專利名稱：包含聚烷基氮或磷鎓氟代烷基磺酰基鹽的微結(jié)構(gòu)的制作方法
包含聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}的微結(jié)構(gòu)
背景技術(shù)：
某些微結(jié)構(gòu)化的光學(xué)產(chǎn)品(例如在U. S. 2005/0148725中描述的那些)通常被稱 為“增亮膜”。增亮膜在許多電子產(chǎn)品中被用于增加背光平板顯示器的亮度，所述背光平板 顯示器例如為液晶顯示器(LCD)，包括在電致發(fā)光板、膝上型計(jì)算機(jī)顯示器、文字處理器、臺(tái) 式監(jiān)視器、電視機(jī)、攝像機(jī)、以及用于汽車和飛機(jī)的顯示器中所用的那些。增亮膜有利地表現(xiàn)出特定的光學(xué)和物理性能，這些性能包括與所產(chǎn)生的亮度增益 (即“增益”)有關(guān)的增亮膜折射率。亮度的改善使得電子產(chǎn)品更有效地工作，這通過在顯 示器照明中使用更低的功率從而減少耗電、使電子產(chǎn)品的元件產(chǎn)生較低的熱負(fù)荷、并且延 長(zhǎng)產(chǎn)品的使用壽命的方式實(shí)現(xiàn)。已經(jīng)由包含固化或聚合的高折射率單體的可聚合樹脂組合物制備了增亮膜。鹵化 (如溴化處理的)單體或低聚物常用來獲得例如1. 56或更大的折射率。獲得高折射率組合 物的另一種方式是采用包含高折射率納米粒子的可聚合組合物。

發(fā)明內(nèi)容
在一個(gè)實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)化(如光學(xué))膜(例如增亮膜)被描述為包括聚合的微 結(jié)構(gòu)化表面，其中微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹脂組合物的反應(yīng)產(chǎn)物，并且該可聚合樹脂組合物包 含由以下通式表示的抗靜電劑RxJH4^A [SO2RfJm其中χ在3至4范圍內(nèi)；R獨(dú)立地為可任選地包含鏈中氧原子或至少一個(gè)端羥基的C1至C12烷基；J為氮或磷；A為氮或碳； Rf獨(dú)立地為C1至C4氟化烷基；并且m在2至3范圍內(nèi)。微結(jié)構(gòu)通常設(shè)置在具有與其不同的組成的(任選地涂底漆的)基底膜層(例如偏 振膜)上。在此類實(shí)施例中，微結(jié)構(gòu)顯示出與基底膜層的劃格法附著力為至少90%。在另一個(gè)實(shí)施例中，可聚合樹脂組合物被描述為包含至少一種具有至少兩個(gè)芳環(huán) 的二(甲基)丙烯酸酯單體，并且包含反應(yīng)性稀釋劑和(剛才描述過的)由以下通式表示 的抗靜電劑rxjh4_廣A[so2iym。在這些實(shí)施例中的每一個(gè)中，抗靜電劑在固體中的含量在約0. 5重量％至約15重 量％的范圍內(nèi)、優(yōu)選地在約3重量％至約5重量％的范圍內(nèi)。此外，在70° F和50%的相 對(duì)濕度下測(cè)量電荷衰減時(shí)，衰減時(shí)間優(yōu)選小于1. 5秒、更優(yōu)選地小于0. 5秒。R的碳原子總數(shù)為至少5、6、7或8。在一些實(shí)施例中，χ為4并且R的碳原子總數(shù) 為至少7。在一些實(shí)施例中，至少一個(gè)Rf為CF3。在一些實(shí)施例中，至少一個(gè)R為甲基，并
4且其他R基團(tuán)包含至少兩個(gè)碳原子。在其他實(shí)施例中，χ為3，并且每個(gè)R包含至少兩個(gè)碳 原子。在一些實(shí)施例中，J為氮。在其他實(shí)施例中，J為磷，χ為4。在一個(gè)實(shí)施例中，R包含端羥基。可聚合樹脂組合物優(yōu)選地還包含至少一種(如 單)羧酸，例如丙烯酸、甲基丙烯酸，以及它們的混合物。
