技術(shù)編號(hào)：11580690
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。高金剛烷衍生物、其制備方法以及光致抗蝕劑組合物本申請是2011年7月26日申請的發(fā)明名稱為“高金剛烷衍生物、其制備方法以及光致抗蝕劑組合物”、申請?zhí)枮?01180039140.4的發(fā)明專利申請的分案申請。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及新型高金剛烷衍生物、其制備方法、（甲基）丙烯酸系聚合物、正型光致抗蝕劑組合物以及抗蝕圖形形成方法。背景技術(shù)近年來，伴隨半導(dǎo)體元件的微細(xì)化的發(fā)展，在其制備中的光刻法工序中，要求更加微細(xì)化。研究了各種使用應(yīng)對(duì)KrF、ArF或F2準(zhǔn)分子激光等短波長的照射光的光致抗蝕劑材料形成微細(xì)圖形...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。