本發(fā)明涉及研磨掃光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

在玻璃生產(chǎn)過程中，通常需要采用研磨掃光機(jī)對(duì)玻璃進(jìn)行研磨掃光以滿足出廠需求?，F(xiàn)有的研磨掃光機(jī)自動(dòng)化程度低，需要人工手動(dòng)將玻璃逐片地放置到研磨掃光機(jī)的載盤上，再通過載盤上的真空孔吸附玻璃以進(jìn)行后續(xù)的研磨掃光工藝，當(dāng)完成對(duì)玻璃的研磨掃光后，又需要人工手動(dòng)將玻璃從載盤上逐片取下。

在玻璃上料時(shí)，通過人工手動(dòng)放置玻璃過程中，在載盤沒有完全上滿料之前，載盤上的部分真空孔外露而直接與大氣接通，使得載盤對(duì)玻璃的吸力不足，容易引起其他正在進(jìn)行研磨的載盤上的玻璃脫離而打碎在磨盤罩里，出現(xiàn)炒機(jī)現(xiàn)象；在下料時(shí)也是一樣，當(dāng)載盤上的玻璃被逐片取下時(shí)，已取下的玻璃所對(duì)應(yīng)的真空孔恢復(fù)直接與大氣接通，當(dāng)只剩下最后幾片玻璃時(shí)，由于大部分真空孔和大氣接通使得載盤對(duì)玻璃的吸力變得非常弱，進(jìn)而容易造成玻璃脫落摔碎。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例要解決的技術(shù)問題是，提供一種研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)所有玻璃一次性全上和全卸，安全系數(shù)高。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)，包括外接真空系統(tǒng)以對(duì)片材原料實(shí)施真空吸附的載盤、用于驅(qū)動(dòng)載盤旋轉(zhuǎn)及升降的載盤驅(qū)動(dòng)模塊以及用于控制載盤驅(qū)動(dòng)模塊工作狀態(tài)的控制模塊，所述研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)還包括設(shè)于載盤下方用于預(yù)裝載所述片材原料的中轉(zhuǎn)模塊，所述中轉(zhuǎn)模塊包括載料臺(tái)、用于承載片材原料的中轉(zhuǎn)盤、用于產(chǎn)生真空以從底部吸附固定中轉(zhuǎn)盤上的片材原料的吸附組件、用于驅(qū)動(dòng)所述載料臺(tái)升降的升降驅(qū)動(dòng)組件，所述中轉(zhuǎn)盤放置于載料臺(tái)上并與載料臺(tái)在周向上相對(duì)定位，所述升降驅(qū)動(dòng)組件和吸附組件均電連接至所述控制模塊并在所述控制模塊控制下與載盤驅(qū)動(dòng)模塊協(xié)同動(dòng)作。

進(jìn)一步地，所述中轉(zhuǎn)模塊還包括設(shè)于載料臺(tái)下方的旋轉(zhuǎn)支撐組件以及用于使載盤和中轉(zhuǎn)盤相對(duì)定位的旋轉(zhuǎn)定位件，所述旋轉(zhuǎn)定位件包括：設(shè)置于載盤側(cè)緣的滑動(dòng)座、可滑動(dòng)地安裝于滑動(dòng)座內(nèi)且底端自滑動(dòng)座底面伸出的滑塊、安裝于滑塊底端的定位滾輪、用于保持滑塊相對(duì)于滑動(dòng)座彈性伸出的彈性件、安裝于滑動(dòng)座頂端且與彈性件遠(yuǎn)離滑塊一端連接的蓋板以及固定設(shè)于中轉(zhuǎn)盤靠側(cè)緣處且與所述定位滾輪位于同一圓周上的擋塊，定位滾輪和擋塊在周向上相互抵頂配合實(shí)現(xiàn)載盤和中轉(zhuǎn)盤的相對(duì)定位，使中轉(zhuǎn)盤與載盤同步旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地，所述擋塊的與定位滾輪相抵頂?shù)膫?cè)面相背離的另一側(cè)面為斜面，且所述斜面的頂緣與所述擋塊的與定位滾輪相抵頂?shù)膫?cè)面的頂緣的間距小于預(yù)定值。

進(jìn)一步地，所述載料臺(tái)的頂面設(shè)有凸環(huán)，凸環(huán)頂面開設(shè)有環(huán)形槽，所述環(huán)形槽內(nèi)嵌設(shè)有密封圈，所述中轉(zhuǎn)盤放置于所述密封圈上，由中轉(zhuǎn)盤的底面、載料臺(tái)的頂面、凸環(huán)及密封圈共同圍繞形成密封腔，所述密封腔還通過氣路外接真空系統(tǒng)，且中轉(zhuǎn)盤上開設(shè)有若干與所述密封腔導(dǎo)通的真空吸孔。