具體實(shí)施例方式本文所述為包括微結(jié)構(gòu)化表面的(如光學(xué))膜。微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹脂組合物的 反應(yīng)產(chǎn)物，該可聚合樹脂組合物包含作為抗靜電劑的某些聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}。雖然術(shù)語“導(dǎo)電性”在業(yè)內(nèi)通常是指“靜電耗散性”，但這些術(shù)語并非同義詞。特別 地，認(rèn)為導(dǎo)電材料的表面電阻率最高達(dá)IXlO5歐姆/平方；而抗靜電材料的表面電阻率通 ?？筛哌_(dá)1 X IO12歐姆/平方。本文所公開的微結(jié)構(gòu)化(如光學(xué))膜可具有至少約1XIO7, 1 X 108、1 X 109、1 X 101°歐姆/平方、或1 X IO11歐姆/平方的表面電阻率，然而卻保持著抗 靜電特性。本文所述光學(xué)膜通常由(如預(yù)成形的)透光性基底(如膜)層和透光性聚合微結(jié) 構(gòu)化光學(xué)層構(gòu)成。雖然可由相同的材料形成基底層和光學(xué)層，但通常它們是由不同的聚合 物材料形成的。如美國專利No. 5，175，030 (Lu等人)和美國專利No. 5，183，597 (Lu)中所述，具有 微結(jié)構(gòu)的制品(如增亮膜)可以通過包括以下步驟的方法來制備(a)制備可聚合組合物； (b)將可聚合組合物以剛好足夠填充母板空腔的量沉積至母板(陰模)的微結(jié)構(gòu)化成型表 面；(c)通過在預(yù)成形的基底(例如PET膜)與母板之間(它們中的至少一個(gè)為撓性的)移 動(dòng)可聚合組合物的粒料來填充空腔；以及(d)固化組合物。母板可為金屬(例如鎳、鍍鎳銅 或黃銅)，或可為在聚合條件下穩(wěn)定的熱塑性材料，并且優(yōu)選地是母板具有的表面能使得能 將聚合的材料從母板上干凈地移除?？捎玫幕撞牧习?例如)苯乙烯-丙烯腈、乙酸丁酸纖維素、纖維素乙酸丙酸 酯、三乙酸纖維素、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙 烯、聚萘二甲酸乙二酯、基于萘二羧酸的共聚物或共混物、聚環(huán)烯烴、聚酰亞胺和玻璃。任選 地，基底材料可含有這些材料的混合物或組合。此外，基底可以是多層的，或可包含懸浮或 分散在連續(xù)相中的分散組分。對(duì)于一些具有微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品(例如增亮膜)，優(yōu)選的基底材料的例子包括聚對(duì)苯 二甲酸乙二醇酯(PET)和聚碳酸酯。可用的PET薄膜的例子包括光學(xué)級(jí)別的聚對(duì)苯二甲酸 乙二醇酯和可得自 DuPont Films (Wilmington, Del)的 MELINEX PET。一些基底材料可以是光學(xué)活性的，并且可用作偏振材料。使透過薄膜的光偏振可 以(例如)通過在選擇性吸收透過光的薄膜材料中包含二向色偏振片來實(shí)現(xiàn)。光偏振也可 以通過引入無機(jī)材料(例如準(zhǔn)直的云母晶片)或者通過在連續(xù)薄膜中分散不連續(xù)相(例如 分散在連續(xù)薄膜中的光調(diào)制液晶的微滴)來實(shí)現(xiàn)。作為另一種選擇，可以用不同材料的超 薄層來制備偏振膜。例如，通過采用諸如拉伸薄膜、施加電場(chǎng)或磁場(chǎng)以及涂敷技術(shù)之類的方 法，可將薄膜內(nèi)的材料沿偏振方向定向。偏振膜的實(shí)例包括在美國專利No. 5，825，543和5，783，120中描述的那些。這些偏振膜與增亮膜的結(jié)合使用在美國專利No. 6，111，696中有所描述。可用作基底的偏振膜 的另一個(gè)實(shí)例是美國專利No. 5，882，774中描述的那些?？捎玫幕装ň傻米?M公司的以Vikuiti Dual BrightnessEnhanced Film(DBEF) (Vikuiti 雙增亮膜)、Vikuiti Brightness EnhancedFilm(BEF) (Vikuiti 增亮膜)、Vikuiti Diffuse Reflective Polarizer Film(DRPF) (Vikuiti 漫反射式偏振 膜)、Vikuiti Enhanced Specular Ref lector (ESR) (Vikuiti 增強(qiáng)型鏡面反射器)和 Vikuiti Advanced Polarizing Film(APF) (Vikuiti 高級(jí)偏振膜)銷售的光學(xué)膜?？