專利名稱：一種新型高透高霧度易清洗擴(kuò)散板及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種新型高透高霧度易清洗擴(kuò)散板及其制備方法，屬于光功能高分子材料制備領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
光擴(kuò)散板廣泛應(yīng)用在各種LED燈具產(chǎn)品中，可以將LED炫目的點(diǎn)光變成柔和的、健康的面光，從而使光線均勻分布產(chǎn)生良好的視覺效果。傳統(tǒng)的擴(kuò)散板是在材料表面進(jìn)行磨砂處理等手段形成一定的微結(jié)構(gòu)，但是利用這種方法制備的擴(kuò)散板霧度低且光線吸收率高，透光率低，僅能達(dá)到50%左右，嚴(yán)重影響了 LED光源的利用效率。最近出現(xiàn)的光通過型擴(kuò)散板是以光學(xué)透明的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為基體、復(fù)合無機(jī)微米顆粒而成，該種復(fù)合材料使光線在無機(jī)顆粒和樹脂之間不斷折射、反射和散射，具有較好的霧度與光擴(kuò)散效果。然而，由于擴(kuò)散板表面的反射嚴(yán)重影響了光透過率，僅為80%左右，光能損失較高。隨著LED室內(nèi)照明的蓬勃發(fā)展和節(jié)能環(huán)保的日益需求背景下，如何設(shè)計(jì)和加工具有高透、高霧度和易清潔性能與一體的新型擴(kuò)散板已成為應(yīng)用產(chǎn)品研發(fā)人員急需攻克的技術(shù)難題。納米仿生學(xué)研究表明:昆蟲復(fù)眼角膜表面覆蓋的納米乳突陣列結(jié)構(gòu)具有高效減反增透特性，該種結(jié)構(gòu)特征使得膜平面有效折射率從完全空氣向完全基底逐漸增加，消除了界面處折射率的突變，對(duì)寬波譜和廣角度都有理想的增透效果。受此啟發(fā)，通過模擬經(jīng)億萬年進(jìn)化的生物體表層納米結(jié)構(gòu)，在現(xiàn)有光擴(kuò)散板表面上設(shè)計(jì)出仿生納米錐突起陣列，有望減少反射、增加透射、易清潔，研制出新型多功能化擴(kuò)散板。本專利進(jìn)一步提出了多功能化擴(kuò)散板的研制，這種新型納米結(jié)構(gòu)材料尚未見報(bào)道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板。該擴(kuò)散板板 體為含有光擴(kuò)散粒子的透明高分子材料，并且擴(kuò)散板板體單面或雙面具有寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)；借助在板體內(nèi)部摻入光擴(kuò)散粒子，并于擴(kuò)散板板體單面或雙面構(gòu)筑寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的手段，本發(fā)明可以改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)缺點(diǎn)而具有高透光率、高霧度，易清潔的功能，可在同等光通量的條件下減少燈源的使用數(shù)量或功耗。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出制備上述提新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板的制備工藝。首先在熔融狀態(tài)下的透明高分子材料中摻入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2% 20%的光擴(kuò)散粒子，熔融狀態(tài)下經(jīng)由“押出機(jī)”擠出冷卻成型為擴(kuò)散板。上述擴(kuò)散板板體板體材料為透明高分子材料，該透明高分子材料可選用熱塑性光學(xué)材料如:聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯酸酯、苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)、聚4-甲基-1-戊烯(TPX)或熱固性光學(xué)材料如CR-39透明環(huán)氧樹脂等。
上述擴(kuò)散板板體內(nèi)部摻入的光擴(kuò)散粒子平均粒徑為200nm 500 μ m,成分為無機(jī)或有機(jī)粒子材料。如:氧化硅、二氧化硅、二氧化鈦、碳酸鈣、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-四氟乙烯共聚物中的一種或幾種。其次是在含有光擴(kuò)散粒子的擴(kuò)散板板體表面構(gòu)筑寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)，該寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)是由三維漸變納米突起陣列或孔道單元陣列構(gòu)成，該三維漸變納米突起陣列或孔道結(jié)構(gòu)單元尺寸均勻，中軸線與基面垂直，尺寸自下而上逐漸變大或變小，底端直徑在50nm 500nm，高度為50nm 12 μ m，該納米仿生結(jié)構(gòu)的折射率從基底折射率到空氣折射率漸變；上述的寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)，其組成成分為與板體同種材質(zhì)的透明高分子材料。