亚洲成年人黄色一级片,日本香港三级亚洲三级,黄色成人小视频,国产青草视频,国产一区二区久久精品,91在线免费公开视频,成年轻人网站色直接看

新型硅片清洗液的制作方法

文檔序號(hào):1436656閱讀:277來(lái)源:國(guó)知局
新型硅片清洗液的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了新型硅片清洗液,由表面活性劑20-50份、三羥乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化銨7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份組成,以重量份數(shù)計(jì)。本發(fā)明可有效提高對(duì)硅片的清潔程度,配方簡(jiǎn)單易于操作,對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響,去污力強(qiáng),提高了硅片的清洗速度與耐用性能,有利于提高硅片清洗的清潔率,使硅片清潔率率達(dá)到99.9%。
【專利說(shuō)明】新型硅片清洗液
【技術(shù)領(lǐng)域】[0001]本發(fā)明涉及一種清洗液,特別涉及一種新型硅片清洗液。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著社會(huì)的發(fā)展,能源危機(jī)日益嚴(yán)重的今天,開(kāi)發(fā)利用新能源已經(jīng)越來(lái)越收到人們的關(guān)注,太陽(yáng)能由于器無(wú)污染、可再生、無(wú)地域性等優(yōu)點(diǎn),越來(lái)越受到人們的青睞,太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)也來(lái)越得以發(fā)展。而伴隨太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)的成熟,硅片的使用也越來(lái)越多。
[0003]清洗最為硅片的一個(gè)生產(chǎn)工序之一,清洗的好壞程度對(duì)硅片的使用性能有著很大的影響。清洗的主要目的是為了清洗掉切割過(guò)程中產(chǎn)生的沙粒,殘留的切削磨料、金屬離子及指紋等,使硅片表面達(dá)到無(wú)腐蝕、無(wú)氧化、無(wú)殘留等技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)的硅片清洗,由于各個(gè)方法不一樣,采用的清洗液也不一樣。現(xiàn)有技術(shù)中的清洗液清洗效果較差,對(duì)于硅片表面的污潰難以做到更好的去除,降低了硅片的使用效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能將硅片清洗干凈,使用簡(jiǎn)單的新型清洗液。
[0005]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明新型硅片清洗液,由表面活性劑20-50份、三羥乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化銨7_10份、柑橘油3_6份、水20-33份組成,以重量份數(shù)計(jì)。
[0006]上述新型硅片清洗液,其中,由表面活性劑27份、三羥乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化銨9份、柑橘油2.5份、水31份組成。
[0007]上述新型硅片清洗液,其中,所述表面活性劑為非離子表面活性劑。
[0008]上述新型硅片清洗液,其中,所述表面活性劑為單硬脂酸甘油酯。
[0009]上述新型硅片清洗液,其中,所述水為去離子水。
[0010]本發(fā)明可有效提高對(duì)硅片的清潔程度,配方簡(jiǎn)單易于操作,對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響,去污力強(qiáng),提高了硅片的清洗速度與耐用性能,有利于提高硅片清洗的清潔率,使硅片清潔率率達(dá)到99.9%0
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0012]實(shí)施例一
新型硅片清洗液,將單硬脂酸甘油酯27份、三羥乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化銨9份、柑橘油2.5份、水31份組成。以重量份數(shù)計(jì),將上述原料以120r/min的速度下,攪拌15分鐘。
[0013]性能指標(biāo):清洗硅片1000片,清洗潔凈程度達(dá)到99.9%
實(shí)施例二新型硅片清洗液,將單硬脂酸甘油酯38份、三羥乙基胺10份、乙醇7份、丙二醇5份、氟化銨8份、柑橘油5份、水22份組成。以重量份數(shù)計(jì),將上述原料以120r/min的速度下,攪拌15分鐘。
[0014]性能指標(biāo):清洗硅片1000片,清洗潔凈程度達(dá)到99.1%
實(shí)施例三
新型硅片清洗液,將單硬脂酸甘油酯41份、三羥乙基胺7份、乙醇7份、丙二醇4份、氟化銨7份、柑橘油4份、水28份組成。以重量份數(shù)計(jì),將上述原料以120r/min的速度下,攪拌15分鐘。
[0015]性能指標(biāo):清洗硅片1000片,清洗潔凈程度達(dá)到99.9%
本發(fā)明可有效提高對(duì)硅片的清潔程度,配方簡(jiǎn)單易于操作,對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響,去污力強(qiáng),提高了硅片的清洗 速度與耐用性能,有利于提高硅片清洗的清潔率,使硅片清潔率率達(dá)到 99.9%o
[0016]本【技術(shù)領(lǐng)域】中的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到,以上的實(shí)施例僅是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的目的,而并非用作對(duì)本發(fā)明的限定,只要在本發(fā)明的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi),對(duì)以上所述實(shí)施例的變化、變型都將落在本發(fā)明的權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.新型硅片清洗液,其特征在于,由表面活性劑20-50份、三羥乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化銨7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份組成,以重量份數(shù)計(jì)。
2.如權(quán)利要求1所述的新型硅片清洗液,其特征在于,由表面活性劑27份、三羥乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化銨9份、柑橘油2.5份、水31份組成。
3.如權(quán)利要求1所述的新型硅片清洗液,其特征在于,所述表面活性劑為非離子表面活性劑。
4.如權(quán)利要求1所述的新型硅片清洗液,其特征在于,所述表面活性劑為單硬脂酸甘油酯。
5.如權(quán)利 要求1所述的新型硅片清洗液,其特征在于,所述水為去離子水。
【文檔編號(hào)】C11D1/66GK103695190SQ201310747719
【公開(kāi)日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】聶金根 申請(qǐng)人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司
網(wǎng)友詢問(wèn)留言 已有0條留言
  • 還沒(méi)有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
1