扇芜x地對(duì)基底膜材料的一個(gè)或多個(gè)表面涂底漆或以其他方式處理，以提高光學(xué) 層對(duì)基底的粘附力。特別適用于聚酯基底膜層的底漆包括磺基聚酯底漆(例如在美國專 利No. 5，427，835中有所描述)。底漆層的厚度通常為至少20nm，并一般不大于300nm至 400nmo光學(xué)層可以具有許多可用圖案中的任何圖案。這些微結(jié)構(gòu)化表面包括規(guī)則或不規(guī) 則的棱柱圖案，這些棱柱圖案可為環(huán)形棱柱圖案、立體角棱柱圖案或任何其他透鏡狀微結(jié) 構(gòu)。一種可用的微結(jié)構(gòu)是規(guī)則的棱柱圖案，其可充當(dāng)用作增亮膜的全內(nèi)反射薄膜。另一種 可用的微結(jié)構(gòu)是立體角棱柱圖案，其可充當(dāng)用作反射膜的逆向反射性薄膜或元件。再一種 可用的微結(jié)構(gòu)是可充當(dāng)光學(xué)顯示器中使用的光學(xué)轉(zhuǎn)向薄膜或元件的棱柱圖案。一種具有聚合的微結(jié)構(gòu)化表面的優(yōu)選光學(xué)膜為增亮膜。增亮膜通常增強(qiáng)照明裝置 的軸向亮度(在本文中稱為“亮度”)。微結(jié)構(gòu)化的形貌特征可為薄膜表面上的多個(gè)棱柱， 使得該薄膜可用于通過反射和折射來重新導(dǎo)向光。棱柱的高度通常在約1微米到約75微 米的范圍內(nèi)。當(dāng)微結(jié)構(gòu)化光學(xué)薄膜用于光學(xué)顯示器(例如，那些存在于膝上型計(jì)算機(jī)和手 表等中的光學(xué)顯示器)時(shí)，微結(jié)構(gòu)化光學(xué)薄膜可通過如下方式來增強(qiáng)光學(xué)顯示器的亮度 將從顯示器逸出的光限制在一對(duì)布置成與穿過該光學(xué)顯示器的法向軸成所需角度的平面 之內(nèi)。因此，從顯示器射出的超出該容許范圍的光被反射回顯示器中，其中這些光中的一部 分可以“再循環(huán)”，并且以允許其逃逸出顯示器的角度返回到微結(jié)構(gòu)化薄膜中。這種循環(huán)使 用是有用的，因?yàn)檫@種光循環(huán)能夠使顯示器達(dá)到所需亮度級(jí)別所需的能量消耗降低。增亮膜的微結(jié)構(gòu)化光學(xué)層一般包括沿著該膜的長(zhǎng)度或?qū)挾妊由斓亩鄠€(gè)平行縱向 脊。這些脊可以由多個(gè)棱柱頂端形成。每個(gè)棱柱都具有第一小平面和第二小平面。棱柱形 成在基底上，該基底具有其上形成棱柱的第一表面和基本上平直或呈平面并且與第一表面 相對(duì)的第二表面。所謂直角棱柱是指頂角通常為約90°。然而，該角度可以在70°至120° 的范圍內(nèi)，并且可以在80°至100°的范圍內(nèi)。這些頂端可為尖的、圓的、平坦的或截平的。 例如，脊可以是圓形，半徑在4至7至15微米的范圍內(nèi)。棱柱峰之間的距離(或間距)可 為5至300微米。這些棱柱可以各種圖案(例如在美國專利No. 7，074，463中描述的那些) 排列；該專利以引用的方式并入本文。對(duì)于薄型增亮膜，間距優(yōu)選地為10至36微米、更優(yōu)選地為18至M微米。這對(duì)應(yīng) 于優(yōu)選地約5至18微米、更優(yōu)選地約9至12微米的棱柱高度。棱柱的面不必相同，并且棱 柱也可以彼此相對(duì)傾斜。光學(xué)制品總厚度與棱柱高度之間的關(guān)系可以發(fā)生變化。然而，通 常希望使用具有明確的棱面的相對(duì)較薄的光學(xué)層。對(duì)于厚度接近1密耳(20至35微米) 的基底上的薄型增亮膜，棱柱高度與總厚度的典型比率通常在0. 2至0. 4之間。本文所公開的微結(jié)構(gòu)化(如增亮膜)包括聚合的微結(jié)構(gòu)化表面(如微結(jié)構(gòu)化光學(xué)層)，其中微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹脂組合物的反應(yīng)產(chǎn)物，該可聚合樹脂組合物包含抗靜電劑。雖然各種抗靜電劑可提供(如根據(jù)實(shí)施例中描述的測(cè)試方法測(cè)得的)在約2至10 秒內(nèi)的靜電衰減時(shí)間，但已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的是只有某些種類和數(shù)量的抗靜電劑可提供小于1. 