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:在具有三維漸變納米突起陣列或孔道單元陣列結(jié)構(gòu)的模板內(nèi)填充與基板同種材質(zhì)的高分子材料、高分子材料單體、高分子前軀體和高分子溶液中的任意一種，使高分子材料完全復(fù)形或固化后采用脫模法將形成的高分子納米結(jié)構(gòu)與模板分離，獲得該寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)；作為一種優(yōu)選的實(shí)施方式，該方法是結(jié)合了納米壓印的溶液澆鑄法:首先將所述高分子溶解在適當(dāng)溶劑中，形成重量分?jǐn)?shù)為I 50%的高分子溶液，根據(jù)溶液的粘度和揮發(fā)特性，選擇通過澆鑄，旋涂(轉(zhuǎn)速為100 IOOOOrpm)，浸潰提拉(提拉速度為0.01 10mm/min)或連續(xù)涂布等方法涂布在擴(kuò)散板板體上，再將所述模板蓋其上，施加一定壓力；然后按照高分子材料以及溶劑的性質(zhì)，在不同真空度(如，0.1 101325Pa)，不同溫度(如O 300°C )干燥所述溶劑；最后將模板與形成的高分子納米結(jié)構(gòu)剝離，從而獲得目標(biāo)產(chǎn)物。
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作為另一種優(yōu)選實(shí)施方式，該方法是結(jié)合了納米壓印的熱壓法:首先將所述擴(kuò)散板板體放置在所述模板上，根據(jù)具體材料所需的加工溫度的不同，加熱到固體材料的玻璃化溫度之上20 100°C。在此溫度下，施加I 500kPa的壓強(qiáng)，并保持壓力O 300min。待溫度降至室溫后，撤去壓力，最后將模板剝離，獲得目標(biāo)產(chǎn)物。作為又一種優(yōu)選實(shí)施方式，該方法是結(jié)合了納米壓印的光聚合法:首先根據(jù)粘度和揮發(fā)性的不同，針對(duì)不同單體、單體溶液或高分子前驅(qū)體選擇澆鑄，旋涂(轉(zhuǎn)速為100 IOOOOrpm)，浸潰提拉(提拉速度為0.0l 10mm/min)或連續(xù)涂布等方法涂布在前述擴(kuò)散板板體上，再將所述模板蓋其上，根據(jù)實(shí)際需要施加O 500Pa的壓強(qiáng)，并根據(jù)所用材料的特性用相應(yīng)感光波段(波長為10 800nm)光輻照0.1s 60min，待高分子固化后，將模板與形成的高分子納米結(jié)構(gòu)剝離，從而獲得目標(biāo)產(chǎn)物。前述反應(yīng)可在有或無光引發(fā)劑參與的情況下進(jìn)行。作為再一種優(yōu)選實(shí)施方式，該方法是結(jié)合了納米壓印的熱聚合法:首先根據(jù)粘度和揮發(fā)性的不同，針對(duì)不同單體、單體溶液或高分子前驅(qū)體通過澆鑄，旋涂(轉(zhuǎn)速為100 IOOOOrpm)，浸潰提拉(提拉速度為0.0l 10mm/min)或連續(xù)涂布等方法涂布在前述擴(kuò)散板板體上，再將所述模板蓋其上，而后在O 500Pa的壓強(qiáng)下，逐步升溫或直接升溫至高分子熱固化溫度(10 300°C )，待高分子固化，待溫度降至室溫后，將模板與形成的高分子納米結(jié)構(gòu)剝離，從而獲得目標(biāo)產(chǎn)物。
前述模板采用的具有三維漸變納米突起陣列或孔道單元陣列結(jié)構(gòu)的模板為氧化鋁模板、金屬鎳模板或含氟聚合物模板。前述氧化鋁模板是孔間距在50nm 500nm范圍內(nèi)可控的，高度有序的倒錐型納米孔陣列結(jié)構(gòu)氧化鋁模板，其可通過基于高電場條件下的電化學(xué)自有序法制備。具體而言，該氧化鋁模板的結(jié)構(gòu)及其制備工藝具體可參見本案發(fā)明人提出的公開號(hào)為CN101838834.A以及申請(qǐng)?zhí)枮?01110006345.4的發(fā)明專利申請(qǐng)。前述金屬鎳模板可采用基于前述氧化鋁模板而利用電化學(xué)沉積方法制備的，高度有序與模板互補(bǔ)的三維納米突起陣列結(jié)構(gòu)的金屬鎳模板，該金屬鎳模板的結(jié)構(gòu)及其制備工藝具體可參見本案發(fā)明人提出的申請(qǐng)?zhí)枮?01110054017.1的發(fā)明專利申請(qǐng)。前述含氟聚合物模板的結(jié)構(gòu)及其制備工藝具體可參見本案發(fā)明人提出的申請(qǐng)?zhí)枮?01110094310.0的發(fā)明專利申請(qǐng)。前述方法中是采用直接脫模法或溶液溶解法將高分子膜層與模板分離的；所述直接脫模法為:在室溫下以外力牽引表面具有仿生納米結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散板體和/或模板，使擴(kuò)散板體上形成的高分子納米結(jié)構(gòu)與模板分離，所述模板表面在放置或涂布高分子材料、高分子材料單體、高分子前驅(qū)體或高分子溶液之前，還經(jīng)過含氟或含硅分子或其他低表面能物質(zhì)的修飾預(yù)處理；所述溶液溶解法為:采用可溶解所述模板，且不會(huì)損傷高分子膜層的溶液浸泡模板，從而去除模板，例如，對(duì)于氧化鋁模板，可采用濃度為IOwt% 4(^1:%的氫氧化鈉溶液浸泡I 24h,或者用濃度為3wt%鹽酸和摩爾濃度為3mol/L的氯化銅混合溶液浸泡0.5 3h,對(duì)于金屬鎳模板,可采用王水溶液浸泡0.5 3h。