進(jìn)一步地，所述升降驅(qū)動(dòng)組件包括基板、驅(qū)動(dòng)基板升降的升降驅(qū)動(dòng)件以及分別用于限定基板升降行程的兩端極限位置的上緩沖器和下緩沖器，所述升降驅(qū)動(dòng)件、上緩沖器和下緩沖器均固設(shè)于支撐座上，所述基板底面設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)向柱，且支撐座設(shè)有與所述導(dǎo)向柱對(duì)應(yīng)配合的導(dǎo)向孔。

進(jìn)一步地，所述基板中部開設(shè)有通孔，所述旋轉(zhuǎn)支撐組件包括轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸可旋轉(zhuǎn)地組裝于基板上的通孔內(nèi)，且轉(zhuǎn)軸頂端與載料臺(tái)的底面相固定，所述轉(zhuǎn)軸上還固定有傳感片，基板底面對(duì)應(yīng)向下伸出設(shè)置有由所述傳感片旋轉(zhuǎn)經(jīng)過時(shí)而觸發(fā)以對(duì)轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)且電聯(lián)接至控制模塊的感應(yīng)器。

進(jìn)一步地，所述吸附組件包括設(shè)置于轉(zhuǎn)軸中心的氣體通道以及設(shè)于轉(zhuǎn)軸底端與所述氣體通道相連通的氣接頭，轉(zhuǎn)軸頂端設(shè)有與所述密封腔相連通的導(dǎo)氣孔，所述氣接頭連接至真空系統(tǒng)。

進(jìn)一步地，所述旋轉(zhuǎn)支撐組件還包括摩擦阻尼件，所述摩擦阻尼件包括與所述轉(zhuǎn)軸同軸固定的摩擦輪、與摩擦輪對(duì)應(yīng)配合的皮帶、設(shè)于基板底面分別用于固定連接所述皮帶兩端的皮帶夾座和皮帶拉緊塊以及連接于皮帶拉緊塊和皮帶之間的拉簧，所述皮帶的一端由所述皮帶夾座夾緊鎖固，所述皮帶的另一端通過所述拉簧連接至所述皮帶拉緊塊。

進(jìn)一步地，所述中轉(zhuǎn)盤的頂部為軟質(zhì)材料制成承載層，所述真空吸孔貫穿所述承載層，或者所述中轉(zhuǎn)盤頂面放置有軟質(zhì)材料制成的墊板，且所述墊板上開設(shè)有與中轉(zhuǎn)盤上的真空吸孔對(duì)應(yīng)的透孔。

進(jìn)一步地，所述載料臺(tái)的靠側(cè)緣處裝設(shè)有至少兩個(gè)定位珠，且在所述載料臺(tái)和中轉(zhuǎn)盤上均對(duì)應(yīng)開設(shè)有定位孔，中轉(zhuǎn)盤放置于載料臺(tái)上，所述定位珠插入所述定位孔內(nèi)使所述中轉(zhuǎn)盤與載料臺(tái)在周向上相對(duì)定位；所述載料臺(tái)外側(cè)還設(shè)有若干對(duì)所述中轉(zhuǎn)盤的側(cè)邊緣進(jìn)行定位的側(cè)向定位滾輪。

通過采用上述技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例的有益效果如下：本發(fā)明實(shí)施例通過在載盤下方設(shè)有用于預(yù)裝載片材原料的中轉(zhuǎn)模塊，可以一次性將所有片材原料放置于中轉(zhuǎn)模塊中的中轉(zhuǎn)盤上，通過控制模塊控制中轉(zhuǎn)模塊中的升降驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤向載盤運(yùn)動(dòng)以使片材原料與載盤抵接，再通過控制模塊控制吸附組件停止工作使中轉(zhuǎn)盤破真空，而載盤與真空系統(tǒng)導(dǎo)通使片材原料被真空吸附在載盤上，升降驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)回程使中轉(zhuǎn)盤與片材原料分離，從而實(shí)現(xiàn)所有片材原料一次性上料；另外，在下料時(shí)，通過控制模塊控制升降驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)靠近載盤使中轉(zhuǎn)盤抵接載盤上加工完成后的片材原料，真空系統(tǒng)與載盤導(dǎo)通截止使載盤破真空，控制模塊控制吸附組件工作使中轉(zhuǎn)盤產(chǎn)生真空從而吸附片材原料，升降驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)回程使載盤與片材原料分離，從而實(shí)現(xiàn)所有片材原料一次性下料。在上下料過程中所有片材原料同上同下，能有效避免載盤因部分與片材原料對(duì)應(yīng)的真空孔直接與大氣連通而出現(xiàn)漏真空，進(jìn)而使片材原料自己脫落摔碎甚至損壞研磨掃光機(jī)。