5秒 的靜電衰減時(shí)間。優(yōu)選的抗靜電劑提供的靜電衰減時(shí)間不大于0. 5,0. 4,0. 3、0. 2或0. 1秒。對(duì)于其中微結(jié)構(gòu)設(shè)置在基底層(例如，透光性(如聚酯)薄膜)上的實(shí)施例，還需 選擇抗靜電劑的種類和數(shù)量，使得抗靜電劑在可聚合樹脂中的存在不會(huì)降低聚合微結(jié)構(gòu)與 基底膜層的粘附力。采用劃格法測(cè)試(如根據(jù)實(shí)施例中描述的測(cè)試進(jìn)行測(cè)試)時(shí)，附著在 基底膜層上的微結(jié)構(gòu)為至少80%、85%或90%。在最優(yōu)選的實(shí)施例中，附著在基底膜層上 的微結(jié)構(gòu)為95%至100%。抗靜電劑是優(yōu)選由以下通式表示的聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}RJH4_x+_A [S&Rf] m其中χ在3至4范圍內(nèi)；并且R獨(dú)立地為可任選地包含鏈中氧原子或端羥基的C1至C12烷基；J為氮或磷；A為氮原子或碳原子；Rf獨(dú)立地為C1至C4氟化烷基；并且m在2至3范圍內(nèi)。R基團(tuán)的碳原子總數(shù)一般為至少5。在一些實(shí)施例中，R基團(tuán)的碳原子總數(shù)為至少 6、7 或 8。對(duì)于其中J為磷的實(shí)施例，χ優(yōu)選為4。在一些實(shí)施例中，χ為3，并且每個(gè)R包 含至少兩個(gè)碳原子。例如，抗靜電劑可包括(C2H5)3MTN(SO2CF3)2、(C2H5)3MTN(SO2C4F9)2、 (C2H5)3MTN(SO2CF3) (SO2C4F9)、(C2H5) 3NH—C (SO2CF3) 3、(C2H5) 3NH—N (SO2C2F5) 2 等。在一些實(shí)施例中，χ為4并且R的碳原子總數(shù)為至少7或8。例如，至少一個(gè)R基團(tuán) 可以為甲基，并且其他三個(gè)R基團(tuán)包含至少兩個(gè)碳原子，例如用(C2H5)3N(CH3)+-N(SO2CF3)2. (C4H9) 3N (CH3) —N (SO2CF3) 2 等舉例說明。或者，四個(gè)R基團(tuán)可以都是乙基或丁基。例如，抗靜電劑可包括 (C4H9) 4Ν+Ν (SO2CF3) 2、(C2H5) 4Ν+ (SO2CF3) 2、(C4H9) 4N+T (SO2CF3) 3 等。優(yōu)選的是，Rf基團(tuán)中的至少一個(gè)或兩個(gè)是三氟甲基或三氟乙基。然而，還可以 采用更高氟代烷基基團(tuán)(例如全氟丁基)。例如，抗靜電劑可包括(C2H5)3NH+-N(SO2C4F9)2. (C6H13)4N+-N(SO2Cf5)2、(C12H25) (CH3)3N+-N(SO2C2F5)2 等。通常，與甲基化物相比，更優(yōu)選亞胺鹽(即其中Q為氮)。在一些實(shí)施例中，R優(yōu)選包含至少一個(gè)端羥基。還可以采用本文所述聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}的各種混合物。聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}的總濃度優(yōu)選地大于約0. 5或1重量<%，并在 一些實(shí)施例中優(yōu)選地為聚合微結(jié)構(gòu)的2或3重量％，并一般不大于約10、11、12、13、14或15 重量％。約3重量％至約5重量％的濃度已顯示可提供優(yōu)選的靜電衰減性質(zhì)，即靜電衰減 時(shí)間小于0. 5、0. 4、0. 3、0. 2或0. 1秒。在一些實(shí)施例中，例如當(dāng)采用未涂底漆的偏振基底 層時(shí)，通常優(yōu)選采用小于10重量％的聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺酰基鹽以獲得至少80或90%的劃格法附著力。本文所述聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺酰基鹽可商購獲得，或可通過如本領(lǐng)域中所 述的已知技術(shù)合成。