技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種清洗徹底且效率高的半導(dǎo)體硅片清洗液及生產(chǎn)方法，由A組分和B組份按體積比為1~4：1~4混合組成，所述A組分的原料及質(zhì)量百分比如下：脂肪醇聚氧乙烯醚3~10%、乙二胺四乙酸鈉鹽0.5~5%、氫氧化鉀1~10%、磺化琥珀酸二辛酯鈉鹽0.1~0.5%、二乙二醇丁醚5~15%和純水余量；所述B組分為質(zhì)量百分比濃度0.5~2%的二氧化氯水溶液。生產(chǎn)方法是A組分按照如下步驟進(jìn)行：先將計(jì)算量的氫氧化鉀和乙二胺四乙酸鈉鹽溶解在定量的純水中，再依次注入計(jì)算量的磺化琥珀酸二辛酯鈉鹽和脂肪醇聚氧乙烯醚，攪拌15分鐘后添加計(jì)算量的二乙二醇丁醚，繼續(xù)攪拌20分鐘。

技術(shù)研發(fā)人員：楊同勇;李文瀚
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三達(dá)奧克化學(xué)股份有限公司
文檔號碼：201610526209
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.06
技術(shù)公布日：2016.12.07