿穿孔;以及對應(yīng)該穿置部下方的位置,在該活動罩的側(cè)
面固設(shè)一連結(jié)座,所述升降壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔,并 且以底端朝下伸設(shè)一壓缸桿,以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間,又在兩 導桿穿孔以可上、下滑動形態(tài)穿置兩導桿,以兩導桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。經(jīng)由以上可
知,為了達到上述目的,本實用新型提供了一種射出機真空裝置,包括
一射出機體,該射出機體是在上、下位置設(shè)有一頂座及一底座,又在該 頂、底座的周圍之間設(shè)有四個以矩陣形態(tài)排列設(shè)置的支撐柱,在該頂座底
部設(shè)有一注料道,又在該底座上設(shè)有一可升降的下模座;以及
一罩蓋構(gòu)造,該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩,該固定罩結(jié)合于該頂座的底 面,并且環(huán)繞于該注料道的周圍,在該固定罩的周圍以可上、下滑動形態(tài)套 設(shè)一活動罩,在該活動罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
進一步,本實用新型在頂座其中 一側(cè)面中間的上半部凹i殳一 凹部,對應(yīng) 該凹部的下方在該頂座形成一穿置部,該穿置部位于該側(cè)相鄰的兩支撐柱 之間,在該穿置部的中間以及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一壓缸穿置孔以及
兩導桿穿孔;
對應(yīng)該穿置部下方的位置,在該活動罩的側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座,所述升降 壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔,并且以底端朝下伸設(shè)一壓缸 桿,以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間,又在兩導桿穿孔以可上、下滑動形
態(tài)穿置兩導桿,以兩導桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
當本實用新型使用時,是以升降壓缸驅(qū)動活動罩下降,藉此,令射出機
體驅(qū)動下模座上升合模時,能以活動罩的底緣抵靠于下模座頂面的周圍,令固定罩、活動罩一同蓋合于下模座而形成工作區(qū)域,提供負壓源抽取空氣而 形成負壓的環(huán)境。
借由上述技術(shù)方案,本實用新型射出機真空裝置至少具有下列優(yōu)點及
有益效果由于本實用新型以活動罩能蓋合于底座,提供負壓源抽真空形 成負壓環(huán)境,因此能夠在加工時提升塑料的流動性以及速度,達到較佳的 射出效果并減少缺陷的產(chǎn)生。此外,由于固定罩、活動罩是獨立設(shè)置于注 料道周圍的構(gòu)造,因此注料道設(shè)置的長短不受活動罩升降行程的限制而能 夠設(shè)為較短的狀態(tài),能藉由縮短塑料注料時流動的過程,進一步避免缺陷的 產(chǎn)生。
綜上所述,本實用新型是有關(guān)于一種射出機真空裝置,其設(shè)有一頂 座,在頂座的底部設(shè)有一注料道,對應(yīng)注料道的周圍在頂座底面結(jié)合一固定 罩,又在固定罩的周圍以可上、下滑動形態(tài)套設(shè)一活動罩,在活動罩的側(cè)面
與頂座之間結(jié)合一升降壓缸;本實用新型使用時,是以升降壓缸降下活動 罩,令活動罩蓋合于下模座的周圍,接著以真空源朝固定、活動罩內(nèi)抽取空 氣形成負壓的環(huán)境,藉此增加注料時的流動性以及速度,并由于雙罩體的 構(gòu)造與注料道是獨立的設(shè)計,因此注料道能設(shè)為較短的形態(tài),能夠降低塑 料的流動行程,進一步避免缺陷的產(chǎn)生。本實用新型在技術(shù)上有顯著的進 步,并具有明顯的積極效果,誠為一新穎、進步、實用的新設(shè)計。
上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實 用新型的技術(shù)手段,而可依照說明書的內(nèi)容予以實施,并且為了讓本實用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實施 例,并配合附圖,詳細說明如下。


圖1是本實用新型較佳實施例的主視圖。
圖2是本實用新型較佳實施例的右視圖。
圖3是本實用新型較佳實施例的局部結(jié)構(gòu)立體圖。
圖4是本實用新型較佳實施例的動作示意圖。
10:射出機體11:頂座
111:凹部112:穿置部
1121:壓缸穿置孔1122:導桿穿孔
12:底座13:支撐柱
14:注料道15:下模座
20:罩蓋構(gòu)造21:固定罩
22:活動罩23:連結(jié)座
24:升降壓缸241: 5壓缸桿25: 導桿具體實施方式
為更進一步闡述本實用新型為達成預定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效,
以下結(jié)合附圖及較佳實施例,對依據(jù)本實用新型提出的射出機真空裝 置其具體實施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效,詳細說明如后。
有關(guān)本實用新型的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點及功效,在以下配合參閱 圖式,較佳實施例的詳細說明中將可清楚的呈現(xiàn)。通過具體實施方式
的說
加深入且具體的了解,然而所附圖式僅是提供參考與說明之用,并非用來對 本實用新型加以限制。
本實用新型是一種射出機真空裝置,請參閱圖1、圖2及圖3所示,圖1 是本實用新型較佳實施例的主視圖,圖2是本實用新型較佳實施例的右視 圖,圖3是本實用新型較佳實施例的局部結(jié)構(gòu)立體圖。本實用新型較佳實施 例的射出機真空裝置,其包括
一射出機體10,射出機體10在上、下相對的位置分別設(shè)有一頂座11 以及一底座12,又在頂座11與底座12的周圍之間,以矩陣的排列方式結(jié)合 四個支撐柱13;
其中,在頂座11右側(cè)面中間的上半部凹設(shè)一凹部lll,對應(yīng)凹部111的 下方在頂座11側(cè)面的底部形成一穿置部112,穿置部ll2是位于右側(cè)前、后 相鄰的兩支撐柱13之間,在穿置部112的中間垂直穿設(shè)一壓缸穿置孔 1121,對應(yīng)壓缸穿置孔1121的前、后兩側(cè),在穿置部112垂直穿設(shè)兩導桿穿 孔1122;