各種專利和專利申請(qǐng)描述了聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；鶃啺符} 和/或甲基化鹽的合成，包括(例如)美國專禾Ij No. 6，924，329、美國專利No. 6，784，237、 美國專禾Ij No. 6，740，413、美國專利No. 6，706，920、美國專利No. 6，592，988、美國專利 No. 6，372，829 和美國專利公布 No. US2003/114560。可將聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；}與本領(lǐng)域中已知的適用于形成微結(jié)構(gòu)的 各種可聚合樹脂組合物混合。在將聚烷基氮或磷鐺氟代烷基磺?；轨o電鹽與大量可聚合樹脂組合物混合以 形成微結(jié)構(gòu)之前，可將這些抗靜電鹽與羧酸混合。代表性例子包括丙烯酸、甲基丙烯酸以及 它們的混合物。推測(cè)各種二元羧酸也是適用的。優(yōu)選的是分子量相對(duì)較低的二元羧酸。該 二元羧酸可為直鏈或支鏈的二元羧酸。優(yōu)選的是羧酸基團(tuán)之間具有最多6個(gè)碳原子的二元 羧酸。這些二元羧酸包括(例如)馬來酸、琥珀酸、辛二酸、鄰苯二甲酸和衣康酸。在一些實(shí)施例中，可聚合樹脂組合物包含表面改性的無機(jī)納米粒子。在這些實(shí)施 例中，“可聚合組合物”是指全部組合物，即有機(jī)組分和表面改性無機(jī)納米粒子。有機(jī)組分和可聚合組合物優(yōu)選地基本上不含溶劑。“基本上不含溶劑”是指可聚合 組合物具有小于5重量％、4重量％、3重量％、2重量％、1重量％和0. 5重量％的不可聚合 (如有機(jī))溶劑。溶劑濃度可通過已知方法測(cè)定，例如氣相色譜法(如ASTM M403中所述 的方法)。小于0.5重量％的溶劑濃度是優(yōu)選的。有機(jī)組分的組分含量?jī)?yōu)選地選擇成使得可聚合樹脂組合物具有較低的粘度。在一 些實(shí)施例中，有機(jī)組分在涂敷溫度下的粘度低于1000厘泊，并通常低于900厘泊。有機(jī)組 分在涂敷溫度下的粘度可以低于800厘泊、低于700厘泊、低于600厘泊或低于500厘泊。 如本文所用，使用動(dòng)態(tài)應(yīng)力流變儀在25mm平行板上測(cè)定(剪切速率可高達(dá)1000秒-1)粘 度。此外，有機(jī)組分在涂敷溫度下的粘度通常為至少10厘泊，更典型地為至少50厘泊。涂敷溫度通常在環(huán)境溫度77° F(25°C)至180° F(82°C )的范圍內(nèi)。涂敷溫度 可低于 170° F(77°C )、低于 160° F(71°C )、低于 150° F(66°C )、低于 140° F(60°C)、低 于130° F(M°C )，或低于120° F(49°C )。有機(jī)組分可為固體或包含固體組分，條件是可 聚合組合物的熔點(diǎn)低于涂敷溫度。本文所述有機(jī)組分優(yōu)選地在環(huán)境溫度下為液體。有機(jī)組分的折射率為至少1. 54,1. 55,1. 56,1. 57,1. 58,1. 59,1. 60 或 1. 61。包含 高折射率納米粒子的可聚合組合物的折射率可高達(dá)1. 70 (如至少1. 61、1. 62、1. 63、1. 64、 1. 65、1. 66、1. 67、1. 68或1. 69)。在可見光光譜內(nèi)的高透射比通常也是優(yōu)選的。可聚合組合物在優(yōu)選短于五分鐘的時(shí)間尺度內(nèi)可能量固化(如對(duì)于厚度為75微 米的增亮膜)?？删酆辖M合物優(yōu)選為充分地進(jìn)行交聯(lián)，以提供通常大于45°C的玻璃化轉(zhuǎn)變 溫度。玻璃化轉(zhuǎn)變溫度可以用本領(lǐng)域已知的方法測(cè)量，例如差示掃描量熱法(DSC)、調(diào)制 DSC或動(dòng)態(tài)力學(xué)分析法。可聚合組合物可通過常規(guī)的自由基聚合方法進(jìn)行聚合?？删酆蠘渲M合物可以包含多種芳族單體和/或低聚物?？删酆蠘渲M合物優(yōu)選 地包含至少一種含有至少兩個(gè)芳環(huán)的二(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。此類二(甲基) 丙烯酸酯單體的分子量通常為至少350克/摩爾、400克/摩爾或450克/摩爾。可以合成或購買具有至少兩個(gè)可聚合(甲基)丙烯酸酯基團(tuán)的芳族單體或低聚物。芳族單體或低聚物通常包含的主要部分(即至少60至70重量％ )為特定結(jié)構(gòu)。一般 會(huì)認(rèn)識(shí)到，通常還存在作為此類單體的合成副產(chǎn)品的其他反應(yīng)產(chǎn)物。在一些實(shí)施例中，可聚合組合物包含至少一種芳族(可任選地溴化處理的)雙官