以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明專利的結(jié)構(gòu)、制備方法及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進(jìn)一步說明，以充分地了解本發(fā)明專利的目的、特征和效果。其中:圖1是一種新型多功能擴(kuò)散板的結(jié)構(gòu)示意圖。其中I為擴(kuò)散板板體，2為光擴(kuò)散粒子，3為寬光譜抗反射易清潔高分子仿生納米結(jié)構(gòu)；圖2是實(shí)施例1中新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板表面的高分子納米仿生結(jié)構(gòu)的電鏡照片及該擴(kuò)散板的透射率光譜曲線圖，其中，圖2a是高分子納米仿生結(jié)構(gòu)的主視圖，圖2b是高分子納米仿生結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖；圖2c是新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板的透射率光譜曲線圖；圖3是新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板的實(shí)物照片圖。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖及若干較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)一步詳細(xì)說明，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受該等實(shí)施例限定。實(shí)施例1參閱圖1和圖2，本實(shí)施例是首先利用不同粒徑不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)的二氧化硅(SiO2)光擴(kuò)散粒子摻入聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基材中制備成光擴(kuò)散板板體，其次利用孔徑在50nm 500nm的倒錐型氧化鋁模板，通過納米熱壓法在上述制備的擴(kuò)散板板體表面制備具有不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的高分子寬光譜減反結(jié)構(gòu)，其過程為:
將聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)升溫至熔融態(tài)，然后摻入平均粒徑在200nm 500 μ m質(zhì)量分?jǐn)?shù)在2% 20%的二氧化硅光擴(kuò)散粒子(SiO2)，然后將內(nèi)部含有二氧化硅光擴(kuò)散粒子的熔融態(tài)基材經(jīng)由“押出機(jī)”擠出并冷卻成型為2mm厚的光擴(kuò)散板；然后將兩片孔徑在50nm 500nm的倒錐型氧化招模板分別至于上述制備的擴(kuò)散板的兩側(cè)并加熱至140°C,施加500kPa的壓強(qiáng)，保壓30min后，降至室溫。釋放壓力，并用40%的氫氧化鈉將氧化鋁模板去除，得到表面具有寬光譜減反納米仿生結(jié)構(gòu)的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板。由本實(shí)施例制得的一種抗反射高分子納米仿生膜如圖3所示。實(shí)施例2參閱圖1和圖2，本實(shí)施例是首先利用不同粒徑不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)的聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子摻入聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基材中制備成光擴(kuò)散板板體，其次利用孔徑在50nm 500nm的倒錐型氧化招模板,通過納米熱聚合法在上述制備的擴(kuò)散板板體表面制備具有不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的高分子寬光譜減反膜，其過程為:將聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)升溫至熔融態(tài)，然后摻入平均粒徑在200nm 