技術(shù)特征：

1.一種光學(xué)材料用組合物，其特征在于，含有丙酮濁度值為3.0ppm以下的環(huán)硫化合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)材料用組合物，其還含有硫。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)材料用組合物，其中，所述環(huán)硫化合物與所述硫進(jìn)行了預(yù)聚合。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光學(xué)材料用組合物，其中，所述硫的10％以上與環(huán)硫化合物進(jìn)行了預(yù)聚合。

5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)材料用組合物，其還含有多硫醇化合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)材料用組合物，其進(jìn)行了脫氣處理。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)材料用組合物，其中，所述環(huán)硫化合物為具有下述(1)式所示的結(jié)構(gòu)的(a)化合物，

式(1)中，m表示0～4的整數(shù)，n表示0或1的整數(shù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)材料用組合物，其還包含(b)多異氰酸酯化合物和(c)多硫醇化合物。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)材料用組合物，其中，所述(b)化合物為選自由異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、間苯二甲撐二異氰酸酯、對(duì)苯二甲撐二異氰酸酯、間四甲基苯二甲撐二異氰酸酯、對(duì)四甲基苯二甲撐二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸根合甲基)環(huán)己烷、1,4-雙(異氰酸根合甲基)環(huán)己烷、雙(異氰酸根合甲基)降冰片烯和2,5-二異氰酸根合甲基-1,4-二噻烷組成的組中的至少1種以上的化合物，

所述(c)化合物為選自由雙(2-巰基乙基)硫醚、2,5-二巰基甲基-1,4-二噻烷、1,3-雙(巰基甲基)苯、1,4-雙(巰基甲基)苯、4-巰基甲基-1,8-二巰基-3,6-二硫雜辛烷、4,8-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、4,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、5,7-二巰基甲基-1,11-二巰基-3,6,9-三硫雜十一烷、1,1,3,3-四(巰基甲硫基)丙烷、季戊四醇四巰基丙酸酯、季戊四醇四巰基乙酸酯、三羥甲基丙烷三巰基乙酸酯和三羥甲基丙烷三巰基丙酸酯組成的組中的至少1種以上的化合物。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)材料用組合物，其中，將(a)化合物、(b)化合物和(c)化合物的總量設(shè)為100重量％時(shí)，(a)化合物為50～95重量％，(b)化合物為1～25重量％，(c)化合物為1～25重量％，且(c)化合物的SH基相對(duì)于(b)化合物的NCO基的比例、即[(c)化合物的SH基數(shù)/(b)化合物的NCO基數(shù)](SH基/NCO基)為1.0～2.5。

11.一種光學(xué)材料的制造方法，其特征在于，使權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的光學(xué)材料用組合物聚合固化。

12.一種光學(xué)材料的制造方法，其在權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的光學(xué)材料用組合物中添加相對(duì)于(a)～(c)化合物的總量為0.0001重量％～10重量％的作為聚合催化劑的鎓鹽，進(jìn)行聚合固化。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的光學(xué)材料的制造方法，其在光學(xué)材料用組合物的聚合固化后實(shí)施退火處理。

14.一種光學(xué)材料，其是通過權(quán)利要求11至13中任一項(xiàng)所述的光學(xué)材料的制造方法而得到的。

15.一種光學(xué)透鏡，其包含權(quán)利要求14所述的光學(xué)材料。

16.一種光學(xué)材料用原料的制造方法，其特征在于，為由環(huán)硫化合物制造品制造光學(xué)材料用原料的方法，該方法中，篩選丙酮濁度值為3.0ppm以下的環(huán)硫化合物制造品作為光學(xué)材料用原料。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光學(xué)材料用原料的制造方法，其中，所述環(huán)硫化合物為具有下述(1)式所示的結(jié)構(gòu)的(a)化合物，

式(1)中，m表示0～4的整數(shù)，n表示0或1的整數(shù)。