能(甲基)丙烯酸酯單體，該單體的主要部分具有以下通式結(jié)構(gòu)
權(quán)利要求
1.一種增亮膜，其包括聚合的微結(jié)構(gòu)化表面，其中所述微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹脂組合物 的反應(yīng)產(chǎn)物，所述可聚合樹脂組合物包含由以下通式表示的抗靜電劑R JH4_X+-A [SO2RfJffl其中χ在3至4范圍內(nèi)；R獨(dú)立地為可任選地包含鏈中氧原子或至少一個(gè)端羥基的C1至C12烷基；J為氮或磷；A為氮或碳；Rf獨(dú)立地為C1至C4氟化烷基；并且m在2至3范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增亮膜，其中所述抗靜電劑在固體中的含量在約0.5重量％ 至約15重量％的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增亮膜，其中所述抗靜電劑在固體中的含量在約3重量％至 約5重量％的范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的增亮膜，其中在70°F和50%的相對(duì)濕度下測(cè)量電荷衰 減時(shí)，所述電荷衰減為小于1.5秒。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的增亮膜，其中在70°F和50%的相對(duì)濕度下測(cè)量電荷衰 減時(shí)，所述電荷衰減為不大于約0. 5秒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5所述的增亮膜，其中所述微結(jié)構(gòu)設(shè)置在具有與所述微結(jié)構(gòu)不同 的組成的基底膜層上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的增亮膜，其中所述基底膜層還包含底漆。
8.根據(jù)權(quán)利要求6至7所述的增亮膜，其中所述基底膜層包含聚酯。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的增亮膜，其中所述基底膜層為偏振膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求8至9所述的增亮膜，其中所述底漆包含磺化聚酯。
11.根據(jù)權(quán)利要求6至10所述的增亮膜，其中所述微結(jié)構(gòu)顯示出與所述基底膜層的劃 格法附著力為至少90%。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11所述的增亮膜，其中R的碳原子總數(shù)為至少5。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的增亮膜，其中χ為4，R的碳原子總數(shù)為至少7。
14.根據(jù)權(quán)利要求12至13所述的增亮膜，其中至少一個(gè)Rf為CF3。
15.根據(jù)權(quán)利要求12至14所述的增亮膜，其中至少一個(gè)R為甲基，并且其他R基團(tuán)包 含至少兩個(gè)碳原子。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的增亮膜，其中所述抗靜電劑選自 (C2H5) 3N (CH3) —N (SO2CF3) 2、(C4H9) 3N (CH3) —N (SO2CF3) 2，以及它們的混合物。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的增亮膜，其中χ為3，并且每個(gè)R包含至少兩個(gè)碳原子。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的增亮膜，其中所述抗靜電劑選自(C2H5)3NH+-N(SO2CF3)P (C2H5) 3NH"N (SO2C4F9)2, (C2H5)3NH+^N(SO2CF3) (SO2C4F9)、(C2H5) 3NH—C (SO2CF3) 3、 (C2H5) 3NH+_N (SO2C2F5) 2，以及它們的混合物。