附圖說明

圖1是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的主視示意圖。

圖3是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的俯視示意圖。

圖4是圖2中A部分的發(fā)大示意圖。

圖5是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的拆分的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是沿圖3中B-B面的剖視示意圖。

圖7是圖6中C部分的放大示意圖。

圖8是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的載料臺(tái)與中轉(zhuǎn)盤的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖9是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的升降驅(qū)動(dòng)組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖10是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)定位件的拆分蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖11是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)定位件的縱向剖視示意圖。

圖12是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例載盤和中轉(zhuǎn)盤同步旋轉(zhuǎn)時(shí)旋轉(zhuǎn)定位件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖13是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的傳感片和感應(yīng)器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖14是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的吸附組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖15是本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)一個(gè)實(shí)施例的摩擦阻尼件的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，以下的示意性實(shí)施例及說明僅用來解釋本發(fā)明，并不作為對(duì)本發(fā)明的限定，而且，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互結(jié)合。

如圖1至圖15所示，本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供一種研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)，包括外接真空系統(tǒng)（圖未示出）以對(duì)片材原料100實(shí)施真空吸附的載盤1、用于驅(qū)動(dòng)載盤1旋轉(zhuǎn)及升降的載盤驅(qū)動(dòng)模塊2、用于控制載盤驅(qū)動(dòng)模塊2工作狀態(tài)的控制模塊（圖未示出）以及設(shè)于載盤1下方用于預(yù)裝載所述片材原料100的中轉(zhuǎn)模塊3，所述載盤1設(shè)有用于真空吸附片材原料100的真空孔（圖未示出）。

所述中轉(zhuǎn)模塊3包括載料臺(tái)31、用于承載片材原料100的中轉(zhuǎn)盤32、用于產(chǎn)生真空以從底部吸附固定中轉(zhuǎn)盤32上的片材原料100的吸附組件33、用于驅(qū)動(dòng)所述載料臺(tái)31升降的升降驅(qū)動(dòng)組件34，所述中轉(zhuǎn)盤32放置于載料臺(tái)31上并與載料臺(tái)31在周向上相對(duì)定位，所述升降驅(qū)動(dòng)組件34和吸附組件33均電連接至所述控制模塊并在所述控制模塊控制下與載盤驅(qū)動(dòng)模塊2協(xié)同動(dòng)作。

本實(shí)施例通過在載盤1下方設(shè)有用于預(yù)裝載片材原料100的中轉(zhuǎn)模塊3，可以一次性將所有片材原料100放置于中轉(zhuǎn)模塊3中的中轉(zhuǎn)盤32上，通過控制模塊控制中轉(zhuǎn)模塊3中的升降驅(qū)動(dòng)組件34驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)31帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤32向載盤1運(yùn)動(dòng)以使片材原料100與載盤1抵接，再通過控制模塊控制吸附組件33停止工作使中轉(zhuǎn)盤32破真空，而載盤1與真空系統(tǒng)導(dǎo)通使片材原料100被真空吸附在載盤1上，升降驅(qū)動(dòng)組件34驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)31回程使中轉(zhuǎn)盤32與片材原料100分離，從而實(shí)現(xiàn)所有片材原料100一次性上料。

在下料時(shí)，通過控制模塊控制升降驅(qū)動(dòng)組件34驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)31靠近載盤1使中轉(zhuǎn)盤32抵接載盤1上加工完成后的片材原料100，真空系統(tǒng)與載盤1導(dǎo)通截止使載盤1破真空，控制模塊控制吸附組件33工作使中轉(zhuǎn)盤32產(chǎn)生真空從而吸附片材原料100，升降驅(qū)動(dòng)組件34驅(qū)動(dòng)載料臺(tái)31回程使載盤1與片材原料100分離，從而實(shí)現(xiàn)所有片材原料100一次性下料。