在頂座11底部的中央設(shè)有一注料道14,又在底座l2上設(shè)有一藉由壓缸 驅(qū)動而可升降的下模座15,下模座15的四角分別套設(shè)于四個支撐柱13,藉 此,令下模座15可藉由四個支撐柱13的導引作穩(wěn)定的升降。
一罩蓋構(gòu)造20,罩蓋構(gòu)造20設(shè)有一固定罩21,固定罩21是矩形的環(huán)
狀罩殼,其以頂部結(jié)合固定于頂座11的底面,并藉此環(huán)繞于注料道l4的 周圍,在固定罩21的周圍以可上、下滑動的形態(tài)套設(shè)一活動罩22,活動罩 22形狀對應(yīng)固定罩21的矩形環(huán)狀殼體,并且活動罩22下移的行程不超過固 定罩21的下緣;
對應(yīng)穿置部112下方的位置,在活動罩22的右側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座 2 3,連結(jié)座23是位于右側(cè)前、后相鄰的兩支撐柱13之間;
在穿置部112的壓缸穿置孔1121穿置結(jié)合一升降壓缸24,升降壓缸24 是以垂直的形態(tài)設(shè)置,并且在底端朝下伸設(shè)一壓缸桿241,以壓缸桿M1結(jié) 合于連結(jié)座23的中間,又在兩導桿穿孔1122以可上、下滑動形態(tài)穿置兩導
6桿25,兩導桿25各以底端結(jié)合于連結(jié)座23的兩側(cè),藉此提供升降壓缸24驅(qū) 動活動罩22升降時的導引作用,令活動罩22能夠穩(wěn)定升降。
當本實用新型使用時,請參閱圖4所示,是本實用新型較佳實施例的 動作示意圖。當合模時,射出機體10驅(qū)動下模座15上升,同時升降壓缸 24將壓缸桿241伸長,帶動活動罩22下降,以活動罩22的底緣抵靠于下 模座15頂面的周圍,令固定罩21、活動罩22—同蓋合于下模座15而形成 工作區(qū)域,接著以負壓源朝固定罩21與活動罩22內(nèi)抽取空氣,使得前述 的工作區(qū)域形成負壓環(huán)境,如此使注料道14朝模具注料射出成形時,能夠 增加塑料的流動性以及速度,達成較佳的射出成形效果并減少成品缺陷的產(chǎn)生。
以上所述,僅是本實用新型的較佳實施例而已,并非對本實用新型作任 何形式上的限制,雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上,然而并非用 以限定本實用新型,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實用新型技術(shù) 方案范圍內(nèi),當可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變 化的等效實施例,但凡是未脫離本實用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實用 新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍 屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種射出機真空裝置,其特征在于其包括一射出機體,該射出機體是設(shè)有一頂座,在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道;以及一罩蓋構(gòu)造,該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩,該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面,并且環(huán)繞于該注料道的周圍,在該固定罩的周圍以上、下滑動形態(tài)套設(shè)一活動罩,在該活動罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的射出機真空裝置,其特征在于其中所述的射 出機體在所述頂座的下方設(shè)有一底座,在該頂座以及該底座的周圍之間,以 矩陣形態(tài)結(jié)合四個支撐柱,又在該底座上設(shè)有一升降的下模座,該下模座的 四個角分別以滑動形態(tài)套設(shè)于四個支撐柱。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的射出機真空裝置,其特征在于其中所述的頂 座其中 一側(cè)面中間的上半部凹設(shè)一凹部,對應(yīng)該凹部的下方在該頂座形成 一穿置部,該穿置部是位于該側(cè)相鄰的兩支撐柱之間,在該穿置部的中間 及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一壓缸穿置孔及兩導桿穿孔;以及對應(yīng)該穿置部下方的位置,在該活動罩的側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座,所述升降 壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔,并且以底端朝下伸設(shè)一壓缸 桿,以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間,又在兩導桿穿孔以上、下滑動形態(tài) 穿置兩導桿,以兩導桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
專利摘要本實用新型是有關(guān)于一種射出機真空裝置,其包括一射出機體,該射出機體是設(shè)有一頂座,在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道;以及一罩蓋構(gòu)造,該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩,該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面,并且環(huán)繞于該注料道的周圍,在該固定罩的周圍以可上、下滑動形態(tài)套設(shè)一活動罩,在該活動罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。本實用新型在使用時,是以升降壓缸降下活動罩,令活動罩蓋合于下模座的周圍,接著以真空源朝固定、活動罩內(nèi)抽取空氣形成負壓的環(huán)境,藉此增加注料時的流動性以及速度,并由于雙罩體的構(gòu)造與注料道是獨立的設(shè)計,因此注料道能夠設(shè)為較短的形態(tài),能夠降低塑料的流動行程,進一步避免缺陷的產(chǎn)生。
文檔編號B29C45/17GK201342772SQ200920000230
公開日2009年11月11日 申請日期2009年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月8日
發(fā)明者賴錦柱 申請人:賴錦柱
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