500 μ m質(zhì)量分?jǐn)?shù)在2% 20%的聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子，然后將內(nèi)部含有聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子的熔融態(tài)基材經(jīng)由“押出機(jī)”擠出并冷卻成型為2mm厚的光擴(kuò)散板板體；將溶有質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%的引發(fā)劑過氧化苯甲酰(BPO)的甲基丙烯酸甲酯預(yù)聚物分別澆鑄在兩片孔徑在50nm 500nm的倒錐型氧化鋁模板上，再將上述兩片模板分別至于擴(kuò)散板板體的兩側(cè)，并施加50kPa的壓強(qiáng)并逐漸升溫至100°C聚合12h。待溫度將至室溫后，取出樣品并用40%的氫氧化鈉將氧化鋁模板去除，得到兩個(gè)表面具有寬光譜減反仿生納米結(jié)構(gòu)的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板。實(shí)施例3本實(shí)施例是首先利用不同粒徑不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)的聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子摻入聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基材 中制備成光擴(kuò)散板板體，其次利用孔徑在50nm 500nm的倒錐型金屬鎳模板，通過納米紫外聚合法在上述制備的擴(kuò)散板板體表面制備具有不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的高分子寬光譜減反納米結(jié)構(gòu)，其過程為:將聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)升溫至熔融態(tài)，然后參入平均粒徑在200nm 500 μ m質(zhì)量分?jǐn)?shù)在2% 20%的聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子，然后將內(nèi)部含有聚碳酸酯(PC)光擴(kuò)散粒子的熔融態(tài)基材經(jīng)由“押出機(jī)”擠出并冷卻成型5mm厚的光擴(kuò)散板板體；然后在孔徑在50nm 500nm的倒錐型金屬鎳模板熏蒸一層氟硅烷(FAS)單分子層，將溶有質(zhì)量分?jǐn)?shù)0.1%的光引發(fā)劑安息香醚的甲基丙烯酸甲酯預(yù)聚物分別澆鑄在兩片上述模板上，將兩片模板分別至于擴(kuò)散板板體的兩個(gè)表面上，并施加20kPa的壓強(qiáng)。用365nm的紫外光照射5min。待溫度將至室溫后，取出樣品并撕除鎳模板，得到兩個(gè)表面具有寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板。實(shí)施例4本實(shí)施例是首先利用不同粒徑不同質(zhì)量分?jǐn)?shù)的二氧化硅(SiO2)光擴(kuò)散粒子摻入聚碳酸酯(PC)基材中制備成光擴(kuò)散板板體，其次利用孔徑在50nm 500nm的倒錐型金屬鎳模板，通過溶液澆鑄法在上述制備的擴(kuò)散板板體表面制備具有不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的高分子寬光譜減反膜，其過程為:將聚碳酸酯(PC)升溫至熔融態(tài)，然后參入平均粒徑在200nm 500 μ m質(zhì)量分?jǐn)?shù)在2% 20%的二氧化硅(SiO2)光擴(kuò)散粒子，然后將內(nèi)部含有二氧化硅(SiO2)光擴(kuò)散粒子的熔融態(tài)基材經(jīng)由“押出機(jī)”擠出并冷卻成型為5mm厚的光擴(kuò)散板板體；然后在孔徑在50nm 500nm的倒錐型金屬鎳模板熏蒸一層氟娃燒(FAS)單分子層,將聚碳酸酯(PC)溶解在四氫呋喃(THF)中形成重量分?jǐn)?shù)為40%的高分子溶液。將此溶液澆鑄到前述鎳模板上，將兩片鎳模板分別至于擴(kuò)散板板體的兩個(gè)表面上，在一個(gè)大氣壓(101325Pa)，40°C下待溶劑揮發(fā)完全后撕除鎳模板，得到兩個(gè)表面具有寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的新型高透高霧度自清潔擴(kuò)散板。前述實(shí)施例1 4中所采用氧化鋁模板及金屬鎳模板的結(jié)構(gòu)及其制備工藝具體參見公開號(hào)為CN101838834.A以及申請(qǐng)?zhí)枮?01110006345.4,201110054017.1的發(fā)明專利申請(qǐng)。 經(jīng)測試發(fā)現(xiàn)，前述實(shí)施例1 4所得新型高透高霧度自清潔擴(kuò)散板具有優(yōu)越的寬光譜高透和擴(kuò)散性能，在380nm 860nm波長范圍內(nèi)平均透過率大于96%，霧度大于98%。