在上下料過程中所有片材原料100同上同下，能有效避免載盤1因部分與片材原料100對(duì)應(yīng)的真空孔直接與大氣連通而出現(xiàn)漏真空，進(jìn)而使片材原料100自己脫落摔碎甚至損壞研磨掃光機(jī)，能提高生產(chǎn)效率，提高片材原料100的安全性。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述中轉(zhuǎn)模塊3還包括用于使載盤1和中轉(zhuǎn)盤32相對(duì)定位的旋轉(zhuǎn)定位件35以及設(shè)于載料臺(tái)31下方的旋轉(zhuǎn)支撐組件36，所述旋轉(zhuǎn)定位件35包括設(shè)置于載盤1側(cè)緣的滑動(dòng)座351、可滑動(dòng)地安裝于滑動(dòng)座351內(nèi)且底端自滑動(dòng)座351底面伸出的滑塊352、安裝于滑塊352底端的定位滾輪353、用于保持滑塊352相對(duì)于滑動(dòng)座351彈性伸出的彈性件354、安裝于滑動(dòng)座351頂端且與彈性件354遠(yuǎn)離滑塊352一端連接的蓋板355以及固定設(shè)于中轉(zhuǎn)盤32靠側(cè)緣處且與所述定位滾輪353位于同一圓周上的擋塊356，定位滾輪353和擋塊356在周向上相互抵頂配合實(shí)現(xiàn)載盤1和中轉(zhuǎn)盤32的相對(duì)定位，使中轉(zhuǎn)盤32與載盤1同步旋轉(zhuǎn)。在一個(gè)具體實(shí)施實(shí)施例中，采用彈簧作為所述彈性件354。

本實(shí)施例通過旋轉(zhuǎn)定位件35使載盤1和中轉(zhuǎn)盤32實(shí)現(xiàn)相對(duì)定位，還可通過定位滾輪353和擋塊356的相互抵頂作用而實(shí)現(xiàn)載盤1與中轉(zhuǎn)盤32的同步旋轉(zhuǎn)，能有效使載盤1上的用于真空吸附片材原料100的真空孔與中轉(zhuǎn)盤32上的片材原料100相位重合，使載盤1對(duì)片材原料100的吸附作用更加牢固可靠。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述擋塊356的與定位滾輪353相抵頂?shù)膫?cè)面相背離的另一側(cè)面為斜面，且所述斜面的頂緣與所述擋塊356的與定位滾輪353相抵頂?shù)膫?cè)面的頂緣的間距小于預(yù)定值，通常地，所述預(yù)定值即是擋塊356的頂面寬度，當(dāng)擋塊356頂面越窄，可以使得載盤1和中轉(zhuǎn)盤32的最小間距設(shè)計(jì)得越小，整體結(jié)構(gòu)更顯緊湊，而且，在載盤1旋轉(zhuǎn)下降過程中，若載盤1剛好在定位滾輪353處于擋塊356頂面滾動(dòng)經(jīng)過時(shí)下降至下限位置時(shí)，更容易避免定位滾輪353被卡死。

在具體實(shí)施時(shí)，在完成中轉(zhuǎn)盤32預(yù)裝載片材原料100后，控制模塊即控制載盤驅(qū)動(dòng)模塊2驅(qū)動(dòng)載盤1順時(shí)針旋轉(zhuǎn)下降，在降至到預(yù)定的下限高度位置時(shí)，載盤1可以繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，但高度不再下降，載盤1將旋轉(zhuǎn)至旋轉(zhuǎn)定位件35中的定位滾輪353抵靠在擋塊356的與斜面相背離的一側(cè)側(cè)面，此時(shí)，定位滾輪353的中軸線與擋塊356的頂面處于同一水平面上，從而滿足機(jī)械定位條件，載盤1再進(jìn)一步順時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)即能通過定位滾輪353推動(dòng)擋塊356進(jìn)而帶動(dòng)載料臺(tái)31及中轉(zhuǎn)盤32同步旋轉(zhuǎn)。

而在載盤1在順時(shí)針旋轉(zhuǎn)下降的過程中，定位滾輪353逐漸下降至定位滾輪353的底緣已經(jīng)低于擋塊356的頂面但是定位滾輪353的中軸線還高于擋塊356的頂面且與擋塊356抵接時(shí)，擋塊356的頂面的靠用于與定位滾輪353相抵頂?shù)囊粋?cè)面的側(cè)緣對(duì)定位滾輪353的抵推力將使得定位滾輪353克服彈性件354的彈性推力而向上回縮而沿?fù)鯄K356的頂面滾動(dòng)并壓縮彈性件354，從而不會(huì)阻礙載盤1的旋轉(zhuǎn)下降，當(dāng)定位滾輪353越過擋塊356的頂面時(shí)，彈性件354將使得定位滾輪353再次下降而與擋塊356的斜面保持接觸。通過設(shè)置斜面，可以避免在載盤1旋轉(zhuǎn)下降過程中可能出現(xiàn)的一種極端情況時(shí)仍能保持載盤順暢旋轉(zhuǎn)，即：定位滾輪353在擋塊356的頂面滾動(dòng)時(shí)載盤1達(dá)到預(yù)定下限高度位置，此時(shí)，因定位滾輪353已經(jīng)受力擋塊356的抵推而回縮，載盤1的下降將有可能使得載盤1和擋塊356頂面之間的間距過小而無法容納定位滾輪353，故通過設(shè)置斜面而能使得定位滾輪353在彈性件354的作用下沿斜面下滑，以避免定位滾輪353卡死甚至損壞載盤1等結(jié)構(gòu)，可見，擋塊356的頂面越窄越有利于避免定位滾輪353被卡死?？梢岳斫獾氖?，若載盤1下降至下限位置，而定位滾輪353受擋塊356的推壓而向上回縮的距離仍小于定位滾輪353最大可回縮行程時(shí)，則此時(shí)的定位滾輪353并不會(huì)被卡死，相應(yīng)地，所述擋塊356不必設(shè)置所述斜面，采用易于制造的長方體形狀的擋塊356即可。

