技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及高金剛烷衍生物、其制備方法以及光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明提供了一種在用于正型光致抗蝕劑時(shí)，粗糙度降低、溶解性、互溶性、缺陷降低、曝光靈敏度等優(yōu)異的聚合物、以及形成其的單體。本發(fā)明的化合物是下述式（I）所表的化合物。式中，R1表示氫原子、鹵素原子、甲基或三氟甲基。

技術(shù)研發(fā)人員：田中慎司;上野山義崇;大野英俊;河野直彌;伊藤克樹(shù)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：大阪有機(jī)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：2011.07.26
技術(shù)公布日：2017.08.08