綜上所述，只是本發(fā)明中幾種較佳的具體實(shí)施例。凡本技術(shù)領(lǐng)域中技術(shù)人員依本發(fā)明的構(gòu)思在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上做出各種相應(yīng)的改變和變形，都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于:該擴(kuò)散板板體為含有光擴(kuò)散粒子的透明高分子材料，并且擴(kuò)散板板體單面或雙面具有寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于所述光擴(kuò)散粒子的透明高分子材料選用熱塑性光學(xué)材料:聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯；或熱固性光學(xué)材料:CR-39透明環(huán)氧樹脂。
3.如權(quán)利要求1所述的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于所述光擴(kuò)散粒子的平均粒徑在200nm 500 μ m，成分為無機(jī)或有機(jī)粒子材料:氧化硅、二氧化硅、二氧化鈦、碳酸鈣、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-四氟乙烯共聚物中的一種或幾種。
4.如權(quán)利要求1所述的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于所述含有光擴(kuò)散粒子的透明高分子材料的制備方法為:在熔融狀態(tài)下的透明高分子材料中摻入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2% 20%的光擴(kuò)散粒子，熔融狀態(tài)下經(jīng)由押出機(jī)擠出冷卻成型為擴(kuò)散板。
5.如權(quán)利要求1所述的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于所述寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)是由三維漸變納米突起陣列或孔道單元陣列構(gòu)成，該三維漸變納米突起陣列或孔道結(jié)構(gòu)單元尺寸均勻，中軸線與基面垂直，尺寸自下而上逐漸變大或變小，與所述擴(kuò)散板板體接觸的底端直徑在50nm 500nm,高度為50nm 12 μ m,該仿生納米結(jié)構(gòu)的折射率從基底折射率到空氣折射率漸變。
6.如權(quán)利要求1或5所述的新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板，其特征在于所述寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的組成成分為與所述擴(kuò)散板板體同種材質(zhì)的透明高分子材料。
7.一種寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于:在具有三維漸變納米突起陣列或孔道單元陣列結(jié)構(gòu)的模板內(nèi)填充與基板同種材質(zhì)的高分子材料、高分子材料單體、高分子前軀體和高分子溶`液中的任意一種，使高分子材料填充復(fù)形或固化，經(jīng)去除模板后獲得該寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利7所述的寬光譜抗反射易清潔仿生納米結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于:所述采用的模板是指具有倒錐型納米孔洞陣列的氧化鋁模板、金屬鎳模板或含氟聚合物模板。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板及其制備方法，該新型擴(kuò)散板在保證高霧度的同時(shí)(＞98％)又具有超高的透光率(＞96％)，可大幅提升燈具的光通量，能夠在同等光通量的條件下減少燈源的使用數(shù)量和功耗。該新型高透高霧度易清潔擴(kuò)散板采用廉價(jià)的模板法制備，與普通擴(kuò)散板的制備過程兼容，具有廣闊的市場應(yīng)用前景?？蛇m用于各種光源高效均勻擴(kuò)散等應(yīng)用領(lǐng)域。如直下式光源及側(cè)光源LED照明燈具，(筒燈、格柵燈、鋁材燈、平板燈、廣告燈箱、專業(yè)觀片燈等)以及平板顯示背光源的勻光等。
文檔編號(hào)C08L33/12GK103245990SQ201210027140
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月8日
發(fā)明者高雪峰, 朱杰, 李豐, 李娟 , 陳誠, 馬慧軍 申請(qǐng)人:蘇州錦富新材料股份有限公司, 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所