本實(shí)施例通過載盤1主動(dòng)旋轉(zhuǎn)并通過旋轉(zhuǎn)定位件35帶動(dòng)中轉(zhuǎn)模塊3旋轉(zhuǎn)從而實(shí)現(xiàn)載盤1與中轉(zhuǎn)盤32的同步旋轉(zhuǎn)，而且在載盤1和中轉(zhuǎn)盤32同步旋轉(zhuǎn)過程中，定位滾輪353抵靠在擋塊356的側(cè)面，使載盤1和中轉(zhuǎn)盤32精確定位，可以使載盤1精確地吸取中轉(zhuǎn)盤32上的片材原料100或?qū)⑤d盤1上的片材原料100精確地放置到中轉(zhuǎn)盤32上的預(yù)定位置；此外，減少驅(qū)動(dòng)件的使用，能有效降低生產(chǎn)成本。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述載料臺(tái)31的頂面設(shè)有凸環(huán)311，凸環(huán)311頂面開設(shè)有環(huán)形槽312，所述環(huán)形槽312內(nèi)嵌設(shè)有密封圈4，所述中轉(zhuǎn)盤32放置于所述密封圈4上，由中轉(zhuǎn)盤32的底面、載料臺(tái)31的頂面、凸環(huán)311及密封圈4共同圍繞形成密封腔313，所述密封腔313還通過氣路外接真空系統(tǒng)，且中轉(zhuǎn)盤32上開設(shè)有若干與所述密封腔313導(dǎo)通的真空吸孔321。

本實(shí)施例通過在載料臺(tái)31上設(shè)有凸環(huán)311且凸環(huán)311的頂面設(shè)有環(huán)形槽312，密封圈4內(nèi)嵌在環(huán)形槽312內(nèi)，能有效提高密封腔313的密封性進(jìn)而提高中轉(zhuǎn)盤32對(duì)片材原料100的吸附作用，提高中轉(zhuǎn)模塊3在上下料過程中的穩(wěn)定性。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述升降驅(qū)動(dòng)組件34包括基板341、驅(qū)動(dòng)基板341升降的升降驅(qū)動(dòng)件342以及分別用于限定基板341升降行程的兩端極限位置的上緩沖器343和下緩沖器344，所述升降驅(qū)動(dòng)件342、上緩沖器343和下緩沖器344均固設(shè)于支撐座345上，所述基板341底面設(shè)有若干個(gè)導(dǎo)向柱346，且支撐座345設(shè)有與所述導(dǎo)向柱346對(duì)應(yīng)配合的導(dǎo)向孔（圖未標(biāo)號(hào)）。在一個(gè)具體實(shí)施例中，所述導(dǎo)向柱346為對(duì)稱設(shè)置于基板341底面上的4根。

本實(shí)施例通過設(shè)有上緩沖其343和下緩沖器344以限定升降驅(qū)動(dòng)件342驅(qū)動(dòng)基板341進(jìn)行升降時(shí)的兩端極限位置，避免升降驅(qū)動(dòng)件342在驅(qū)動(dòng)基板341帶動(dòng)中轉(zhuǎn)模塊3上的中轉(zhuǎn)盤32與載盤1抵接時(shí)仍繼續(xù)驅(qū)動(dòng)中轉(zhuǎn)模塊3向載盤1運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而使得片材原料100因中轉(zhuǎn)盤32和載盤1的擠壓出現(xiàn)損壞，能有效提高本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)的使用安全性；另一方面，通過在基板341底面設(shè)有導(dǎo)向柱346，通過導(dǎo)向柱346與導(dǎo)向孔的配合保證升降驅(qū)動(dòng)件342驅(qū)動(dòng)基板341升降時(shí)基板341的穩(wěn)定性，提高產(chǎn)品質(zhì)量。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述基板341中部開設(shè)有通孔347，所述旋轉(zhuǎn)支撐組件36包括轉(zhuǎn)軸361，所述轉(zhuǎn)軸361可旋轉(zhuǎn)地組裝于基板341上的通孔347內(nèi)，且轉(zhuǎn)軸361頂端與載料臺(tái)31的底面相固定。如前所述，在載盤1旋轉(zhuǎn)過程中，由定位滾輪353抵頂住擋塊356進(jìn)而帶動(dòng)載料臺(tái)31及中轉(zhuǎn)盤32同步旋轉(zhuǎn)，即：以所述轉(zhuǎn)軸361為軸心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。當(dāng)然，也可以另外設(shè)置動(dòng)力件來帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸361旋轉(zhuǎn)，此時(shí)，則需要通過控制模塊來保證載盤1和中轉(zhuǎn)盤32旋轉(zhuǎn)保持同步。在所述轉(zhuǎn)軸361上還固定有傳感片362，基板341底面對(duì)應(yīng)向下伸出設(shè)置有由所述傳感片362旋轉(zhuǎn)經(jīng)過時(shí)而觸發(fā)以對(duì)轉(zhuǎn)軸361的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)且電聯(lián)接至控制模塊的感應(yīng)器363。在一個(gè)具體實(shí)施例中，所述傳感片362采用原點(diǎn)感應(yīng)片，所述感應(yīng)器363采用光電傳感器。