19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的增亮膜，其中χ為4，并且R的碳原子總數(shù)為至少8。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的增亮膜，其中所述抗靜電劑選自=(C4H9)4N+-N(SO2CF3)2,(C2H5)4N+-N (SO2CF3) 2、(C4H9)4N+-C(SO2CF3)P (C6H13) 4N—N (SO2C2F5) 2、(C12H25) (CH3) 3N+_N (SO2C2F5) 2，以及它們的混合物。
21.根據(jù)權(quán)利要求1至20所述的增亮膜，其中J為氮。
22.根據(jù)權(quán)利要求1至21所述的增亮膜，其中當(dāng)J為磷時(shí)，χ為4。
23.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的增亮膜，其中R包含至少一個(gè)端羥基。
24.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的增亮膜，其中所述可聚合樹脂組合物還包含至少 一種羧酸。
25.根據(jù)權(quán)利要求M所述的增亮膜，其中所述可聚合樹脂包含至少一種一元羧酸。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的增亮膜，其中所述一元羧酸選自丙烯酸、甲基丙烯酸以及 它們的混合物。
27.一種可聚合樹脂，其包含至少一種具有至少兩個(gè)芳環(huán)的二(甲基)丙烯酸酯單體， 并且包含反應(yīng)性稀釋劑和由以下通式表示的抗靜電劑R JH4_X+-A [SO2RfJffl 其中χ在3至4范圍內(nèi)；并且R獨(dú)立地為可任選地包含鏈中氧原子或至少一個(gè)端羥基的C1至C12烷基；J為氮或磷；A為氮原子或碳原子；Rf獨(dú)立地為C1至C4氟化烷基；m在2至3范圍內(nèi)。
28.—種微結(jié)構(gòu)化膜制品，其包括聚合的微結(jié)構(gòu)化表面，其中所述微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹 脂組合物的反應(yīng)產(chǎn)物，并且所述可聚合樹脂組合物包含由以下通式表示的抗靜電劑R JH4_X+-A [SO2RfJffl 其中χ在3至4范圍內(nèi)；并且R獨(dú)立地為可任選地包含鏈中氧原子或端羥基的C1至C12烷基；J為氮或磷；A為氮原子或碳原子；Rf獨(dú)立地為C1至C4氟化烷基；m在2至3范圍內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明描述了膜，例如包括微結(jié)構(gòu)化表面的光學(xué)膜。所述微結(jié)構(gòu)包含可聚合樹脂組合物的所述反應(yīng)產(chǎn)物，所述可聚合樹脂組合物包含作為抗靜電劑的某些聚烷基氮或磷鎓氟代烷基磺酰基鹽。本發(fā)明還描述了可聚合樹脂，所述可聚合樹脂包含至少一種具有至少兩個(gè)芳環(huán)的二(甲基)丙烯酸酯單體，并且包含反應(yīng)性稀釋劑和作為抗靜電劑的所述聚烷基氮或磷鎓氟代烷基磺酰基鹽。
文檔編號(hào)C09K3/16GK102099714SQ200980128142
公開日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2009年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月3日
發(fā)明者威廉·M·拉曼納, 詹姆斯·E·洛克里奇, 馬克·J·佩萊里蒂 申請(qǐng)人:3M創(chuàng)新有限公司