本實(shí)施例通過轉(zhuǎn)軸361可旋轉(zhuǎn)地組裝于基板341上的通孔347內(nèi)且轉(zhuǎn)軸361頂端與載料臺(tái)31的底面相固定，能有效提高載料臺(tái)31與升降驅(qū)動(dòng)組件34之間的機(jī)械連接強(qiáng)度。另一方面，通過在轉(zhuǎn)軸361上固設(shè)有傳感片362并設(shè)有感應(yīng)器363以記錄轉(zhuǎn)軸361的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)，具體地，當(dāng)載盤1旋轉(zhuǎn)下降到預(yù)定的下限高度位置且通過旋轉(zhuǎn)定位件35帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤32旋轉(zhuǎn)時(shí)，中轉(zhuǎn)盤32帶動(dòng)轉(zhuǎn)軸361旋轉(zhuǎn)從而實(shí)現(xiàn)傳感片362與中轉(zhuǎn)盤32同步旋轉(zhuǎn)；同時(shí)，感應(yīng)器363檢測傳感片362的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)，當(dāng)檢測到的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)等于預(yù)設(shè)圈數(shù)時(shí)，在一個(gè)具體實(shí)施中，所述預(yù)設(shè)圈數(shù)可以設(shè)為1圈，此時(shí)載盤1與中轉(zhuǎn)盤32同步旋轉(zhuǎn)，感應(yīng)器363輸出同步信號(hào)給控制模塊，控制模塊接收所述同步信號(hào)以進(jìn)行下一步驟。通過傳感片362與感應(yīng)器363配合以確保載盤1與中轉(zhuǎn)盤32精確同步旋轉(zhuǎn)，使被吸附在中轉(zhuǎn)盤32上的片材原料100和載盤1上用于吸附片材原料100的真空孔相位重合，能有效提高上下料時(shí)載盤1和中轉(zhuǎn)盤32對(duì)片材原料100的吸附作用，提高片材原料100的安全性。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述吸附組件33包括設(shè)置于轉(zhuǎn)軸361中心的氣體通道331以及設(shè)于轉(zhuǎn)軸361底端與所述氣體通道331相連通且電聯(lián)接至控制模塊的氣接頭332，轉(zhuǎn)軸361頂端設(shè)有與所述密封腔313相連通的導(dǎo)氣孔333，所述氣接頭332連接至真空系統(tǒng)。本實(shí)施例通過在轉(zhuǎn)軸361中心設(shè)有氣體通道331，氣體通道331一端與密封腔313相連通且另一端通過氣接頭332連接至真空系統(tǒng)，控制模塊通過控制氣接頭332的工作狀態(tài)以控制中轉(zhuǎn)模塊3對(duì)片材原料100的吸附作用，結(jié)構(gòu)簡單可靠，成本低。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述旋轉(zhuǎn)支撐組件36還包括摩擦阻尼件364，所述摩擦阻尼件364包括與所述轉(zhuǎn)軸361同軸固定的摩擦輪3641、與摩擦輪3641對(duì)應(yīng)配合的皮帶3642、設(shè)于基板341底面分別用于固定連接所述皮帶3642兩端的皮帶夾座3643和皮帶拉緊塊3644以及連接于皮帶拉緊塊3644和皮帶3642之間的拉簧3645，所述皮帶3642的一端由所述皮帶夾座3643夾緊鎖固，所述皮帶3642的另一端通過所述拉簧3645連接至所述皮帶拉緊塊3644。

本實(shí)施例通過在轉(zhuǎn)動(dòng)軸361上設(shè)有摩擦輪3641，再通過皮帶夾座3643和皮帶拉緊塊3644連接與摩擦輪3641對(duì)應(yīng)配合的皮帶3642以為轉(zhuǎn)軸361提供適量阻尼，能有效防止中轉(zhuǎn)盤32因慣性自轉(zhuǎn)而與載盤1相位交錯(cuò)，提高載盤1上的真空孔與中轉(zhuǎn)盤32上的片材原料100之間的定位準(zhǔn)確度，有效提高載盤1對(duì)片材原料100的吸附穩(wěn)定性。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述中轉(zhuǎn)盤32頂面放置有軟質(zhì)材料制成的墊板314，且所述墊板314上開設(shè)有與中轉(zhuǎn)盤32上的真空吸孔321對(duì)應(yīng)的透孔（圖未示出），所述墊板314由以下中的任一種制成：硅膠和橡膠。在一個(gè)具體實(shí)施例中，所述墊板314采用硅膠制成。本實(shí)施例通過在中轉(zhuǎn)盤32頂面設(shè)有墊板314，能有效避免中轉(zhuǎn)盤32直接接觸片材原料100進(jìn)而損傷片材原料100，提高產(chǎn)品質(zhì)量?？梢岳斫獾氖牵€可以將所述中轉(zhuǎn)盤32的頂部由軟質(zhì)材料制成承載層，所述真空吸孔321貫穿所述承載層，本實(shí)施例通過將轉(zhuǎn)盤32與承載層制成一體，能有效避免在中轉(zhuǎn)盤32旋轉(zhuǎn)過程中承載層與中轉(zhuǎn)盤32脫離而損傷片材原料100甚至損壞研磨掃光機(jī)。

在一個(gè)可選實(shí)施例中，所述載料臺(tái)31的靠側(cè)緣處裝設(shè)有至少兩個(gè)定位珠315，且在所述載料臺(tái)31和中轉(zhuǎn)盤32上均對(duì)應(yīng)開設(shè)有定位孔316，中轉(zhuǎn)盤32放置于載料臺(tái)31上，所述定位珠315插入所述定位孔316內(nèi)使所述中轉(zhuǎn)盤32與載料臺(tái)31在周向上相對(duì)定位；所述載料臺(tái)31外側(cè)還設(shè)有若干對(duì)所述中轉(zhuǎn)盤32的側(cè)邊緣進(jìn)行定位的側(cè)向定位滾輪317。在一個(gè)具體實(shí)施例中，所述側(cè)向定位滾輪317的數(shù)量為3個(gè)且均勻分布在側(cè)向定位滾輪座318上，所述側(cè)向定位滾輪座318通過2根立柱319固設(shè)于支撐座345上；所述定位珠315采用拔珠定位螺絲且數(shù)量為3個(gè)，所述載料臺(tái)31和中轉(zhuǎn)盤32均開設(shè)有3個(gè)定位孔316。

本實(shí)施例通過側(cè)向定位滾輪317對(duì)中轉(zhuǎn)盤32的側(cè)邊緣進(jìn)行定位，當(dāng)中轉(zhuǎn)盤32組裝于載料臺(tái)31上時(shí)，通過中轉(zhuǎn)盤32的側(cè)邊緣與側(cè)向定位滾輪317配合使得中轉(zhuǎn)盤32與載料臺(tái)31的圓心相位重合，然后再通過定位珠315完成載料臺(tái)31與中轉(zhuǎn)盤32的拆卸和安裝，具體地，在上料過程中，當(dāng)中轉(zhuǎn)盤32與載料臺(tái)31相位重合且中轉(zhuǎn)盤32與載料臺(tái)31上的定位孔316位置對(duì)準(zhǔn)時(shí)，通過將定位珠315插入定位孔316內(nèi)，即可將裝載了片材原料100的中轉(zhuǎn)盤32固定在載料臺(tái)31上；而在下料過程中，通過取下定位珠315即可將中轉(zhuǎn)盤32從載料臺(tái)31上卸下，簡化上下料操作流程，能有效提高生產(chǎn)效率。

本發(fā)明研磨掃光機(jī)半自動(dòng)上下料機(jī)構(gòu)的使用方法和原理如下：

以片材原料100為玻璃為例，首先，研磨掃光機(jī)啟動(dòng)后，通過人工手動(dòng)將玻璃放到墊板314上對(duì)應(yīng)的透孔的位置上，當(dāng)所有玻璃都放置完畢后，通過側(cè)向定位滾輪317的定位作用將中轉(zhuǎn)盤32放置在載料臺(tái)31上，此時(shí)中轉(zhuǎn)盤32與載料臺(tái)31的圓心相位重合，再通過定位珠315將中轉(zhuǎn)盤32安裝固定在載料臺(tái)31上，控制模塊控制氣接頭332打開使真空系統(tǒng)與密封腔313導(dǎo)通進(jìn)而使中轉(zhuǎn)盤32從玻璃下表面對(duì)玻璃進(jìn)行吸附。

控制模塊控制載盤驅(qū)動(dòng)模塊2驅(qū)動(dòng)載盤1順時(shí)針旋轉(zhuǎn)并下降到下限位置，載盤1上的定位滾輪353的中軸線與擋塊356的頂面處于同一水平面上，此時(shí)滿足機(jī)械定位條件，載盤1和中轉(zhuǎn)盤32已經(jīng)在周向上實(shí)現(xiàn)相對(duì)定位，且載盤1繼續(xù)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)將通過定位滾輪353推動(dòng)擋塊356進(jìn)而使中轉(zhuǎn)盤32與載盤1同步旋轉(zhuǎn)，此時(shí)，被吸附于墊板314上的玻璃和載盤1上用于吸附玻璃的真空孔相位重合。在同步旋轉(zhuǎn)過程中，由于轉(zhuǎn)軸361會(huì)帶動(dòng)傳感片362同步旋轉(zhuǎn)，感應(yīng)器363檢測傳感片362的轉(zhuǎn)動(dòng)而記錄傳感片362的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)，當(dāng)檢測到的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)等于預(yù)設(shè)圈數(shù)時(shí)，在具體實(shí)施時(shí)，所述預(yù)設(shè)圈數(shù)可以設(shè)為2圈，所以當(dāng)感應(yīng)器363檢測到的旋轉(zhuǎn)圈數(shù)為2圈時(shí)，控制模塊即判定為載盤1與中轉(zhuǎn)盤32已經(jīng)同步旋轉(zhuǎn)，從而可進(jìn)行下一步的動(dòng)作。

控制模塊判定載盤1與中轉(zhuǎn)盤32已經(jīng)同步旋轉(zhuǎn)后，即再控制升降驅(qū)動(dòng)件342驅(qū)動(dòng)基板341帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤32向載盤1方向移動(dòng)從而使中轉(zhuǎn)盤32上的玻璃與載盤1抵接。

然后，控制模塊控制氣接頭關(guān)斷使中轉(zhuǎn)盤32破真空從而失去對(duì)玻璃的吸附作用，而與此同時(shí)，控制模塊控制載盤1產(chǎn)生真空從而從玻璃上表面對(duì)玻璃進(jìn)行吸附；

最后，控制模塊控制載盤1則反向旋轉(zhuǎn)上升，同時(shí)，通過控制升降驅(qū)動(dòng)件342驅(qū)動(dòng)基板341帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤32下移，從而使中轉(zhuǎn)盤32與載盤1分離，此時(shí)，由于所有玻璃都已經(jīng)被吸附在載盤1上而不會(huì)脫落，從而完成上料工序，載盤1上升到預(yù)定的高度后，即可吸附住玻璃進(jìn)行后續(xù)的掃光等處理。

而當(dāng)玻璃已完成加工后需要進(jìn)行卸載時(shí)，控制模塊如上述上料工序一樣，先控制載盤1旋轉(zhuǎn)下降進(jìn)而實(shí)現(xiàn)載盤1和中轉(zhuǎn)盤32的同步旋轉(zhuǎn)，然后再使中轉(zhuǎn)盤32上升與玻璃抵接，然后，再使載盤1破真空，而中轉(zhuǎn)盤32產(chǎn)生真空來吸附住玻璃，最后，控制模塊控制載盤1則反向旋轉(zhuǎn)上升，并通過控制升降驅(qū)動(dòng)件342驅(qū)動(dòng)基板341帶動(dòng)中轉(zhuǎn)盤32下移，使中轉(zhuǎn)盤32與載盤1分離，此時(shí)所有玻璃都已經(jīng)被吸附在中轉(zhuǎn)盤32上，當(dāng)中轉(zhuǎn)盤32下降到預(yù)定位置后，再使中轉(zhuǎn)盤32破真空，卸下定位珠315即可將中轉(zhuǎn)盤32從載料臺(tái)31上取下來完成下料工序。

在實(shí)際生產(chǎn)時(shí)，可以配備至少兩個(gè)中轉(zhuǎn)盤32來放置玻璃，當(dāng)一個(gè)中轉(zhuǎn)盤32載有玻璃放入載料臺(tái)31中進(jìn)行自動(dòng)上料及掃光處理時(shí)，可以在另一個(gè)中轉(zhuǎn)盤32上擺放玻璃。從而，當(dāng)研磨掃光機(jī)完成一批玻璃的掃光處理而下料后，可以將另一個(gè)已經(jīng)擺放好玻璃的中轉(zhuǎn)盤32直接放入載料臺(tái)31上而實(shí)現(xiàn)快速替換上料。

以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。